JPS61265751A - 光デイスク - Google Patents
光デイスクInfo
- Publication number
- JPS61265751A JPS61265751A JP60107387A JP10738785A JPS61265751A JP S61265751 A JPS61265751 A JP S61265751A JP 60107387 A JP60107387 A JP 60107387A JP 10738785 A JP10738785 A JP 10738785A JP S61265751 A JPS61265751 A JP S61265751A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cross
- section
- center hole
- plastic substrate
- recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はディスク基板の表面に記録層を備え光学的に情
報の記録再生を行なう光ディスクに関する。
報の記録再生を行なう光ディスクに関する。
従来の技術
光ディスクは、高密度記録媒体であり記録容量に対して
コストが安価、アクセス速度が速い、転送レートが速い
等の優れた竺徴を持ち、次世代のメモリーとしてきわめ
て有用である0そしてこれらの高性能化は、記録パター
ンの微細化および、高速記録再生技術にゆだねられてい
る。これらの技術をさらに進めるためには光デイスク自
体の高精度化が大きな課題となっているOその中でも回
転軸に対するトラッキングガイド又は記録ビットの偏心
は高速回転時の記録再生能力に大きな影響を与えるもの
である。以下図面を参照しながら、従来の光ディスクの
一例について説明するO第3図は従来の光ディスクの構
造の一例を示す断面図、第4図は第3図の円Bを拡大し
た要部拡大断面図である。第3図、第4図において、1
および1′は記録層、2および2′はプラスチックス基
板、3は内周部スペーサ、4は列周部スペーサであり、
内周部スペーサ3および列周部スペーサ4を介してプラ
スチック基板2および2′が平行に接着されている0 したがって記録層1および1′は空気層を介して平行に
相対している0プラスチツク基板2および2′は熱可塑
性プラスチックス又は熱硬化性プラスチックスを射出成
形、キャスティング成形法等によシ成形されたもので断
面は、直角な金型で成形するにもかかわらず第4図に示
す様に断面中央付近が凹んだ形状になっている0これは
樹脂成形時の加熱冷却により、又、硬化時、樹脂が体積
収縮をおこすために生ずるものである。
コストが安価、アクセス速度が速い、転送レートが速い
等の優れた竺徴を持ち、次世代のメモリーとしてきわめ
て有用である0そしてこれらの高性能化は、記録パター
ンの微細化および、高速記録再生技術にゆだねられてい
る。これらの技術をさらに進めるためには光デイスク自
体の高精度化が大きな課題となっているOその中でも回
転軸に対するトラッキングガイド又は記録ビットの偏心
は高速回転時の記録再生能力に大きな影響を与えるもの
である。以下図面を参照しながら、従来の光ディスクの
一例について説明するO第3図は従来の光ディスクの構
造の一例を示す断面図、第4図は第3図の円Bを拡大し
た要部拡大断面図である。第3図、第4図において、1
および1′は記録層、2および2′はプラスチックス基
板、3は内周部スペーサ、4は列周部スペーサであり、
内周部スペーサ3および列周部スペーサ4を介してプラ
スチック基板2および2′が平行に接着されている0 したがって記録層1および1′は空気層を介して平行に
相対している0プラスチツク基板2および2′は熱可塑
性プラスチックス又は熱硬化性プラスチックスを射出成
形、キャスティング成形法等によシ成形されたもので断
面は、直角な金型で成形するにもかかわらず第4図に示
す様に断面中央付近が凹んだ形状になっている0これは
樹脂成形時の加熱冷却により、又、硬化時、樹脂が体積
収縮をおこすために生ずるものである。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記のようにディス゛り基板の断面が凹ん
でいることによって次の問題が生ずる。
でいることによって次の問題が生ずる。
ディスク基板と内周部スペーサ3がディスクの端面で接
合している0この端面部は鋭角になっているため非常に
欠けやすく、寸法も安定しにくい部分であり、トラッキ
ングガイド又は記録ビットの中心が、内周部スペーサ3
の中心とずれる確立が高い。
合している0この端面部は鋭角になっているため非常に
欠けやすく、寸法も安定しにくい部分であり、トラッキ
ングガイド又は記録ビットの中心が、内周部スペーサ3
の中心とずれる確立が高い。
これらを解決する目的で従来から、成形後中心孔をセン
タリングをしながら切削加工を施して使用する例もある
が、これは切削粉が記録膜上に付着し、記録再生時のエ
ラー率を高める原因となる。
タリングをしながら切削加工を施して使用する例もある
が、これは切削粉が記録膜上に付着し、記録再生時のエ
ラー率を高める原因となる。
また工数がかかシコストアップとなる等の欠点があった
。
。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであってその
目的はトラッキングガイド又は記録ビットの中心と回転
軸の偏心が小さい光ディスクを提供するものである。
目的はトラッキングガイド又は記録ビットの中心と回転
軸の偏心が小さい光ディスクを提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明の光ディスクは中心
孔が厚さ方向に傾斜した断面形状に成形したプラスチッ
クス基板と、プラスチックス基板の中心孔に対応する断
面が階段状を有し、階段状断面の中央角部がプラスチッ
クス基板の中心孔断面の中間に接触するようにした内周
部スペーサとのはめ合い構造としたものである0 作 用 本発明は上記の構成によってトラッキングガイド又は記
録ビットと回転軸の偏心の小さい光ディスクを提供しよ
うとするもので、ディスク成形においては断面の凹部つ
まシ、端面よりも中央部に近い程、寸法精度が高いこと
に着目しこの部分を内周部スペーサで位置規制し接着す
るようにしたものである。
孔が厚さ方向に傾斜した断面形状に成形したプラスチッ
クス基板と、プラスチックス基板の中心孔に対応する断
面が階段状を有し、階段状断面の中央角部がプラスチッ
クス基板の中心孔断面の中間に接触するようにした内周
部スペーサとのはめ合い構造としたものである0 作 用 本発明は上記の構成によってトラッキングガイド又は記
録ビットと回転軸の偏心の小さい光ディスクを提供しよ
うとするもので、ディスク成形においては断面の凹部つ
まシ、端面よりも中央部に近い程、寸法精度が高いこと
に着目しこの部分を内周部スペーサで位置規制し接着す
るようにしたものである。
実施例
以下本発明の一実施例の光ディスクについて図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
第1図は本発明の一実施例における光ディスクの中央部
断面を、第2図はその要部拡大断面を示すもので、第2
因は第1図の円Aを拡大したものである。第1図、第2
図において1および1′は記録層、4は列周部スペーサ
、6および6′はインジェクション法によって作製され
たポリカーボネート製の基板であり、中心孔の断面は第
1図に示したように傾斜を有する0この傾斜面を成形す
る金型部分は直線であるが成形品の断面は凹んでいる。
断面を、第2図はその要部拡大断面を示すもので、第2
因は第1図の円Aを拡大したものである。第1図、第2
図において1および1′は記録層、4は列周部スペーサ
、6および6′はインジェクション法によって作製され
たポリカーボネート製の基板であり、中心孔の断面は第
1図に示したように傾斜を有する0この傾斜面を成形す
る金型部分は直線であるが成形品の断面は凹んでいる。
この凹み量は成形条件により変化するが0.04〜0.
08mmである。しかし凹みの中央部分の直径は設定値
に対して±0.02mm以内で安定している。
08mmである。しかし凹みの中央部分の直径は設定値
に対して±0.02mm以内で安定している。
このことからディスク端面で位置規制を行なうよりもこ
の精度の高い中央部を利用して位置規制をすることによ
り回転軸に対する偏心の小さい光ディスクを作製するこ
とができるものである。6は上記凹みの部分で位置規制
をするために階段状とし、中央の角部7のみが基板と接
触するようになっている、また、この構成において生ず
る空隙8および9の部分は接着の時に接着剤が流れ出さ
ないようにする効果があり全体の接着強度も向上する。
の精度の高い中央部を利用して位置規制をすることによ
り回転軸に対する偏心の小さい光ディスクを作製するこ
とができるものである。6は上記凹みの部分で位置規制
をするために階段状とし、中央の角部7のみが基板と接
触するようになっている、また、この構成において生ず
る空隙8および9の部分は接着の時に接着剤が流れ出さ
ないようにする効果があり全体の接着強度も向上する。
なお、本実施例ではプラスチックス基板にポリカーボネ
ートを用いたが、アクリル、不飽和ポリエステル、エポ
キシアクリレート等、光ディスクに用いられるプラスチ
ックスであれば同様の効果を有するものである。
ートを用いたが、アクリル、不飽和ポリエステル、エポ
キシアクリレート等、光ディスクに用いられるプラスチ
ックスであれば同様の効果を有するものである。
発明の効果
以上のように本発明は、中心孔が厚さ方向に傾斜した断
面形状に成形されたプラスチックス基板と、プラスチッ
クス基板の中心孔に対応する断面が階段状とし階段状断
面の中央角部が、プラスチックス基板の中心孔断面の中
間に接触するようにした内周部スペーサとのはめ合い構
造としたことによりプラスチックス基板に形成したトラ
ッキングガイド又は記録ビットの中心と回転軸の偏心の
小さい光ディスクを得ることができる。
面形状に成形されたプラスチックス基板と、プラスチッ
クス基板の中心孔に対応する断面が階段状とし階段状断
面の中央角部が、プラスチックス基板の中心孔断面の中
間に接触するようにした内周部スペーサとのはめ合い構
造としたことによりプラスチックス基板に形成したトラ
ッキングガイド又は記録ビットの中心と回転軸の偏心の
小さい光ディスクを得ることができる。
第1図は本発明の一実施例における光ディスクの断面図
、第2図は同要部拡大断面図、第3図は従来の光ディス
クの断面図、第4図は同要部拡大断面図である。 1.1′・・・・・・記録層、4・・・・・・列周部ス
ペーサ、6.6′・・・・・・プラスチックス基板、6
・・・・・・内周部スペーサ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名/、
/’・・・訪@漕 第2図 第4図
、第2図は同要部拡大断面図、第3図は従来の光ディス
クの断面図、第4図は同要部拡大断面図である。 1.1′・・・・・・記録層、4・・・・・・列周部ス
ペーサ、6.6′・・・・・・プラスチックス基板、6
・・・・・・内周部スペーサ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名/、
/’・・・訪@漕 第2図 第4図
Claims (1)
- 片面に記録層とトラッキングガイドを有する2枚のディ
スク状プラスチックス基板を内周部と列周部にリング状
スペーサを介してトラッキングガイド面が相対向するよ
うに空間を形成させるエアーサンドイッチ構造を有し、
中心孔が厚さ方向に傾斜した断面形状に成形された上記
プラスチックス基板と、プラスチックス基板の中心孔に
対応する断面が階段状を有し、階段状断面の中央角部が
プラスチックス基板の中心孔断面の中間に接触するよう
にした内周部スペーサとのはめ合い構造としたことを特
徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60107387A JPH0644361B2 (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 光デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60107387A JPH0644361B2 (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 光デイスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61265751A true JPS61265751A (ja) | 1986-11-25 |
| JPH0644361B2 JPH0644361B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=14457839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60107387A Expired - Lifetime JPH0644361B2 (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 光デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644361B2 (ja) |
-
1985
- 1985-05-20 JP JP60107387A patent/JPH0644361B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0644361B2 (ja) | 1994-06-08 |
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