JPS62119730A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS62119730A JPS62119730A JP60259564A JP25956485A JPS62119730A JP S62119730 A JPS62119730 A JP S62119730A JP 60259564 A JP60259564 A JP 60259564A JP 25956485 A JP25956485 A JP 25956485A JP S62119730 A JPS62119730 A JP S62119730A
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- JP
- Japan
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- base
- disk
- magnetic disk
- magnetic
- inner hole
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/0025—Preventing defects on the moulded article, e.g. weld lines, shrinkage marks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/26—Moulds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/0046—Details relating to the filling pattern or flow paths or flow characteristics of moulding material in the mould cavity
- B29C2045/0049—Details relating to the filling pattern or flow paths or flow characteristics of moulding material in the mould cavity the injected material flowing against a mould cavity protruding part
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は円盤状の剛性基盤表面にフレキシブル磁気シー
トを貼付してなる磁気記録用ディスクの製造方法に関す
るものである。
トを貼付してなる磁気記録用ディスクの製造方法に関す
るものである。
（従来技術）
従来から用いられている磁気ディスクの１つとしてリジ
ッド磁気ディスクがあり、このリジッド磁気ディスクは
アルミニウム（例えばＪＩＳ Ａ３０８６）の円盤を
基盤として用い、この基盤表面に磁性層を設けて作られ
ている。このリジッド磁気ディスクの製造に際して、基
盤は旋盤による旋削の後、表面が研磨され、次いでこの
研磨復の基盤表面に蒸着、スピン塗布等によって磁性層
を設けて作られる。
ッド磁気ディスクがあり、このリジッド磁気ディスクは
アルミニウム（例えばＪＩＳ Ａ３０８６）の円盤を
基盤として用い、この基盤表面に磁性層を設けて作られ
ている。このリジッド磁気ディスクの製造に際して、基
盤は旋盤による旋削の後、表面が研磨され、次いでこの
研磨復の基盤表面に蒸着、スピン塗布等によって磁性層
を設けて作られる。
この場合、記録・再生用のヘッドとディスク表面の間隙
を小さくし、高密度記録・再生を行なわせるためには、
ディスクの表面粗さは平滑Ｃある程好ましい。しかしな
がら、アルミニウム盤を用いたディスクの場合には、中
心線平均粗さＲａが０．１μｍ以下の表面を得ることは
困難であった。
を小さくし、高密度記録・再生を行なわせるためには、
ディスクの表面粗さは平滑Ｃある程好ましい。しかしな
がら、アルミニウム盤を用いたディスクの場合には、中
心線平均粗さＲａが０．１μｍ以下の表面を得ることは
困難であった。
さらに、基盤が柔軟性を欠くため、磁性層を設（ブる際
、ウェブに連続して塗布ができない等の制約を受け、ざ
らに、高密度記録にとって表面に付着するごみの影響が
犬ぎいため、ごみが付着せぬようディスクを作らね（シ
ならず、手間のかかる製造工程をより面倒且つ複雑で、
多大な設備投資を必要とするものにしていた。
、ウェブに連続して塗布ができない等の制約を受け、ざ
らに、高密度記録にとって表面に付着するごみの影響が
犬ぎいため、ごみが付着せぬようディスクを作らね（シ
ならず、手間のかかる製造工程をより面倒且つ複雑で、
多大な設備投資を必要とするものにしていた。
又、アルミニウムに代表されるように従来の基盤はリジ
ッドであるため柔軟性がなく、ヘッドはディスクの磁性
層上を一定の狭い間隙を有して非接触のままトレースす
るようにする必要があるが、この狭い間隙を一定に持続
するのが一因難である。
ッドであるため柔軟性がなく、ヘッドはディスクの磁性
層上を一定の狭い間隙を有して非接触のままトレースす
るようにする必要があるが、この狭い間隙を一定に持続
するのが一因難である。
又、今後は記録密度を上げるため上記ヘッドとディスク
との間隙を更に小さくすることも要求されるが、この間
隙を小さくすることは従来のリジッド磁性ディスクでは
極めて困難であった。すなわち、この間隙が狭いままヘ
ッドのトレースを行なわせ、ヘッドがディスク表面に接
触するようなことが起こると、基盤がリジッドなため、
ヘッドが接触した磁性層表面に大きな衝撃力が集中し、
表面破壊が発生してディスクの寿命を短いものとしてい
た。
との間隙を更に小さくすることも要求されるが、この間
隙を小さくすることは従来のリジッド磁性ディスクでは
極めて困難であった。すなわち、この間隙が狭いままヘ
ッドのトレースを行なわせ、ヘッドがディスク表面に接
触するようなことが起こると、基盤がリジッドなため、
ヘッドが接触した磁性層表面に大きな衝撃力が集中し、
表面破壊が発生してディスクの寿命を短いものとしてい
た。
ざらに、上記の如き研磨したアルミニウム基盤自体が高
価であるという欠点があった。
価であるという欠点があった。
これに対して、最近、第４図に示すように、ディスク基
５Ｉ！？５１の両面に凹部５４を設け、片面に磁性層を
有する一フロッピーディスク又はフレキシブル磁気シー
ト（以下、フレキシブル磁気シートと称する）５２を磁
性層を表面として基盤５１の両面に貼り合わせ、フレキ
シブル磁気シート５２の裏面と基盤５１との間に間隙５
３を持たせた磁気ディスクが提案されている。
５Ｉ！？５１の両面に凹部５４を設け、片面に磁性層を
有する一フロッピーディスク又はフレキシブル磁気シー
ト（以下、フレキシブル磁気シートと称する）５２を磁
性層を表面として基盤５１の両面に貼り合わせ、フレキ
シブル磁気シート５２の裏面と基盤５１との間に間隙５
３を持たせた磁気ディスクが提案されている。
このタイプの磁気ディスクは磁気記録面が柔軟性を持つ
ため、ヘッドが磁気記録面に接触した場合や、更に高密
度記録を行なわせるためにヘッドと磁気記録面とを接触
させた場合であっても、リジッドディスクのような基盤
の破壊は起こりにくい。また、フレキシブル磁気シート
の技術がそのまま応用でき、表面が平滑で■つ耐久性の
ある磁性層を磁気ディスク用の磁性層として用いること
ができるので、従来のリジッド磁気ディスクの欠点を解
消できるものとして注目されている。
ため、ヘッドが磁気記録面に接触した場合や、更に高密
度記録を行なわせるためにヘッドと磁気記録面とを接触
させた場合であっても、リジッドディスクのような基盤
の破壊は起こりにくい。また、フレキシブル磁気シート
の技術がそのまま応用でき、表面が平滑で■つ耐久性の
ある磁性層を磁気ディスク用の磁性層として用いること
ができるので、従来のリジッド磁気ディスクの欠点を解
消できるものとして注目されている。
このような磁気ディスクの場合には、フレキシブル磁気
シート５２の平面精度は高いことが要求されるが、基盤
５１の寸法精度等は、従来のアルミニウム基盤程の高精
度は必要ないため、この基盤をプラスチック材料等の射
出成型により作り、生産性を向上させることができる。
シート５２の平面精度は高いことが要求されるが、基盤
５１の寸法精度等は、従来のアルミニウム基盤程の高精
度は必要ないため、この基盤をプラスチック材料等の射
出成型により作り、生産性を向上させることができる。
基盤を射出成型する場合には、射出後の基盤に異方性を
生じさせないように、基盤の中心部にランナー・スプー
ル部を設け、材料を金型内において該中心部から半径方
向外方へ送り込んで成型するのが一般的であるが、基盤
には磁気ディスクを回転駆動させる軸が嵌合する内孔が
必要であり、このため射出成型後にこのＮ盤を機械加工
してこの内孔を形成する必要がある。
生じさせないように、基盤の中心部にランナー・スプー
ル部を設け、材料を金型内において該中心部から半径方
向外方へ送り込んで成型するのが一般的であるが、基盤
には磁気ディスクを回転駆動させる軸が嵌合する内孔が
必要であり、このため射出成型後にこのＮ盤を機械加工
してこの内孔を形成する必要がある。
このようにして基盤を製造ザると、射出成型工程と内孔
の機械加工工程との２つの工程を必要とするため製造上
手間がかかるものとなっている。
の機械加工工程との２つの工程を必要とするため製造上
手間がかかるものとなっている。
このため、上記内孔も射出成型により形成し、機械加工
工程を省略することも考えられる。内孔を有する円盤を
射出成型するには、射出成型後の円盤に異方性が生じな
いように、第５図に示すように内孔５５の近傍に等間隔
で複数（本例では３か所）のピンゲート５６ａ、５６ｂ
、５６ｃを設けて射出成型する。
工程を省略することも考えられる。内孔を有する円盤を
射出成型するには、射出成型後の円盤に異方性が生じな
いように、第５図に示すように内孔５５の近傍に等間隔
で複数（本例では３か所）のピンゲート５６ａ、５６ｂ
、５６ｃを設けて射出成型する。
このようにして、射出成型すると各ピンゲート５６ａ、
５６ｂ、５６ｃｍから射出された樹脂は図中矢印で示す
ようにして扇形状に広がる。このため、各ピンゲートか
らの樹脂流が出会う所にウェルドライン５７ａ、５７ｂ
、５７ｃが形成され、このようにして成型された基盤５
１はウェルドライン５７ａ、５７ｂ、５７ｃの部分にお
いてひずみが生じ易く、かつこの部分での強度が低下し
易いという問題がある。
５６ｂ、５６ｃｍから射出された樹脂は図中矢印で示す
ようにして扇形状に広がる。このため、各ピンゲートか
らの樹脂流が出会う所にウェルドライン５７ａ、５７ｂ
、５７ｃが形成され、このようにして成型された基盤５
１はウェルドライン５７ａ、５７ｂ、５７ｃの部分にお
いてひずみが生じ易く、かつこの部分での強度が低下し
易いという問題がある。
（発明の目的）
本発明はこのような問題に鑑みたもので、内孔を有する
円盤状の基盤をウェルドラインを生ぜしめることなく射
出成型できるようにして、生産性の良い磁気ディスクの
製造方法を提供することを目的とするものである。
円盤状の基盤をウェルドラインを生ぜしめることなく射
出成型できるようにして、生産性の良い磁気ディスクの
製造方法を提供することを目的とするものである。
（発明の構成）
本発明の製造方法は、所定径の内孔を有する円盤状の基
盤を射出成型し、且つ、この基盤の少なくとも一方の面
の外周部と内周部との間に環状の凹部を形成し、この外
周部および内周部においてフレキシブル磁気シートを接
着してこのシートを上記一方の面に貼付してなる磁気デ
ィスクの製造方法であり、 基盤の内孔近傍に射出成型用ピンゲートを設けるととも
に、このピンゲートの近傍外周におけるＭ盤上に上記内
孔と同心円状の環状溝を設けて、ピンゲートから射出流
入された樹脂材料をまず環状溝の内周側に充填させ１次
いで外周側へ流入させてこの樹脂材料が半径方向外方へ
均一に流出するようになし、ウェルドラインを生ぜしめ
ることなく基盤の射出成型ができるようにしたことを特
徴とするものである。
盤を射出成型し、且つ、この基盤の少なくとも一方の面
の外周部と内周部との間に環状の凹部を形成し、この外
周部および内周部においてフレキシブル磁気シートを接
着してこのシートを上記一方の面に貼付してなる磁気デ
ィスクの製造方法であり、 基盤の内孔近傍に射出成型用ピンゲートを設けるととも
に、このピンゲートの近傍外周におけるＭ盤上に上記内
孔と同心円状の環状溝を設けて、ピンゲートから射出流
入された樹脂材料をまず環状溝の内周側に充填させ１次
いで外周側へ流入させてこの樹脂材料が半径方向外方へ
均一に流出するようになし、ウェルドラインを生ぜしめ
ることなく基盤の射出成型ができるようにしたことを特
徴とするものである。
（実施例）
以下図面により、本発明の好ましい実施例について説明
する。
する。
第１図は本発明に係る磁気ディスク１０の使用状態を示
し、外部からのホコリ・ゴミ等の侵入を防止したケース
４内に、ディスクドライブ機構２および記録・読取装置
３が配されている。ディスクドライブ機構２の駆動軸２
ａと嵌合して磁気ディスク１０が取り付けられ、ディス
クドライブ機１２により磁気ディスク１０は高速回転（
例えば、３６００ｒ。
し、外部からのホコリ・ゴミ等の侵入を防止したケース
４内に、ディスクドライブ機構２および記録・読取装置
３が配されている。ディスクドライブ機構２の駆動軸２
ａと嵌合して磁気ディスク１０が取り付けられ、ディス
クドライブ機１２により磁気ディスク１０は高速回転（
例えば、３６００ｒ。
ｐ、ｍ、）され−る。一方、磁気ディスク１０の表裏両
面に対向して記録・読取装置３のヘッド３ａ、 ３ｂが
配されており、磁気ディスク１０の高速回転により生じ
る空気流によりヘッド３ａ、 ３ｂは磁気ディスク１０
の表面から掻く微少の間隙（０９ＯＳ〜０．１５μｍ程
度）を有して該表面上をトレースし、記録・読取りを行
なうようになっている。
面に対向して記録・読取装置３のヘッド３ａ、 ３ｂが
配されており、磁気ディスク１０の高速回転により生じ
る空気流によりヘッド３ａ、 ３ｂは磁気ディスク１０
の表面から掻く微少の間隙（０９ＯＳ〜０．１５μｍ程
度）を有して該表面上をトレースし、記録・読取りを行
なうようになっている。
この磁気ディスク１０は、所定径の内孔２２を有する円
盤状のＭ盤２１の表面に基盤２１とほぼ同形状のフレキ
シブル磁気シート １１．１２を貼付してなる。
盤状のＭ盤２１の表面に基盤２１とほぼ同形状のフレキ
シブル磁気シート １１．１２を貼付してなる。
この基盤２１はプラスチック材料を射出成型して作られ
るのであるが、その製造方法を第２図および第３図によ
り説明する。
るのであるが、その製造方法を第２図および第３図によ
り説明する。
ｆ１１気ヘッドのアームの材質はアルミニウムが使われ
ることおよび従来のアルミニウム製基盤との互換性が要
求されることから、基盤２０の材料としては樹脂材料に
各種のフィラーを混入して熱膨張率をアルミニウムの値
に近くしたものが用いられる。この材料を、基盤２１の
内孔２２の近傍において射出成型用金型上に等間隔で配
された３か所のピンゲート２３ａ、２３ｂ、２３ｃから
金型内へ射出して、図示のような基盤２１を成型する。
ることおよび従来のアルミニウム製基盤との互換性が要
求されることから、基盤２０の材料としては樹脂材料に
各種のフィラーを混入して熱膨張率をアルミニウムの値
に近くしたものが用いられる。この材料を、基盤２１の
内孔２２の近傍において射出成型用金型上に等間隔で配
された３か所のピンゲート２３ａ、２３ｂ、２３ｃから
金型内へ射出して、図示のような基盤２１を成型する。
このとき、基盤２１の表および裏面にはピンゲート２３
ａ、２３ｂ、２３ｃの外周近傍に位置し半径方向に交互
にずれた内孔と同心円状の環状溝２４．２５が形成され
るようになっている。このため、この環状溝２４．２５
の部分には金型が突出している。このような金型によっ
て射出成型するためピンゲート２３ａ、２３ｂ、２３ｃ
から金型内に射出された樹脂は、環状溝２４を作るため
に突出した金型の部分に邪魔されて半径方向外方へ流出
しにくいため、ます内孔２２と環状溝２４とに挟まれた
部分に充満し、次いで環状溝２４．２５によって狭めら
れたすき間２４ａ、２５ａを通って半径方向外方へ流れ
出す。このようにすると、内孔２２と環状溝２４とに挟
まれた部分からすき間２４ａ、２５ａを通って流れ出す
樹脂はピンゲート２３ａ、２３ｂ、２３ｃの位置に拘ら
ず、全周にわたってほぼ均一に半径方向外方へ流れ出す
ため、第５図に示したようなウェルドラインが生ずるこ
ともない。
ａ、２３ｂ、２３ｃの外周近傍に位置し半径方向に交互
にずれた内孔と同心円状の環状溝２４．２５が形成され
るようになっている。このため、この環状溝２４．２５
の部分には金型が突出している。このような金型によっ
て射出成型するためピンゲート２３ａ、２３ｂ、２３ｃ
から金型内に射出された樹脂は、環状溝２４を作るため
に突出した金型の部分に邪魔されて半径方向外方へ流出
しにくいため、ます内孔２２と環状溝２４とに挟まれた
部分に充満し、次いで環状溝２４．２５によって狭めら
れたすき間２４ａ、２５ａを通って半径方向外方へ流れ
出す。このようにすると、内孔２２と環状溝２４とに挟
まれた部分からすき間２４ａ、２５ａを通って流れ出す
樹脂はピンゲート２３ａ、２３ｂ、２３ｃの位置に拘ら
ず、全周にわたってほぼ均一に半径方向外方へ流れ出す
ため、第５図に示したようなウェルドラインが生ずるこ
ともない。
なお、本例ではピンゲートを内孔の近傍に等間隔で３か
所−に設けた例を示したが、ピンゲートの数はこれに限
らず２か所でもよいし、さらに多くの箇所に設けてもよ
い。また、環状溝の数も、一方の面に１つだけ設けても
よく、さらに多くの１なを設けてもよい。
所−に設けた例を示したが、ピンゲートの数はこれに限
らず２か所でもよいし、さらに多くの箇所に設けてもよ
い。また、環状溝の数も、一方の面に１つだけ設けても
よく、さらに多くの１なを設けてもよい。
また、フレキシブル磁気シートとの間に間隙を作るため
の環状の凹部２６ａ、２６ｂは射出成型により形成せし
めるのが好ましい。
の環状の凹部２６ａ、２６ｂは射出成型により形成せし
めるのが好ましい。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明によれば、基盤の内孔近傍
にピンゲートを設けるとともに、ピンゲートの外周近傍
に環状溝を設け、ピンゲートを介して射出された樹脂材
料を環状溝の内周側に充填させた後に外周側へ流出させ
るようにしているので、 外周側への樹脂材料の流出を環状溝の全周にわたって均
一に行なわせることができ、射出成型後の！Ｊ盤にウェ
ルドラインが生じることを防止することができる。
にピンゲートを設けるとともに、ピンゲートの外周近傍
に環状溝を設け、ピンゲートを介して射出された樹脂材
料を環状溝の内周側に充填させた後に外周側へ流出させ
るようにしているので、 外周側への樹脂材料の流出を環状溝の全周にわたって均
一に行なわせることができ、射出成型後の！Ｊ盤にウェ
ルドラインが生じることを防止することができる。
第１図は本発明に係る磁気ディスクを記録・読取装置に
装着した状態を示す断面図、 第２図は上記磁気ディスクの基盤を示す斜視図、第３図
は上記基盤の部分断面図、 第４図は従来の磁気ディスクを示す断面図、第５図は従
来の磁気ディスク用基盤を示す斜視図である。 ２・・・ディスクドライブ機構 ３ａ、３ｂ・・・ヘッド １０・・・磁気ディス
ク１１．１２・・・フレキシブル磁気シート２１・・・
基盤 ２２・・・内孔２４．２５・・・環
状溝 第１図 ｕ％、 ２図 第３図 ビコ
装着した状態を示す断面図、 第２図は上記磁気ディスクの基盤を示す斜視図、第３図
は上記基盤の部分断面図、 第４図は従来の磁気ディスクを示す断面図、第５図は従
来の磁気ディスク用基盤を示す斜視図である。 ２・・・ディスクドライブ機構 ３ａ、３ｂ・・・ヘッド １０・・・磁気ディス
ク１１．１２・・・フレキシブル磁気シート２１・・・
基盤 ２２・・・内孔２４．２５・・・環
状溝 第１図 ｕ％、 ２図 第３図 ビコ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）所定径の内孔を有する円盤状の基盤の少なくとも一
方の面における外周部と内周部との間に環状の凹部を形
成し、環状のフレキシブル磁気シートを上記外周部と内
周部において接着して、該シートを上記少なくとも一方
の面に貼付してなる磁気ディスクの製造方法であつて、 上記基盤の上記内孔近傍に射出成型用ピンゲートを設け
るとともに該ピンゲートの近傍外周における上記基盤上
に上記内孔と同心円状の環状溝を設け、上記ピンゲート
より流入された射出成型用樹脂材料を該環状溝の内周側
を充填した後に該環状溝の外周側へ流出させて上記基盤
を射出成型することを特徴とする磁気ディスクの製造方
法。 ２）上記環状溝が上記基盤の両面に少なくとも１つずつ
半径方向交互にずれて設けられていることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60259564A JPS62119730A (ja) | 1985-11-19 | 1985-11-19 | 磁気デイスクの製造方法 |
| US06/931,937 US4781879A (en) | 1985-11-19 | 1986-11-18 | Method of making a magnetic recording disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60259564A JPS62119730A (ja) | 1985-11-19 | 1985-11-19 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62119730A true JPS62119730A (ja) | 1987-06-01 |
| JPH0560170B2 JPH0560170B2 (ja) | 1993-09-01 |
Family
ID=17335875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60259564A Granted JPS62119730A (ja) | 1985-11-19 | 1985-11-19 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4781879A (ja) |
| JP (1) | JPS62119730A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01217780A (ja) * | 1988-02-25 | 1989-08-31 | Hitachi Maxell Ltd | デイスクカートリツジ |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5254306A (en) * | 1990-10-29 | 1993-10-19 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Method for making a double layer molded product using a dam in the mold cavity |
| SE505730C2 (sv) * | 1994-03-31 | 1997-10-06 | Volvo Ab | Mekanism för låsning av en lucka samt förfarande för tillverkning av mekanismen |
| JP2887832B2 (ja) * | 1994-04-15 | 1999-05-10 | 株式会社ニフコ | スピーカーグリル及びその成形方法 |
| US5688462A (en) * | 1995-07-28 | 1997-11-18 | The Dow Chemical Company | In-runner polymer melt mixer |
| US5920943A (en) * | 1995-08-17 | 1999-07-13 | The Wooster Brush Company | Paint brush with co-injection molded handle and method of making same |
| JP3042977B2 (ja) * | 1995-10-26 | 2000-05-22 | 株式会社名機製作所 | 貼り合わせ型ディスクとその製造方法およびディスク成形装置 |
| JPH09155986A (ja) * | 1995-12-05 | 1997-06-17 | Meiki Co Ltd | 貼り合わせディスクおよびその製造装置ならびにその製造方法 |
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