JPS61290401A - 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は合成樹脂製の光学部品上に形成した反射防止膜
に関するものである。

［従来の技術］ 従来１合成樹脂製の光学部品（例えば、アクリル樹脂、
屈折率ｎ　＝　１．４９）上に常温（該部品の強制加熱
なし）で蒸着により形成したＭｇＦ２反射防止膜（屈折
率ｎ　＝　１３８）がある、この反射防止膜の分光反射
特性は、第３図の曲線Ｂで示すように、ｎｄ＝入／４（
入＝８００ｍｍ　）　テ最低反射率が１．４Ｈ−１１’
ある。

また、ＭｇＦ２の代りにＺｒ（ｈ　（屈折率ｎ　＝　１
．１３５．常温、λ＝　８００ｎｍ　）膜と、Ｓ　１０
２（屈折率ｎ　＝　１．４７゜常温、入＝　８００ｎ鳳
）膜との二層よりなる反射防止膜が知られている。この
反射防止膜の分光反射特性は、第３図の曲線Ｃで示すよ
うに最低反射率が０．７ｚである。

［発明が解決しようとする問題憶］ 合成樹脂製光学部品上に単層のＭｇＦ２反射防止膜を常
温で真空蒸着により形成する場合、光学部品の形状精度
は十分に維持することができるが、分光反射率が約１．
５ｚと高く、また耐擦傷性が低く、洗浄布でこすると膜
表面に傷が生ずるので耐久性が十分でない。

これに対し、分光反射率と耐久性を向上させるために、
光学部品上に常温での真空蒸着により第１層としてＺｒ
Ｏ２膜、第２層としてＳ　ｉ０２膜よりなる二層反射防
止膜を形成すると、膜形成後ブラックが発生し、また光
学部品の形状精度が輻射熱や膜にかかる応力によりくず
れがちである。

従って、本発明の目的は上述した従来技術の諸欠点を解
消し１分光反射率が低く（すなわち透過率の良い）１表
面耐擦傷に優れ、さらに密着性の向上した合成樹ｗｆｉ
製光学部品の反射防止膜を提供せんとするにある。

［問題点を解決する手段および作用］ すなわち、本発明は合成樹脂製の光学部品の表面上に形
成したＳｉ被膜と、該被膜上に形成したＳ　ｉ０２被膜
とよりなる反射防止膜にある。

Ｓｉ被膜は高真空蒸着により直接光学部品上に形成され
、波長（入）＝８００ｎ層でほとんど吸収作用がなく、
且つ、１．８８の屈折率を有するので反射防止膜の元を
なし、一方、Ｓ　ｉ０２被膜は高周波イオンブレーティ
ングによりＳｉ被膜上に形成され、入＝８００ｎｍで吸
収のない１．４７の屈折率と耐擦傷性を有するので、反
射防止膜の基本特性を付与し、擦傷防止の作用をなす。

光学部品を形成する合成樹脂としては、アクリル樹脂、
ポリカーボネート（ＰＣ）、ジエチレングリコールビス
アリルカーボネート、アクリロントリル・スチレン共重
合体（Ａｓ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリサル７オン
等がある。

次に本発明を図面につき説明する。

第１図は光学部品上に形成した本発明に係る反射防止膜
の構成を示す概念図で、図中１は合成樹脂製光学部品、
たとえばアクリル樹脂レンズ、２は該部品上に真空蒸着
により形成したＳｉ被膜、３は反応性高周波イオンブレ
ーティングにより形成したＳ　ｉ０２被膜である。

本発明に係る反射防止膜は第２図に示す装置を用いて次
の様にして製造される。まず、Ｓｉを大気圧下真空チャ
ンバー１０内の電子銃用カーポンプラファイト製ハース
ライナ−１１に入れ、　Ｓｉｎを抵抗加熱用溶融ポート
１２に入れる。

他方、アクリル樹脂レンズ１４を回転ドーム１４に取付
ける０次いで、真空チャンバーｌθ内を真空排気系１５
により１〜２　Ｘ　１０−５Ｔｏｒｒ以上の真空度に達
するまで排気する。所定の真空度に達すると、Ｓｉを常
温で電子銃の作動によりハースライナ−１１内で溶融蒸
発させ、２〜３久／ｐｅｃの蒸着速度でレン゛ズ１４の
表面に高真空蒸着させて機械的な膜厚ｄ−Ｚｏｏ〜２０
０又のＳｉ被膜を形成する。しかる後、０２ガスをガス
導入バルブ１６から真空チャンバー内に１〜２　Ｘ　１
０−’Ｔａｒｔに達するまで導入し、高周波電極に１０
０〜３００Ｗの高周波電力を印加する。生成した高周波
プラズマ雰囲気中で溶融ポー）１２内のＳｉＯをＳｉ被
膜上に蒸着してｎｄ＝入ハ（λ−８０Ｏｎ膚）の５ｉ０
２被膜を形成する。蒸着処理の終了後、１０分間徐冷し
、真空チャンバー内を大気圧にし、該チャンバーから所
望の反射防止膜を具えたレンズを取り出す。

［実施例］ 本例では、光学部品としてアクリル樹脂レンズを用い、
これに第２図に示す装置を用いて第１層目のＳｉ被膜と
、第２層目の５ｉＯｚ被膜とよりなる反射防止膜を形成
した。この反射防止膜は第３図の曲ｆｆ１Ａに示すよう
な分光反射特性を有し、波長（入）　＝　７５０〜８５
０ｎ曹で０．５ｚ以下の反射率を示した。

尚、Ｓ　ｉ０２被膜を形成する前のＳｉ被膜の分光特性
を測定したところ、第４図に示す結果が得られた０曲線
ａは分光反射率、曲線すは分光透過率を示す、第４図か
ら、Ｓｉ被膜が波長（入）　−７５０〜８００ｎ■でほ
とんど吸収作用のないことが分る。従って、かかる波長
域ではＳｉ被膜を反射防止膜として使用し得ることが明
らかである。

次に、Ｓｉ被膜と５ｉ０２被膜との二層構造よりなる反
射防止膜のアクリル樹脂レンズへの密着性および耐擦傷
性を下記の方法で評価して次表に示すような結果を得た
。比較のため、従来法により形成したＭｇＦ２被膜並び
にＺ　ｒＯｚとＳ　ｉ０２との二層被膜も同様の評価を
行った。

密着性は、’１１８ｍｍのセロテープを反射防止膜には
りつけ、セロテープの一端を４５°の角度から瞬時に引
き剥して被膜の剥離状態を観察することにより評価した
。

耐擦傷性は１反射防止膜の表面を洗浄布で往復１０回こ
すって傷の発生を観察することにより評価した。尚、Ｊ
ＩＳ　　Ｋ−５４００に従って鉛筆硬度試験を行って各
被膜の鉛筆硬度を評価した。

［発明の効果］ 上述した如く１本発明によれば、Ｓｉ被膜を極めて薄い
膜として入＝　８００ｍｍでの反射率を約１０％と大き
くとれ、吸収もほとんどなく、その上にＳｉＯの反応性
高周波イオンブレーティングにより５ｉＯｚ被膜を形成
するので、光学特性の再現性、密着性および耐擦傷性に
すぐれた二層構造の反射防止膜の形成が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る合成樹脂製光学部品上に形成した
反射防止膜の一例を示す線図的断面図。 第２図は本発明に係る反射防止膜を形成するのに用いる
装置の一例を示す線図、第３図は本発明および従来例の
反射防止膜の分光反射特性図、第４図は５ｉ０２被膜形
成前のＳｉ被膜の分光特性図である。 １・・・光学部品 ２・・・Ｓｉ被膜 ３・・・Ｓ　ｉｏ２被膜 １０・・・真空チャンバー １１・・・ハースライナ− １２・・・溶融ポート １３・・・光学部品 １４・・・回転ドーム １５・・・真空排気系 １６・・・ガス導入バルブ １７・・・高周波電極 特許出願人　　オリンパス光学工業株式会社代理人　弁
理士　　奈　　　良　　　　　　　武■１合成樹脂製光
学部品 ２．３ｉ被膜 ３．８Ｉ０２被膜 第２図 派　長（ｎｍ１ 手続補正書（自発） 昭和６０年１１月５日 昭和６０年　特　許　願　第１３２６０１号２、発明の
名称 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 住　所　　東京都渋谷区幡ケ谷２丁目４３番２号名　称
　　（０３７）オリンパス光学工業株式会社代表者　　
　下　山　斂　部 ４、代　理　人 ７補ｌＩ：の内容 （１）　　明細書第５頁第３行］」及び同頁第９行目に
記載する［レンズ１４Ｊを「レンズ１３」と補ＩＦする
。 （２）　　ＩＪＩＩ細占第５頁第７行目に記載する「電
子銃の」を「電−ｒ−銃１８の」と補正する。 （３）図面中温２図を別紙の通り補正する。 ８添附、Ｉｔ類の目録 （１）補正図面　　　　　　　　　　１　　通第２図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）合成樹脂製の光学部品の表面上に形成したＳｉ被
   膜と、該被膜上に形成したＳｉＯ＿２被膜とよりなる合
   成樹脂製光学部品の反射防止膜。
2. （２）Ｓｉ被膜を真空蒸着により、またＳｉＯ＿２被膜
   を反応性高周波イオンブレーティングによりそれぞれ形
   成した特許請求の範囲第１記載の反射防止膜。
3. （３）合成樹脂はアクリル樹脂、ポリカーボネート、ジ
   エチレングリコールビスアリルカーボネート、アクリロ
   ニトリル、スチレン共重合体、ポリスチレンおよびポリ
   サルフォンから選択したものである特許請求の範囲第１
   項記載の反射防止膜。