JPS6130657B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6130657B2 JPS6130657B2 JP54126760A JP12676079A JPS6130657B2 JP S6130657 B2 JPS6130657 B2 JP S6130657B2 JP 54126760 A JP54126760 A JP 54126760A JP 12676079 A JP12676079 A JP 12676079A JP S6130657 B2 JPS6130657 B2 JP S6130657B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- indole
- catalyst
- reaction
- hydroxyethylaniline
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Indole Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、インドールまたはインドール誘導体
の製造法に関するものである。さらに詳細には、
Ｎ−β−ヒドロキシエチルアニリンまたはその核
置換誘導体を銅を主触媒に用い、水素雰囲気下に
反応させることによりインドールまたはインドー
ル誘導体を製造する方法に関する。
の製造法に関するものである。さらに詳細には、
Ｎ−β−ヒドロキシエチルアニリンまたはその核
置換誘導体を銅を主触媒に用い、水素雰囲気下に
反応させることによりインドールまたはインドー
ル誘導体を製造する方法に関する。
インドールは種々の製法が古くから提案されて
おり、その誘導体も研究されている。インドール
の２位置に置換基、例えばフエニル基またはメチ
ル基を持つ化合物の場合には、優れた合成法があ
り工業的製造も比較的容易である。しかしなが
ら、インドールそのもの、あるいは、ベンゼン環
にのみ置換基のある化合物の工業的に有利な製造
法は未だ知られていない。例えば、オルト−ニト
ロトルエンを還元しオルト−トルイジンを得、こ
れをＮ−ホルミル化してから苛性アルカリと熔融
後、数行程を経てインドールを得る等の方法が公
知である。このような方法は、出発原料のオル
ト・パラ異性体間の数量的バランスの問題、およ
び熔融塩を取扱う等の繁雑な工程、等の種々な欠
点がある。
おり、その誘導体も研究されている。インドール
の２位置に置換基、例えばフエニル基またはメチ
ル基を持つ化合物の場合には、優れた合成法があ
り工業的製造も比較的容易である。しかしなが
ら、インドールそのもの、あるいは、ベンゼン環
にのみ置換基のある化合物の工業的に有利な製造
法は未だ知られていない。例えば、オルト−ニト
ロトルエンを還元しオルト−トルイジンを得、こ
れをＮ−ホルミル化してから苛性アルカリと熔融
後、数行程を経てインドールを得る等の方法が公
知である。このような方法は、出発原料のオル
ト・パラ異性体間の数量的バランスの問題、およ
び熔融塩を取扱う等の繁雑な工程、等の種々な欠
点がある。
オルト・パラ異性体間の数量的バランスは、工
業的大量生産の際に大きな問題となるし、熔融塩
の取扱いも工業的な規模で実施するのは困難であ
る。
業的大量生産の際に大きな問題となるし、熔融塩
の取扱いも工業的な規模で実施するのは困難であ
る。
本発明者らは、上述のような欠点のないインド
ールまたはインドール誘導体の製法を提供するこ
とを目的として、インドールまたはインドール誘
導体の製法に関して種々研究し、Ｎ−β−ヒドロ
キシエチルアニリンまたは核置換誘導体を加熱し
た銅含有触媒と接触させると、一段の反応操作で
目的物が生成することを見出し、既に特許を出願
した（特願昭54−14343（特開昭55−108850））。
ールまたはインドール誘導体の製法を提供するこ
とを目的として、インドールまたはインドール誘
導体の製法に関して種々研究し、Ｎ−β−ヒドロ
キシエチルアニリンまたは核置換誘導体を加熱し
た銅含有触媒と接触させると、一段の反応操作で
目的物が生成することを見出し、既に特許を出願
した（特願昭54−14343（特開昭55−108850））。
本発明の方法は上記出願の方法を、さらに改善
したものであり、その目的とするところは、Ｎ−
β−ヒドロキシエチルアニリンまたは核置換誘導
体を一段の反応操作でかつ高収率でインドールま
たはインドール誘導体に変換せしめる方法を提供
することにある。
したものであり、その目的とするところは、Ｎ−
β−ヒドロキシエチルアニリンまたは核置換誘導
体を一段の反応操作でかつ高収率でインドールま
たはインドール誘導体に変換せしめる方法を提供
することにある。
本発明者らは、Ｎ−β−ヒドロキシエチルアニ
リンまたは核置換誘導体から高収率でインドール
類を得る方法に関して研究した結果、CuO−
MgO−NnO2−SiO2から成る触媒を用いて水素雰
囲気下にＮ−β−ヒドロキシエチルアニリンまた
は核置換誘導体を反応させることにより、従来、
既知の方法にくらべて、はるかに高収率でインド
ール類を取得できることを見出し、本発明を完成
した。
リンまたは核置換誘導体から高収率でインドール
類を得る方法に関して研究した結果、CuO−
MgO−NnO2−SiO2から成る触媒を用いて水素雰
囲気下にＮ−β−ヒドロキシエチルアニリンまた
は核置換誘導体を反応させることにより、従来、
既知の方法にくらべて、はるかに高収率でインド
ール類を取得できることを見出し、本発明を完成
した。
すなわち、本発明の方法は、Ｎ−β−ヒドロキ
シエチルアニリンまたはその核置換誘導体を
CuO−MgO−MnO2−SiO2から成る触媒を用い水
素雰囲気下に反応させて、インドールおよびイン
ドール誘導体を製造する方法である。
シエチルアニリンまたはその核置換誘導体を
CuO−MgO−MnO2−SiO2から成る触媒を用い水
素雰囲気下に反応させて、インドールおよびイン
ドール誘導体を製造する方法である。
本発明の方法によれば、従来法では考えられな
い高収率で、インドールまたはインドール誘導体
を製造することが可能で、工業的に非常に有利で
ある。すなわち、本発明の方法においては、出発
原料は、オルト・パラ異性体バランスの問題もな
く、熔融塩を取扱うというような繁雑な工程も含
まない簡単な方法で、かつ高収率で目的物が得ら
れる。
い高収率で、インドールまたはインドール誘導体
を製造することが可能で、工業的に非常に有利で
ある。すなわち、本発明の方法においては、出発
原料は、オルト・パラ異性体バランスの問題もな
く、熔融塩を取扱うというような繁雑な工程も含
まない簡単な方法で、かつ高収率で目的物が得ら
れる。
本発明の方法において、原料物質であるＮ−β
−ヒドロキシエチルアニリンは、アニリンとエチ
レンオキサイドとから容易に高収率で得られる。
アニリンとエチレンオキサイドは工業原料とし
て、大量安価に入手可能であるため、インドール
の出発物質として極めて有利である。また、核置
換誘導体の出発原料も全く同様の方法で得られ
る。
−ヒドロキシエチルアニリンは、アニリンとエチ
レンオキサイドとから容易に高収率で得られる。
アニリンとエチレンオキサイドは工業原料とし
て、大量安価に入手可能であるため、インドール
の出発物質として極めて有利である。また、核置
換誘導体の出発原料も全く同様の方法で得られ
る。
本発明の方法において用いられる触媒は、銅を
主触媒とするCuO−MgO−MnO2−SiO2から成る
ものであつて、その各々の組成は、CuO（10〜
40mol％）、MgO（10〜30mol％）、MnO2（２〜
20mol％）、SiO2（10〜78mol％）の範囲が好まし
い。
主触媒とするCuO−MgO−MnO2−SiO2から成る
ものであつて、その各々の組成は、CuO（10〜
40mol％）、MgO（10〜30mol％）、MnO2（２〜
20mol％）、SiO2（10〜78mol％）の範囲が好まし
い。
触媒の調製法は、浸漬法、例えば、シリカゲル
またはシリカマグネシアゲルに水溶性の銅塩およ
びマンガン塩を水に溶かして浸漬、乾燥、熱分解
の操作を行なうことにより製造する。あるいは共
沈法、例えば、硝酸銅、硝酸マグネシウム、硝酸
マンガンの混合水溶液に撹拌しながら水ガラスを
加え、シリカゲルの沈澱を生ぜしめ、次に撹拌し
ながらアルカリ物質を加えて、銅、マグネシウ
ム、マンガンの共沈物を生成させ、沈澱を濾別、
洗滌、乾燥および焼成することにより調製する。
各々の金属塩は前記した組成となるように使用量
を定める。沈澱の乾燥は室温で数時間〜１昼夜、
100〜200℃で数時間、350〜350℃で数時間行なう
のが好ましい。100〜200℃で乾燥した沈澱は、焼
成に先立つて、打錠整形する方が好ましい。
またはシリカマグネシアゲルに水溶性の銅塩およ
びマンガン塩を水に溶かして浸漬、乾燥、熱分解
の操作を行なうことにより製造する。あるいは共
沈法、例えば、硝酸銅、硝酸マグネシウム、硝酸
マンガンの混合水溶液に撹拌しながら水ガラスを
加え、シリカゲルの沈澱を生ぜしめ、次に撹拌し
ながらアルカリ物質を加えて、銅、マグネシウ
ム、マンガンの共沈物を生成させ、沈澱を濾別、
洗滌、乾燥および焼成することにより調製する。
各々の金属塩は前記した組成となるように使用量
を定める。沈澱の乾燥は室温で数時間〜１昼夜、
100〜200℃で数時間、350〜350℃で数時間行なう
のが好ましい。100〜200℃で乾燥した沈澱は、焼
成に先立つて、打錠整形する方が好ましい。
触媒は、通常、反応を実施するに先立ち、常法
により還元処理を行なう。還元処理の方法は、例
えば、水素と窒素の混合ガスを触媒床に流しなが
ら、温度を少しづつ昇温し、250〜350℃に数時間
保つことにより行なう。
により還元処理を行なう。還元処理の方法は、例
えば、水素と窒素の混合ガスを触媒床に流しなが
ら、温度を少しづつ昇温し、250〜350℃に数時間
保つことにより行なう。
本発明の方法を実施するには、通常、原料物質
であるＮ−β−アニリノエタノール、またはＮ−
β−アニリノエタノールのアニリン溶液を加熱気
化させ、水素あるいは、水素と窒素、メタン等の
含水素ガス雰囲気下に、加熱した前記触媒と接触
させることにより行なう。反応中における触媒
は、酸化銅が還元され金属銅または金属銅と亜酸
化銅の混合物、酸化マンガンはMn2O3、または
Mn3O4の状態にあると推定されるが、詳細は不明
である。
であるＮ−β−アニリノエタノール、またはＮ−
β−アニリノエタノールのアニリン溶液を加熱気
化させ、水素あるいは、水素と窒素、メタン等の
含水素ガス雰囲気下に、加熱した前記触媒と接触
させることにより行なう。反応中における触媒
は、酸化銅が還元され金属銅または金属銅と亜酸
化銅の混合物、酸化マンガンはMn2O3、または
Mn3O4の状態にあると推定されるが、詳細は不明
である。
原料物質の触媒床への供給速度は、通常、液空
間速度LHSVで表わすと、0.1〜２の範囲が多用
される。触媒床の温度は200〜500℃、特に250〜
400℃の範囲が好ましい。触媒床の形式は、通
常、固定床が多様される。反応は、通常、常圧で
実施するが、加圧または減圧下でも実施できる。
間速度LHSVで表わすと、0.1〜２の範囲が多用
される。触媒床の温度は200〜500℃、特に250〜
400℃の範囲が好ましい。触媒床の形式は、通
常、固定床が多様される。反応は、通常、常圧で
実施するが、加圧または減圧下でも実施できる。
反応器を流出した反応生成物は、冷却したトラ
ツプに補集し、常法、例えば、蒸留等の手段によ
り、インドールまたはインドール誘導体を取得す
る。
ツプに補集し、常法、例えば、蒸留等の手段によ
り、インドールまたはインドール誘導体を取得す
る。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例 １
内径12m/mのパイレツクスガラス製反応器に
１〜２m/m粒径の触媒7.5mlを充填して反応に供
した。触媒は、共沈法により調製したもので、そ
の組成はCuO30mol％、MgO15mol％、
MnO25mol％、SiO250mol％であり、そのBET表
面積は200m2/ｇである。
１〜２m/m粒径の触媒7.5mlを充填して反応に供
した。触媒は、共沈法により調製したもので、そ
の組成はCuO30mol％、MgO15mol％、
MnO25mol％、SiO250mol％であり、そのBET表
面積は200m2/ｇである。
水素ガス0.1部、窒素ガス0.9部から成る混合ガ
スを100ml/minで反応管に供給し、触媒床温度を
室温から、300℃まで除々に上げ300℃で１時間、
330℃で１時間保ち、触媒の還元処理を実施し
た。還元終了後、水素ガス0.5部、窒素ガス0.5部
から成る混合ガスを50ml/minで反応管に供給
し、Ｎ−β−ヒドロキシエチルアニリンの15wt
％アニリン溶液を７ml/Hrで気化器に供給し、反
応管に導入し反応させた。触媒床の温度は340℃
に保つた。
スを100ml/minで反応管に供給し、触媒床温度を
室温から、300℃まで除々に上げ300℃で１時間、
330℃で１時間保ち、触媒の還元処理を実施し
た。還元終了後、水素ガス0.5部、窒素ガス0.5部
から成る混合ガスを50ml/minで反応管に供給
し、Ｎ−β−ヒドロキシエチルアニリンの15wt
％アニリン溶液を７ml/Hrで気化器に供給し、反
応管に導入し反応させた。触媒床の温度は340℃
に保つた。
反応開始、４〜６時間の間に冷却してあるトラ
ツプに補集した反応液を分析したところ、原料Ｎ
−β−ヒドロキシエチルアニリンの転化率94％、
インドールへの選択率80mol％で目的物のインド
ールが生成した。
ツプに補集した反応液を分析したところ、原料Ｎ
−β−ヒドロキシエチルアニリンの転化率94％、
インドールへの選択率80mol％で目的物のインド
ールが生成した。
実施例 ２
実施例１と同一の触媒と反応方法で、用いる原
料をＮ−β−ヒドロキシエチル−メタ−トルイジ
ンにかえて反応させた。
料をＮ−β−ヒドロキシエチル−メタ−トルイジ
ンにかえて反応させた。
原料はＮ−β−ヒドロキシエチル−オルト−ト
ルイジンの15wt％オルト−トルイジン溶液とし
て、LHSV、0.9Hr-1で触媒床に供給した。
ルイジンの15wt％オルト−トルイジン溶液とし
て、LHSV、0.9Hr-1で触媒床に供給した。
補集した反応器留出液を分折したところ、Ｎ−
β−ヒドロキシエチル−オルト−トルイジンの転
化率90％、７−メチル−インドールへの選択率
73mol％で、目的物が生成した。
β−ヒドロキシエチル−オルト−トルイジンの転
化率90％、７−メチル−インドールへの選択率
73mol％で、目的物が生成した。
Claims (1)
- １ Ｎ−β−ヒドロキシエチルアニリンまたはそ
の核置換誘導体をCuO−MgO−MnO2−SiO2より
成る触媒を用い、水素雰囲気下に反応させること
を特徴とするインドールまたはインドール誘導体
の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12676079A JPS5651451A (en) | 1979-10-03 | 1979-10-03 | Preparation of indole or its derivative |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12676079A JPS5651451A (en) | 1979-10-03 | 1979-10-03 | Preparation of indole or its derivative |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5651451A JPS5651451A (en) | 1981-05-09 |
| JPS6130657B2 true JPS6130657B2 (ja) | 1986-07-15 |
Family
ID=14943236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12676079A Granted JPS5651451A (en) | 1979-10-03 | 1979-10-03 | Preparation of indole or its derivative |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5651451A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5910565A (ja) * | 1982-07-08 | 1984-01-20 | Mitsui Toatsu Chem Inc | インド−ル類化合物の製造方法 |
-
1979
- 1979-10-03 JP JP12676079A patent/JPS5651451A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5651451A (en) | 1981-05-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS588073A (ja) | ５−アルキルブチロラクトンの製造方法 | |
| JPH01151941A (ja) | ５員飽和窒素含有複素環化合物の製造用触媒組成物 | |
| JPS62192374A (ja) | Ｎ−メチルピペラジンの製法 | |
| JPS646183B2 (ja) | ||
| JPS59199644A (ja) | 置換フエノ−ルの製法 | |
| JPS6348585B2 (ja) | ||
| JPS6130659B2 (ja) | ||
| JPS6130657B2 (ja) | ||
| JPH053455B2 (ja) | ||
| US4250093A (en) | Process for the preparation of laotams | |
| JPS6320224B2 (ja) | ||
| JPS603296B2 (ja) | インド−ル類の製造法 | |
| JPS5858334B2 (ja) | レゾルシンノセイホウ | |
| US2807629A (en) | Catalytic dehydrogenation of dialkylene glycols | |
| JPH0649664B2 (ja) | ２，２，２‐トリフルオロエタノールの製造法 | |
| JPS5925779B2 (ja) | 立体異性脂環ジアミンの異性化法 | |
| JPS6028818B2 (ja) | インド−ルまたはインド−ル誘導体の製造法 | |
| US4456760A (en) | Process for the preparation of indoles | |
| US3294849A (en) | Production of alkynols and alkynediols using continuous phase silica gel carrier impregnated with 15 to 20 percent copper and 2 to 9 percent bismuth | |
| JPS61112040A (ja) | フエニルアセトアルデヒド類の製造方法 | |
| CN118022796B (zh) | 一种用于环己烷脱氢制备苯的催化剂及其制备方法和应用 | |
| US4243612A (en) | Benzylic oxidation process | |
| SU400587A1 (ru) | Способ получения 2,3-дифенил-тетра- гидропиридинохиноксалина | |
| JPS6210504B2 (ja) | ||
| JPH0146508B2 (ja) |