JPS6140831A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents

光フアイバ母材の製造方法

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Publication number
JPS6140831A
JPS6140831A JP16116884A JP16116884A JPS6140831A JP S6140831 A JPS6140831 A JP S6140831A JP 16116884 A JP16116884 A JP 16116884A JP 16116884 A JP16116884 A JP 16116884A JP S6140831 A JPS6140831 A JP S6140831A
Authority
JP
Japan
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base material
optical fiber
porous glass
longitudinal direction
glass base
Prior art date
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Pending
Application number
JP16116884A
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English (en)
Inventor
Makoto Furuguchi
古口 誠
Kazuaki Yoshida
和昭 吉田
Katsumi Orimo
折茂 勝巳
Kunio Ogura
邦男 小倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Furukawa Electric Co Ltd filed Critical Furukawa Electric Co Ltd
Priority to JP16116884A priority Critical patent/JPS6140831A/ja
Publication of JPS6140831A publication Critical patent/JPS6140831A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01446Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
    • C03B2201/10Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi

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  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は光ファイバ母材の製造方法に関し、長手方向に
均一なコア部枠とクラド部径の比率を持ち、同時に長手
方向に均一な屈折率分布を持つ光ファイバ母材を作るの
に適するものである。
(従来技術) 従来、コアのみ或いはコア部とクラッド部をそなえた多
孔質ガラス母材(スートプリフォーム)のコア部の外周
のドーパントを揮発させて、合成クラッドと称するクラ
ッド層を形成する方法が知られている。
特開昭57−34033号には、第1図のような加熱炉
(電気炉)内にスートプリフォームを入れて、ハロゲン
ガス(CI□、5OC12等)および還元性ガス(He
、H7等)の雰囲気下で約1100°Cで熱処理すると
得られたプリフォームの外周部に合成クラッド部が形成
されることが述べられている。
しかし上記の方法により形成される光ファイバ母材は合
成クラッド層の厚さ及びコア・クラッド層間の比屈折率
(Δ)が長手方向に極端に不均一になるという問題があ
る。
(発明の目的) 本発明の目的は、長手方向に均一なコア部枠とクラッド
部枠の比率を持ち、さらに長手方向に均一な屈折率分布
を持つ光ファイバ母材の製造方法を提供することにある
(問題点を解決するための構成) 本発明は多孔質ガラス母材を塩素化合物を含む雰囲気で
熱処理して合成クラッド層を持つ光ファイバ母材を製造
する方法において、加熱炉(高温部)A中の多孔質ガラ
ス母材Bをその先端Cが220°C以下の温度となる位
置から一定速度で高温部中を通過させて透明ガラス化す
ることを特徴とするものである。
本発明において孔質ガラス母材Bをその先端Cが220
°C以下の温度となる位置から一定速度で高温部中を通
過させるのは次の理由による。
先端Cが220℃を越える温度となる位置から孔質ガラ
ス母材Bを下降させると各部にかかる温度と雰囲気の組
成、その条件における滞留時間がかわるために下式によ
って示される合成クラッド部の厚さがかわってくるかで
ある。
GeO2+2SOC12−+GeCl4 +2SO2本
発明で使用し得る孔質ガラス母材BはGe。
P、B、At、Sbなどの酸化物をドーパントして含む
シリカ微粒子から成るものであり、VAD法、OVD法
などで作られる。これらは、コアのみから成るものであ
ってもよく、コアとタララドから成るものでもよい。
雰囲気ガスにはヘリウムとハロゲンガスを含むガスが使
用される。02を含むと合成クラッド形成能がほとんど
無くなるため02は無いほうがよい。
ハロゲンガスとしてはSOC12、SOF2などがよく
、CL2の合成クラッド形成能は低い。
熱処理部の最高温度は1000°C以上であって好まし
く1250℃以上である。
(実施例) 多重管バーナを使用してVAD法により60mmφ外径
の多孔質ガラス母材(SiO□+GeO2からなる)を
製造した。
これを第1図の装置で熱処理した。この炉の温度分布を
第2図に示す。この炉にHe16L/min、5OCI
20.141/minを流入させた。
孔質ガラス母材Bはその先端Cが200℃のところに下
るまではす早く送り込み(1m/m1n)、そこから2
60 mm/ h rで下降させて徐々にガラス化させ
た。
これにより得られた透明体は外径が22 m mであり
、合成クラッド部の厚さが第3図に実線で示すように長
手方向に均一であり、屈折率(Δ)が第4図に実線で示
すように長手方向に一定であった。
(比較例) 実施例と同様の方法で多孔質ガラス母材Bを合成した。
これを第1の装置で熱処理した。この炉にHe16L/
min、5OCI20.141/minを流入させた。
孔質ガラス母材Bはその先端Cが1050℃のところに
下るまではす早く送り込み(1m/m1n)、そこから
260mm/hrで下降させて徐々にガラス化させた。
これにより得られた透明体は外径が22mmであり、合
成クラッド部の厚さが第3図に鎖線で示すように長手方
向に不均一であり、屈折率(Δ)が第4図に鎖線で示す
ように長手方向に不均一であった。
(発明の効果) 本発明は以上のように高温部中の多孔質ガラス母材をそ
の先端が220℃以下の温度となる位置から一定速度で
高温部中を通過させるようにしたため、長手方向に均一
なコア部径とクラド部枠の比率を持ち、同時に長手方向
に均一な屈折率分布を持つ光ファイバ母材を製造するこ
とできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は透明化炉の説明図、第2図は第1図の炉の温度
分布の説明図、第3図は本発明の実施例により製造され
た光ファイバ母材と比較例により製造された光ファイバ
母材の合成クラッドの厚さの比較説明図、第4図は本発
明の実施例により製造された光ファイバ母材と比較例に
より製造された光ファイバ母材の合成クラッドの屈折率
分布の比較説明図である。 Aは加熱炉    Bは孔質ガラス母材Cは先端 第1図 ↓ 第3図 −Ef サイ立 υ「(OηQ 第2図 #1浅(・C) 第4図 #幻位置(c1→

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 多孔質ガラス母材をハロゲン化合物とヘリウムを含む雰
    囲気で熱処理して合成クラッド層を持つ光ファイバ母材
    を製造する方法において、高温部中の多孔質ガラス母材
    をその先端が220℃以下の温度となる位置から一定速
    度で高温部中を通過させるようにしたことを特徴とする
    光ファイバ母材の製造方法。
JP16116884A 1984-07-31 1984-07-31 光フアイバ母材の製造方法 Pending JPS6140831A (ja)

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JP16116884A JPS6140831A (ja) 1984-07-31 1984-07-31 光フアイバ母材の製造方法

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JPS6140831A true JPS6140831A (ja) 1986-02-27

Family

ID=15729884

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16116884A Pending JPS6140831A (ja) 1984-07-31 1984-07-31 光フアイバ母材の製造方法

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JP (1) JPS6140831A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62292643A (ja) * 1986-06-10 1987-12-19 フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ ガラスまたはセラミック体の製造方法
EP1561731A3 (en) * 1999-03-10 2006-04-26 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for sintering a porous glass preform

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62292643A (ja) * 1986-06-10 1987-12-19 フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ ガラスまたはセラミック体の製造方法
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