JPS6143132A - キノン誘導体，その製造法およびそれを含んでなる医薬組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔厘業上の利用分野〕 本発明は、気管支喘息、即時性アレ〃ギー、各種炎症、
動脈硬化症、感染に基づくエンドトキシンＶヨツクなど
の治療および予防作用を有する新規なキノン誘導体、そ
の製造法およびそれを含んでなる医薬組成物に関するも
のであシ、医薬の分野において利用できるものである。

〔従来技術〕

従来、気管支喘息の治療または予防を効果的に行うこと
は困をであるとされてきた。近年、即時性過敏症や喘息
の重要な化学メディエータ−の一つとして古くより知ら
れていたＳ　ＲＳ　−Ａ　（ｓｌｏｗｒｅａｃｔｉｎｇ
　ａｕｂａｔａｎｏｅ　ｏｆ　ａｎａｐｈｙｌａｘｉｓ
　　ンがアラキドン酸の５−リポキシゲナーゼ系代謝産
物、すなわちロイコトリエン類から成ることが明らかに
され注目されている。ロイコトリエン類は、アレμギー
性あるいは炎症性反応の強力な化学メディエータ−であ
シ、肺末梢気道の収縮を主に引き起し、気管支喘息に伴
う呼吸困難と関係するものと考えられている。また、ロ
イコトリエンＭＦｉ毛和血管の透過性昂萌や強力な白血
球の遊、Ｌ能を有し、炎症の主な症候の１つである浮腫
や細胞浸潤と深く関係している。また強い血管収縮作用
線冠状動脈不全、狭心症の原因にもつ女がるものと考え
られている。このようにロイコトリエン類と病即生理学
との関係が明らかにされるに従って、ロイコトリエン類
の生合成反応の初発０素である５−リポキシゲナーゼの
阻害剤の重要性がＢｉ；１ＩＩＩされるようｋなってき
ている。

すでに５−リポキシゲナーゼ阻害作用を有する化合物と
してフッボン化合物、キノン化合物（米国特許番号４２
７１０８３．ＩＰＣ公開沖号轟２１８４１　、米国特許
番号４３５８４６１）、カテコール化合物（Ｃ１１ａ　
ＥＸＴＬ　ＰｈａｒｍａｃｏＬ　ＰｈｙａｉｏＬ。

８．６５４−６５５（１９８１））、フェノ−μ、フフ
ボン系化合物（Ｂｉｏｃｈｅｍ　Ｂｉｏｐｈｙａ、　Ｒ
ｅａ、　Ｃｏｍｍｕｎ。

１１６．６１２−６１８（１９８３））、アセチレン系
化合物（Ｅｕｒ、　Ｊ、　Ｂｉｏｃｈｅｚ　１３９　、
５７７−５８３（１９８４））などが知られているが、
これらはいずれも薬物代置および吸収収動■において充
分満足されるものではない。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は５−リポキシゲナーゼ阻害作用を有することが
知られている公知の化合物に比較して代謝系による不活
化が起シにくくかりすぐれた薬効持続性を示す新規なキ
ノン化合物を提供するものである。

〔問題を解決するだめの手段〕

すなわち、本発明線、 １、一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２はいずれか一方が炭素数３〜１２の
二または三級の炭素で結合する基を示し、他方は水累原
子、メチル基またはメトキシ六を示す。Ｒ３は水素原子
また社メチ／Ｌ’基を、Ｒ４は置換されていてもよいヒ
ドロキシメチル基、エステル化またはアミド化されてい
てもよい力μボキシ示す。ただしｍが２また唸３のとき
、２およびｋは〔〕内の繰返し単位において任意に変ル
うるものとする。）で表わされるキノン誘導体、２、一
般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ’、　Ｚ　、　ｋ　、　
ｍおよびｎは前記と同意義であシ、Ｒ５は水素原子、メ
チμ基、メ）キンメチル基、ベンジ／Ｓ／基、２−テＦ
ツヒドロビフニル基を、Ｒ６は水素原子、水酸基。

メトキシ基、メトキシメチμオキシ基、ベンジルオキシ
基、２−テトフヒドロピヲニルオキシ基を示す。ンで表
わされる化合物と酸化剤とを反応させることを特徴とす
る一般式（１）で表わされるキノン誘導体の製造法、 λ　一般式（Ｉ）で表わされる化合物を有効成分として
含んでなる医薬組成物、 である。

前記一般式（Ｉン、（ＩＩ）中、Ｒ１およびＲ２のいず
れか一方で示される炭素Ｉｋ、３〜１２の二または三級
の炭素で結合する基として杖、たとえば１・−プロピμ
、８■−ブチＡ／、８ω−ベンチμ。

シクログロビル、シクロベンチμ、シクロヘキＶル、１
−フェニルエチル、１−フエニｆｉ／７１チμなどの二
級炭素で結合する基、たとえばｔ−ブチμ、１，１−ジ
メチμプロピμ、１．１−ジメチルブチ／ｌ／、１−メ
チ／Ｌ／−１−エチルプロピμ、フエ＝ｆｉｙ、ｐ−メ
チルフエニμ１ｍ−メチｆｉｔフエ二μなどの三級炭素
で結合する基があげられる。＆九これらの基はたとえば
ハロゲン原子、水酸基、ア、／Ｌ／コキＳ’Ｓ（たとえ
ばメトキシ、エトキシなど）、低級アルキル基などの基
を置換していてもよく、その具体例としてはたとえばｐ
−フロロフエニμ、ｐ−クロロフエニμ、ｐ−ヒドロキ
シフェニ〃、ｐ−メトキシフエニｌｖｅ　Ｐ−メチルフ
ェニル）ｐ−イソプロピμフエニμなどがあげられる。

−で示されるヒト−キシメチル基は置換されていてもよ
く、無置換のヒドロキシメチル基の他、たと、ｔｔｆメ
トキシメチル、アセトキシメチμ、二Ｆロオキシ、アミ
ツカ〃ボニμオキシメチル、１准換アミン力〃ポールオ
キＶメチ／Ｉ／（例、メチμアミツカμボニμオキシメ
チＡ／、エチｐアミツカ〃ボ二μオキシメチル、ジメチ
ｐアミノカルポニμオキシメチＡ／、フェニルアミノカ
ルボニルオキシメチＡ／）、環状アミツカμボニμオキ
シメチ／Ｉ／（例、モＡ／にリノカルボニルオキシメチ
ル、ピペリジツカｐボニμオキシメチμなど）などが、
エステル化されたカルポキＶμ基としてはたとえばエト
キシカルボニル、エトキシカルボニル）プロポキンカル
ボニｌｖ、ブトキＶ力μポールなど炭素数２〜５のアル
コキシカルボニμ、たとえばフェノキシカ！ボニルなど
の炭素数７〜Ｂのアリールオキンカμボニμがあげられ
る。Ｒ４で示されるアミド化された力〃ボキＶＩＬ／基
はそのアミ７基がｆｆ！換された置換アミノカルボニμ
でもよくまた環状アミ、ツカμボニｐで本よい。置換ア
ミツカμボニμのアミノ基の置換基として社たとえばメ
チｐ、エチμ、デロヒｌｖ、ブチμなど炭素数１〜４の
アルキｐ、たとえ゛ばフエニρ、ナフチμなど択ｉａ６
〜１０のアリ−ｆｉ／にれらはさらに環状の任意の位［
Ｋタト、ｔｔｆヒドロキｔＨｖ、アミノ、ニトロ、ハロ
ゲン、メチμ、メトキＶなどの置換基を有していてもよ
い）、とドルキシμ基などがあげられ、アミド化された
カルボキシル基の具体例としてはたとえばアミノカルボ
ニル）メチルアミツカμボニμ、エチルアミツカμポニ
、Ａ／、ジメチルアミツカ〃ボニル、フエニμアミツカ
μボニμ、ｐ−ヒドロキシフエニμカμボニμ、ｐ−メ
トキシフエニμカルボニｆｉｙ　、　ｙ−クロロフェニ
ル力μボニル、ジフエニ〃アミツカμポニμなどが６１
’Ｊ”ラレル。

環状アミツカ〃ボニ〜として紘たとえばモルホリノカル
ボニル）ピペリジツカμボニルなどがあげられる。

本発明に係る一般式ＣＩ）で表わされる化合物は一般式
（ＩＩ）で表わされる化合物と酸化剤を反応させること
によって！１ａすることができる。

酸化剤としてはたとえば空気、酸素、酸化銀。

硝酸第二セリウムアンモニウム塩化第二鉄、硫酸第二鉄
などがあげられる。この反応は通常溶媒の存在下に行な
われ該溶媒としては、たとえばメタノール、エタノ−μ
、アセトニトリμ、ジオキサン、１．２−ジメトキシエ
タンがあげられる。酸化剤の使用量れ化合物（π）１モ
ルに対し１〜４モル程度が好ましい。反応温度は通常−
１０°〜４０℃で、反応時間は通常０．５〜４時間程Ｊ
りである。

一般式（ＩＦ）においてＲ５が水素原子であシかつＲ６
が水素原子または水酸基である化合物は酸化剤としてフ
レミー塩を用いることによっても容易に化合物（Ｉ）に
導くことができる。この場合フレミー塩の使用量は化合
物（Ｉ）１モμに対して２〜４モμ程度であり、溶媒と
してはメタノ−μ、エタノ−μ、アセトニトリル、ジオ
キサン、１．２−ジメトキシエタンなどが好ましく用い
られる。反応温度はＯｔＸ〜８０℃で、反応時間は通常
２〜１２時間程度である。

一般式（ＩＩ）中Ｒ５が水素原子であシかつＲ６が水酸
基である化合物はさらに空気もしぐは酸素ガスによって
も酸化することができそれ自体公知のヒドロキノン化合
物の酸化方法によって容易に化合物ＣＩ）に導くことが
できる。

一般式（１）中２が一〇１ｌ−ＣＨ−である化合物は一
般式（Ｉ）中２が一〇ミＣ−である化合物を還元するこ
とによって製造することもできろ。この反応は通常メタ
ノール、エタノールまた紘酢酸エチルなどの溶媒中、キ
ノリンおよびリンドフー触媒を用いて部分還元すること
によって行なわれる。

触媒の使用量は原料化合物の重奄に対してＬ／１０〜１
７５程度であり、キノリンは触媒型Ｒ（当シレ加〜１１
５稈度用いられる。反応温度、圧力は室温。

常圧であシ、反応時間は１〜２時間程度である。

化合物ＣＩ）にかいてＲ４がカルボキシル基である場合
はカチオンとの塩に導びいてもよい。該カチオンとして
はナトリウムイオン、カリウムイオン、カルシウムイオ
ンなどが挙げられる。

かくして製造されるキノン化合物（Ｉ）ａ、自体公知の
分離・精製手段（例、クロマトグラフィー、結晶化法）
などにより単離採取することができる。

本発明の化合物（Ｉ）は一般式 （式中、各記号は前記と同意義である）で表わされる化
合物を自体公知の緩和な酸化および還元反応によシ容易
に相互変換することができる。一般にヒドロキノン体（
Ｉ［）は酸素、空気などによって酸化されやすいため、
安定形としてキノン体に導びいて置いた方が好都合であ
る。また化合物（１）と化合物（■＆）は生理的条件下
においてキノン還元酵素あるいはヒドロキノン酸化酵素
によっても相互変換が可能であって薬理学的には等価な
化合物であるとみなされる。

本発明化合物（１）は、多価不飽和脂肪酸（リノール酸
、γ−リルンｍｅｅｔ−リルン酸、アラキドン酸、ジホ
モ−ｒ−リルン酸、エイコサテトフエン酸）の代■改善
、特に過酸化脂肪、酸の生成抑制作用（抗酸化惰用）あ
るいは５−リポキシゲナーゼ系代謝産物（例、ロイコト
リエン類。

５−ヒドロキシエイコサテトラエン酸、５−パーオキシ
エイコサテＦフェン酸）の生成抑制作用を有し、しかも
毒性、副作用は極めて低い。したがって本発明の化合物
ＣＩ＞は哺乳動物（マウス。

ラット、ウサギ、す〃、馬９人など）に対して気管支喘
息、乾せん、炎症、アｙ）ｖギー、動脈硬化、アテロー
ム変性動脈硬化、免疫不全Ｊａｌｌ感染抵抗性低下など
の諸疾患に対して治療および予防効果を示し、たとえば
抗喘息剤、抗アレルギー剤、乾せん治療剤、脳循環器系
改善剤、冠状動脈硬化予防剤、免疫調整剤、Ｍｌ感染防
御増進剤、プロスタグランジン−トロンボキサン代謝改
蕾剤などの医薬として有用である。

本発明化合物は毒性が低く、そのｔ−もしくは自体会知
の薬学的に許容される担体、賦形剤などと混合した医薬
組成物〔例、錠剤、カプセル剤（ソフトカプセル、マイ
クロカデセ〃を含む）、液剤、注射剤、坐剤〕として経
口的もしくは非経口的に安全に投与することができる。

投与量は投与対象、投与ルート、症状などによっても異
なるが、たとえば、成人の喘息患者に対して経口投与す
る場合、通常１回量として約０．１す／ｋｑ〜２０’！
Ｉ／ｋｌｉ体重程度、好ましくは０．２１１ｖ／ｋ（１
〜１０　Ｍｌ／ｋｇ体重程度を１日１〜２回程度投与す
るのが好都合である。

化合物（Ｉｔ）はつぎの方法によって製造することがで
きる。化合物（πａ）は一般式 （式中、Ｒ”、　Ｒ”、　Ｒ３，Ｒ’、　Ｚ　、　ｋ　
、　ｍおよびｎは前記と同意義であシ、Ｒ７はメトキシ
メチル基、ベンジμ基、２−テトヲヒドロピラ＝〜基を
、Ｒ８は水素原子、メトキシメチルオキシ基、２−テト
ツヒドロピラ＝〃オキシ基、ベンジルオキシ基を示す。

）で表わされる化合物を加水分解または接触還元して脱
保護することによって得ることができる。

この加水分解反応は、含水有機溶媒（例、メタノ−ρ、
エタノーμ、ジオキサイ、アセトニトリル、１．２−ジ
メトキシエタン）中、酸性触媒（例、ｐ−トルエンスル
ホン酸、カンファースルホン酸、過塩素酸）の仔在下に
０〜４０℃の温度範囲で行われる。また、ベンジル基の
除去反応はパラジウムまたは白金系触媒を用いて接触還
元を行うことによシ容易に実施できる。

化合物（ＩＩ）中、一般式 （式中、Ｈｌ、　Ｒ２，Ｒ３，Ｒ７，Ｒ８およびｎは前
記と同意義であり、Ｙｌはメチル基、ヒドロキＶメチ／
Ｉ／基、力ｐボキシル基また状ア〃コキシカルボニμ基
を示す、、）で表わされる化合物は一般式（式中、Ｒ３
，Ｒ’／、　Ｒ８，ｙｌおよびｎは前記と同意義であＪ
）、Ｒ９，ＲＩＯはいずれか一方が水素原子で他方性水
素原子、メチル基またはメトキシ基を示す）で表わされ
る化合物に一般式 ％式％（） （式中、Ｒ１１は炭素数３〜１２の二または三級の炭素
で結合する基を、Ｘｉ　Ｂ水酸基、アセトキシ基または
ハロゲン原子を示す。）で表わされる化合物を酸触媒の
存在下縮合させることにより得ることができる。本縮合
反応社無極性溶媒（例、メチレンクルフィト、クロロホ
μム、ベンゼン、トμエン、イソプロピ〃エーテＡ／、
１．２−ジクロμエタン、１．１．２．２−テトフクロ
ロエタン）中酸触謀（例、三フッ化ホウ素エチルエーテ
ル、塩化アルミニウム、塩化スズ、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、Ｄ−力ンファースμホン酸）の存在下に１０−１
００℃の温度範囲で行われ、好ましくは５０℃から８０
℃である。

これらの反応に用いられる酸触媒としては、た、！−１
ｔｆｌｌ硫酸、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素エチ
μエーテルなどがあげられる。零縮合反応は、化合物（
Ｍ）の溶媒に対する溶解性および酸触媒と化合物（ＩＴ
）の反応性に依存するため反応触媒を化合物（Ｉｆ）と
（ＩＴ）の組み合せに応じて適宜変える必要がある。使
用する酸触媒の量は化合物ＣＭ）に対して１モμ当量か
ら１０モル当量の範囲であるう反応時間は４〜２０時間
である。

化合物（Ｉ［ｂ）れ一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｈ％、　Ｒ８およびｎは前
記と同意軸であシ、ｙ２　ｄ水酸基を示す。）で表わさ
れる化合物をハロゲン化することによシ一般式（式中、
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ）　Ｒ８およびｎは前記と同意義
でちゃ、ｘ２社ハリゲン原子を示すウ　）で表わされる
化合物を得、ついでこれを塩基の存在下一般式 ％式％） （式中、Ｚ、におよびｍは前記と同意義であり、Ｙ３は
水素原子、水酸基、力μホキシル基、アμコキＶカμボ
ニ／ｌ’基または２−テトラヒドロピラニルオキシ基を
示す。）で表わされる化合物と縮合反応させることｋよ
って製造することができる。

この結合反応は化合物（■）における２によって使用す
る塩基性反応条件が異なる。例えば２が−Ｃ＝Ｃ−基で
ある場合、塩基性試薬としてｎ−ブチμリチウム、水素
化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムアミドが用
いられる。一方、２がトリウム、水酸化カリウム、水素
化ナトリウムな線化合物（ＶＩ）とイソ酪酸エステμと
を塩基の存在下に縮合させる仁とによっても製造するこ
とができる。この場合塩基としてはリチウムイソプリビ
ルアミドが好ましく用いられる。いずれも塩基性条件下
の縮合反応は常法公知の反応を用いて行われる。

〔発明の効果〕

本発明の化合物（Ｉ）はキノン核に二または三級炭素で
結合するかさ高い基を有し、この特徴ある構造によシ生
体内代謝による不活化反応を受けにくく、公知のキノン
化合物に比べて血中での薬剤有効濃度を長時間維持する
ことができ、低薬用量で優れた薬効を示す。

〔実施例〕

実施例１　（化合物番号５） １１−（４−イソプリピ１ｖ−２，５−ジメトキシ−３
，６−ジメチμフエエ／％’）−２，７−ウンデカジイ
ン−ｌ−オーＡ’３．７０１！　（１０，０ｍｍｏｌｅ
）をアセトニトリ＊（２５＊／）、水（１５Ｗｔ）の混
合溶媒に溶解し、水冷下、冷却した硝酸第二セリウム７
ンモニウム１６．４１Ｆ（１０ｘ３ｍｍｏｌｅ）５０％
アセトニトリ〃水（’３５’ｗ／）、溶液を３０分にわ
たって滴下。さらに３０分水冷かくはんを続けた後、ア
セトニトリルを減圧留去。残渣にイソプロピルエーテル
を加え抽出。イソプロピ〃エーテμ層をとシ出し、食塩
水洗浄、乾燥（硫酸マグネＶウム）、溶媒留去。残留液
をシリカゲルカフムクロマトに付し、精製して（イソプ
ロピμエーテμ溶出）、１１−（５−イソプロピＡ’−
３，６−ジメチ／Ｌ’−１，４−ベンゾキノン−２−イ
／Ｉ／）−２，７−ウンデカジイン−１−オー／Ｉ／３
．０６９（９０％）を得た。

上記実施例に準じて化合物１〜５および化合物７〜９ま
でを製造した。物性および核磁気共鳴スペクトルデータ
は表１に示した。

実施例２　（化合物番号６） １１−（５−イソプｐピ／ｌ／−３．６−シメチルー１
．４−ベンゾキノン−２−イ／Ｉ／）−２，７−ウンデ
カジイン−１−オーＡ’Ｌ７０　ｆ　（５，Ｏｍｍｏｌ
ｅ　　）　、　ｖアン酸カリウム１．２２ｆ（５ｍ３ｍ
ｍｏｌｅ　）にトルエン（１５ｍ１）を加え、室温かく
社ん。トリフルオロ酢酸１．８８１Ｆ（５Ｘ３．３ｍｍ
ｏｌｅ　　）を５分で滴下。５分後、反応温度ｔ４０℃
にあけ、３５〜４０℃で３時間かく社ん。水を加え不溶
物を炉別し、炉液にイソプロピルエーテルを加え抽出。

有機層をとシ出し、食塩水洗浄。

乾燥（硫酸マグネシウム）、溶媒留去。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトに付し、ｒ＊ｓして（イソプロピルエ
ーテμ溶出）、１ｌ−（５−イソプロピＡ’−３，６−
ジメチ＃−１，４−ベンゾキノン−２−イ／Ｌ’）−２
、７−ウンゾカジイニμ　カーバメイト１．２０　＃　
（６３％）を得た。

物性および核磁気共鳴スペクトルデータは表１に示した
。

（以下徐−白２ 実施例３　（化合物番号１２） ９−（５−イソプロピＡ／３　ｅ　６−ジメチ〜−１，
４−ベンゾキノン−２−イル）−２−ノニニＡ／−１−
オー／ｌ／６３２ＷＣ２ｍｍｏｌｅ　）の７セ）ン（１
０ｗ／）溶液に室温下ジョーンズ試薬（Ｌ５ｄ）を１５
分で滴下。さらに３０分室温でかくはん後、アセトンを
減圧で留去。残渣にイソプロビルエーテＡ／、水を加え
て抽出。イソプロピμエーテＡ／層をと）出し、食塩水
で洗浄、乾燥、溶媒留去、、残渣をイソプロピμエーテ
μに溶解し、シリカゲルクロマトグラフィーに付し、イ
ソプロピルエーテル−酢酸エチ／ｌ’（５：１）で溶出
し、目的物の画分を濃縮すると９−（５−インプロピ／
Ｉ／−３，６−ジメチ／Ｉ／−１，４−ベンゾキノン−
２−イ／Ｌ／）−２−ノニン酸４６８ｍ’！１１（７１
％）が得られた。

物性および核磁気共鳴スペクトルデータは表１に示した
。

実験例１５−リポキシゲナーゼ阻害作用ＲＢＬ−１ｍ胞
（ｒａｔ　ｂａａｏｐｈｉｌｉｃ　ｌｅｕｋｅｍｉａｏ
ｅｌｌｓ　）　１０７個をＭ　ＣＭ　（ｍａｓｔ　ｅｅ
ｌｌ　ｍｅｄｉｕｍ）α５ｄに懸濁し、これにあらかじ
めＩＩ４整した被検液（Ｍ　ＣＩ　０．５　Ｋ！　、ア
ラキドン酸５０μ９．Ａ−２３１８７１０μリ　、キノ
ン化合物の最終濃度が１μＭから成る）を加え、３７ｐ
で２０分間反応を行う。反応後、エタノ−１ｖ４ｓｙ／
と内部基ｔ＄薬として１．４−ジメトキｓ／−２−メチ
ル−３−（３−メトキシプロピル）ナフタレンを加えよ
く振シまぜたのち、室温で１０分間放置する。ついで遠
心機（２０００回転／分）に１０分間かけ、上澄液を分
離する。この上澄液を減圧下に乾固する。

濃縮液に６０％含水メタノール溶液（０，５ｗｌ　）を
加える。この溶液を１００μｊと夛、高速液体クロマト
グラフィーに付し、５−ＨＥＴＥ（５−ｈｙｄｒｏｘｙ
ｅｉｃｏａａｔｅｔｒａｅｎｏｉｏ　ａｏｉｄ　　）の
定量を行う。５−ＨｇＴＥは２３７　ｎｍの吸収を紫外
線吸収モニターで測定。

５−ｆｌｌＴＰ！の生成抑制率（ＩＩ）は（１−−）×
１００　で表わされる。ａはキノン化合物を含まないと
きの内部標準のピークで補正したピーク高または面積値
を、ｂはキノン化合物を含んでいるときの内部標準のピ
ークで補正したピーク高またはピーク面積を表わす。

〔実験結果〕

結果線表２に示す、とおシ、５−ＨＥＴＩ：の強い産生
抑制作用を示した。

表２５−リポキシゲナーゼ阻害作用 ＊被検体としてのキノン化合物の最終濃度（１０−’Ｍ
）における５−リポキシゲナーゼ阻害率を示す。

参考例１　（化合物番号１） ２．５−ジメチＡ／−１，４−ベンゾキノン２５．０１
（０，１８４ｍｏｌｅ　）をエチｆｉ／ニーｆｆｉ／（
５００胃ｌ）に溶解し、ハイドロサルファイトナトリウ
ム６４．Ｏｆ（０，１８４Ｘ２ｍｏｌｅ　）水（５００
ｗ／）溶液を加え、激しくかくはん（１０分）。

エーテμ層をとシ出し、食塩水洗浄、乾燥（＠酸マグネ
シウム）、エーテル留去してハイドロキノン体を得た。

ハイドロキノン体をジメチμホμムアミド（３５０ｒ／
）Ｋ溶解し、窒素気流下、水冷かくはん。水素化す）リ
ウム（６０％、油性）１　Ｎ９１１　（０，１Ｂ　４　
ｘ　１２　ｍｍｏｌｅ）を１０分にわたって加え、さら
に１０分水冷かくはんを続けた。

つぎに、ヨウ化メチＩｖ６ａ３ｆ（０，１８４ｘＺ５ｍ
ｍｏｌｅ　）を２０分で滴下し、さらに２０分水冷かく
はんを続けた。注意深く氷水を加えて反応を止め、イソ
プｐビμエーテ＊（６００Ｗｌ）を加えて抽出。イソプ
ロピ〃エーテｌｖ層をとり出し、水洗、食塩水洗浄、乾
燥（硫酸マグネシウム）、溶媒留去。析出結晶を冷イソ
プロピ〃エーテ／Ｉ／／ヘキサン（１：１）で洗浄して
、１．４−ジメトキシ−２，５−ジメチルベンゼン２８
．７９＜９４％。

ａｐ、１０６゜５〜１０７．５℃）を得た。

この１．４−ジメトキシ−２，５−ジメチルベンゼン１
６．６９（α１０ｍｏｌｅ）のジクロルメタン（１００
ｇ？）溶液を氷冷し、ジクロμメチμメチμエーテ／Ｉ
’２８．８　ｆｌ　（０，２５ｍｏｌｅ　）ジクロルメ
タン（２０１１！ｌ）溶液を加え、ついで四塩化チタン
２７，５バ／（０，２５ｍｏｌｅ）ジクロルメタン（３
０−）溶液を３０分にわ九って滴下。滴下後、水浴を杜
ずし、室温で２時間かくはん。氷水に反応液をあ妙、３
０分室温でかくはん。ジクロルメタン層をとり出し、水
洗、乾燥（硫酸マグネシウム）、溶媒留去つ残渣をシリ
カゲルカラムクロマトに付し、精製して（ヘキサン／イ
ソプｐビルエーテ／Ｌ／＃出）、２．５−ジメトキシ−
３，６−シメチルベンズアルデヒド１＆！Ｍ（９５％、
鳳ｐｓｅ〜５７℃、イソプロピμエーテ／Ｌ／／ヘキサ
ン再結）を得た。

参考例２　（化合物番号３） ２．６−ジメチ／Ｉ／−１，４−ベンゾキノン１３．６
９（０，１０ｍｏｌｅ　）ｔ−エチｙ＝−チル（３００
ｇ／）Ｋ溶解し、ハイドロサルファイトナトリウム３４
．８　’Ｉ　Ｃ０，２０ｍｏｌｅ　）水（３００ｇり溶
液を加え激しくかくはん（１０分）。エーテル層をとシ
出し、食塩水洗浄、乾燥（硫酸マグネシウム）、エーチ
ル留夫してハイドロキノン体を得た。ハイドロキノン体
にトルエン（１５（ｌｙｅ）を加え、さらに２，３−ジ
ヒドロフラン７７ｆ（Ｑ、ｌ　ｌ　ｍｏｌｅ　）　、　
Ｄ−力ンファーヌｙホン酸０．１２４’　（０，１０ｘ
　１／２００　ｍｏｌｅ　）を加え、３０分室温でか〈
社ん。ついで、Ｄ−力ンファースμホン酸（１，０１）
を追加して６０℃で２時間かくはん。

空冷後、炭酸水素ナトリウふ水を加えて抽出。トルエン
層をとシ出し、食塩水洗浄、乾燥（硫酸マグネシウム）
、トルエン留去。残渣をイソプロピルエーテルで再結し
て、２−（２−テトラハイドロフリ＃）−３，５−ジメ
チμハイドロキノン１６．７ｆ（８０％、　ｍ、ｐ、１
５１〜１５２℃）を得た。

上記で得た２−（２−テトラハイドルフリル）−３，５
−ジメチ〃ハイドレキノン１５．６９（７＆０臆ｍｏｌ
ｅ　）をジメチμホ〃ムアミド（２００ゴ）に溶解し、
窒素気流下、水冷かく紘ん。水素化デトリウふ（６０％
、油性）６．６０１１（７５Ｘ＠　２　ｍｍｏｌｅ　）
を１０分にわたって加え、さらに１０分水冷かくはんを
続けた。つぎにヨウ化メチＡ／２６．６９　（７５Ｘ　
２．５　ｍｍｏｌｅ）を１５分で滴下ル、さらに１５分
水冷かくはんを続けた。注意深く、氷水を加えて反応を
止め、イソデロピルエーテ＊（３００ｍ／）を加えて抽
出。イソプロピμエーテ／Ｌ’層をとシ出し、水洗１食
塩水洗浄、乾燥（硫酸マグネシウム）、溶媒留去。残留
液をシリカゲルカラムクロマトグツフィーに付し、精製
して（イソプ四ヒμエーテ／Ｉ／／ヘキサン溶出）、１
−（２−テトラハイドロフリ／Ｌ／）−２，５−ジメト
キシ−４，６−ジメチルベンゼン１６．６９Ｃ９４％）
を得た。

参考例３　（化合物番号４） ジイソプロピルアミン３．８１　ｎｔｃ　２２．７　Ｘ
　１．２闘ｏ１ｅ　）無水テ）フヒドロフヲン（４Ｍ）
溶液にアルゴン雰囲気下、−２０℃でｎ−ブチルリチウ
ム・ヘキサン溶液１　ａ６ｄ（２２，７ｘ　１．１　ｍ
ｍｏｌｅ　　）を１０分で滴下し、さらに−２０〜−５
℃で１０分かく拡ん。−２０℃とし、ジエチμホ　　、
スホノ酢酸！？Ａ’！Ｌ５９９　（２ｚ’ｙ、ｘ　１．
１ｍｎ＋ｏｌｅ）テトラヒドロフラン（１５ｓ＋ｔ）溶
液を１０分で滴下。−２０〜−５℃で１０分かく拡ん後
、−加℃とし２．５−ジメｕｓ’−３．６−ジメチμベ
ンＸ１１Ｌ’ｆ”ヒＦ４．４０　ｆｌ　（２２，７ｍｆ
ｆ＋ｏｌｅ　）テトラヒドロフフン（２０ｄ）溶液を１
０分で滴下。

ついで、−２０〜ｌＯ℃で２時間かく轄ん。氷冷し、１
Ｍ塩酸を加えて反応を止め、イソプロピμエーテμ９食
塩を加えて抽出。有機層をとシ出し、飽和食塩水洗浄、
乾燥（硫酸マグネシウム）、溶媒留去。残渣をＶリカゲ
μカラムク！マドに付し、精製して（ヘキサン／イソプ
ロピμエーテμ溶出）、（２，５−ジメトキシ−３，６
−ジメチ〃）ケイ皮酸エチμ５．６：１（９４％）を得
た。

（２，５−ジメトキｙ−３、＠−ジメチｌｖ）ケイ皮酸
エチ＃１６３　ＩＦ　（２Ｌ３　ｍｍｏｌｅ　）エタノ
−μ（６０ｍ＋／）溶液に酸化白金（０，２１Ｆ）を加
え、室温下、接触還元を３時間行なった。触媒を枦別し
、エタノールを減圧留去、、歿渣をシリカゲルカラムク
ロマトに付し、ｌｆ［！して（ヘキサン／イソデロピル
エーテμ溶出）、３−（２，５−ジメトキシ−３，６−
ジメチμフエニＡ／）プロピオン酸エチ／Ｌ１５．５５
Ｆ（９８％）を得た。

参考例４　（化合物番号５） ジメチルスルホキシド（２５０ｙｔ）に窒素気流下、室
温でナトリウムアミド６．０５ｆ（５０ｘ３、１　ｍｍ
ｏｌｅ　）を加え、１０分かくはん。つぎに、臭化４−
カルボキシ１ブチルトリフエニルホスホニウム３３．２
９　（５０Ｘ　１．５　ｍｍｏｌｅ）を１５分で加え、
さらに３０分室温でかくはん。りｂで、２゜５−ジメト
キシ−３，６−ジメチルベンズアルデヒド９．７Ｏｆ　
（５０，０ｍｍｏｌｅ）を１ｏ分で加え、さらに３０分
室温でかくはん。氷冷し、希塩酸を加えて反応を止め、
エチルエーテルを加えて抽出。

エチルエーテル層をとシ出し、水洗９食塩水洗浄後、Ｉ
Ｎ水酸化ナトリウム（２００ｙｔ）を加え抽出。水層を
とシ出し、リン酸を加え酸性とし、イソプロピルエーテ
ルを加えて抽出。イソプロピルエーテル層をとり出し、
水洗９食塩水洗浄、乾燥（硫酸マグネシウム）、溶媒留
去して粗縮合体（１５，５９）を得た。一方、メタノ−
１ｖｃ７ｓｒ；ｉ）を−１０℃に冷却し、塩化チオニ／
Ｌ／７．２１　ＷＩＣ５０ｘ　２　ｍｍｏｌｅ　）を１
０分で滴下。１０分後、粗縮合体（１５，５９）メタノ
−７’　（５０ｗｔ　）　接液を２０分で滴下。１０分
後、水浴をはずし、室温で３０分かくはん。溶媒留去し
、残渣にイソプロピルエーテル、水を加えて抽出。イソ
プロピルエーテル層を食塩水で洗浄、乾燥（硫酸マグネ
シウム）。

ｓｇｍ夫。残渣をシリカゲルカラムクロマトクラフィー
に付し、精製して（イソプロピルエーテル溶出）、６−
（２，５−ジメトキシ−３，６−シメチルフエニ／’Ｌ
’）−５−ヘキセン酸メチＡ／１２．２ｆ（８４％）を
得た。

上記で得た６−（２，５−ジメトキシ−３，６−ジメチ
μフエニＡ／）−５−ヘキセン酸メチル１１２　ｆ　（
４１８ｍｍｏｌｅ）のエタノ−ｆｉ／（１２０ＷＩｔ）
溶液に酸化白金（０，６１９）を加え、室温下、接触還
元を３時間行なった。触媒を炉別し、エタノ−μを減圧
留去。残渣をシリカゲμカラムクｐマトグフフイーに付
し、精製して（イソプロピルエーテル溶出）、６−（２
，５−ジメトキシ−３，６−ジメチμフエ二μ）ヘキサ
ン酸メチ／’Ｌ’ｌＬ８ｇ（９６％）を得たう 参考例５　（化合物番号７） １−（２−テトラハイドルフリ／Ｌ’）−２’、５−ジ
メトキシ−４，６−ジメチルベンゼン１０．Ｏｆ（４２
，４ｍｍｏｌｅ　）の酢酸（１５０寓Ｊり溶液に５％パ
ラジウム−炭素（１，０−）、７０％過塩素酸（０，３
０＊／）を加え、７０℃で接触還元を２．．５時間行な
った。空冷後、水（１０＊／）を加え、触媒を炉別し、
酢酸を減圧留去。残渣にイソゾロ、ピルエーテル、水を
加えて抽出。イソプロピルエーテル層をとシ出し、炭酸
水素ナトリウム水溶液９食塩水で順次洗浄、乾燥（ｖＬ
酸マグネシウム）、溶媒留去。残渣をメタノ−／Ｌ’　
（６０ｍｌ　）に溶解し、３Ｎ水酸化ナトリウム（３０
ｙｌ）を加え、室温で１時間かくはん。メタノールを減
圧留去し、残渣にイソプロピルエーテμを加え抽出。イ
ソプロピルエーテル層／層をとシ出し、食塩水洗浄、乾
燥（ｆｉ！酸マグネシウム）、溶媒留去。Ｍｆｉをシリ
カゲμカラムクロヤトグツフイーに付し、精製して（イ
ソプロピルエーテル溶出）、４−（２，５−ジメトキシ
−４，６−シメチルフエニ／Ｌ／）ブタノール５．２Ｓ
ｔＣ５２％）を得た。

参考例６　（化合物番号８） 無水ピリジン（１００＊／）Ｋかきまぜながら、１５〜
２０℃でよく乾燥し九五酸化クロム１１．３ｆ（１＆９
ｘ６ｍｍｏｌｅ）を少しずつ注意り、テ加、ｔ、橙黄色
かゆ状溶液を調製。この溶液に４−（２。

５−ジメトキＶ−４．６−ジメチμフエニ／Ｌ’）フタ
ノー／Ｉ’４５０　ＩＩ　（１＆９　ｍｏｌｅ）のピリ
ジンＣ３０ｄ）溶液を加え、室温で一晩かくはん（１６
時間）。反応液を氷水にあけ、ジクロルメタン抽出。ジ
クロμメタン層をとシ出し、溶媒留去。残渣にイソプロ
ピμエーテＡ／、Ｉｌｌ塩酸を加え抽出。

イソプロピルエーテル層をとシ出し、食塩水洗浄。

つぎに、イソプロピルエーテル層に１Ｍ水酸化ナトリウ
ム（１００ｍ）を加え抽出。水層をとシ出し、１０％リ
ン酸水溶液を加え、酸性とした後、イソプロピルエーテ
ル抽出。イソプロピルエーテ／Ｌ／層をとシ出し、食塩
水洗浄、乾燥（硫酸マグネシウム）、溶媒留去。残渣を
シリカグルカラムクロマトに付し、精製して（イソプロ
ピルエーテル溶出）、４−Ｃ２，５−ジメトキシ−４，
６−ジメチμフ壬二／Ｌ／）酪酸３．３２ｆ（７０％、
１ｐ２９１〜９２℃、イソプロピルエーテル再結）を得
た。

参考例７　（化合物番号１１） ６−（２，５−ジメトキシ−３，６−ジメチμフエニＡ
／）ヘキサンＮＺメチＡ／２．９４ｆ（１０，Ｏｍｍｏ
ｌｅ　　）イソプロパノ−ＩＶ　７．６６　ｗｅ　（０
，１０ｍｏｌｅ）溶液に、８０℃で濃硫酸（５，Ｏボン
を５分で滴下し、さらに−晩（１５時間）８０℃でかく
はんを続けた。空冷後、氷水、イソプロピルエーテμを
加えて抽出。イソプロピルエーテｌＶ層をとり出し、食
塩水洗浄、乾！（硫酸マグネシウム）、溶媒留去して粗
細合体を得た。一方、メタノール（１５ｇ／）を−１０
セに冷却し、塩化チオニ〃１４４ｇ／（１０ｘ２ｍｍｏ
ｌｅ）を５分で滴下。１０分後、粗細合体・メタノ−／
’（１５ｆｆ／）溶液を１０分で滴下。１０分後、水浴
をはずし、室温で４０分かくはん。溶媒留去し、残渣に
イソプロピルエーテル、水を加えて抽出。イソプロビル
エーテル層を食塩水で洗浄、乾燥（硫酸マグネシウム）
、溶媒留去。残渣をシリカゲルカラムクロマトグツフィ
ーに付し、精製して（ヘキサン／イソプロビルエーテル
溶出）、６−（４−イソプロピル−２，５−ジメトキシ
−３，６−ジメチμフエニＡ／）ヘキサン酸イングロビ
／１１０．５（１（１４％）及び６−（４−イソプロピ
／ｖ−２，５−ジメトキシ−３，６−ジメチμフエニ／
Ｌ／）ヘキサン酸メチＡ／２５８　Ｆ　（７７％）を得
た。

参考例８　（化合物番号１３） ６−（２，５−ジメトキシ−３，６−ジメ千〃フエニ〃
ンヘキサン酸メチ／Ｌ’Ｚ９４　ｆ　（１０，Ｏｍｍｏ
ｌｅ　　）と７クロヘキサノー／Ｉ／１０．５ｍ／（０
，１０ｍｏｌｅ　）との溶液に８０℃で濃硫ｍ（５，Ｏ
ｒ／）を５分で滴下し、さらに２時間８０℃でかくはん
を続けた。以下、参考例７と同様にして、６−（４−シ
クロヘキジ／ｌ／−２，５−ジメトキｓ’−３＊　６−
シメチルフエニ／Ｉ／）ヘキサン酸シクロヘキシ！０．
９６ｆＣ２２％）及び６−（４−シクロヘキシＡ／−２
，５−ジメトキ！’−３，６−ジメチμフエニ／Ｌ／）
ヘキサン酸メチ／Ｌ’λ４ｆｌ（６６％）を得た。

参考例９　（化合物番号１５） ６−（２，５−ジメトキシ−３，６−ジメチ〃）ｘ　＝
　Ａ／　）ヘキサン酸メチＡ／２．９４１Ｆ　（ｌ　Ｑ
、Ｑ　Ｈｍｏｌｅ　）　　シクロペンタノ−Ａ／９．０
　？＋１！／（０，１０ｍｏｌｅ　）溶液に、５０℃で
濃硫酸（ｓ、Ｏｗ／）を５分で滴下し、さらに２時間５
０℃でかくはんを続けた。以下、参考例７と同ｔ１！に
シて、６−（４−シクロベンチ／ｌ／−２，５−ジメト
キＶ−３．６−ジメチ〃ブエニル）ヘキサン酸シクロベ
ンチμ０．５５ｆ（１３％）及び６−（４−Ｖクロベン
チ、Ａ’−２，５−ジメトキ！／−３，６−シメチルフ
エニ／Ｉ／）ヘキサン酸メチＡ／Ｌ８８ｆ（８０％〕を
得た。

参考例１０　（化合物番号２４） ６−（４−イングロビ１ｖ−２，５−ジメトキシ−３，
６−ジメチ〃フエニμ）ヘキサン醒メチ〃１３５９（７
，０闘０１ｅ）と６−（４−イソプロピ／Ｉ／−２，５
−ジメトキシ−３，６−ジメチμフエ二ｌｖ）ヘキサン
酸イソプロピ／Ｉ１０．３６　Ｑ　（１，ＯＨｍｏｌｅ
　）を無水エチルエーデＩＶ　（３０ｗｔｌ　）に溶解
し、水冷下、水素化アルミニウムリチウム０．３０１１
（＆Ｏｍｍｏｌｅ）を５分にわたって加えた。ついで、
水浴をはずし、室温で１時間かくはん。氷冷し、ＩＮＮ
険峻　３０ｓ（）を加えて反応を止め、不溶物をハイフ
ロス−パー七μを通してか別。炉液にイソプリビμエー
テμを加え抽出。有＋１ｉＩＩＩＩをとシ出し、食塩水
洗浄、乾燥（硫酸マグネシウム）、溶媒留去。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグツフィーに付し、精製して（
イソプロピルエーテル溶出）、６−（４−イソプロピ／
Ｉ／−２，５−ジメトキＶ−３，６−’）メチμフエニ
Ａ／）へキサノーＡ／５Ｌ３９＃（９７％）を得た。

参考例１Ｆ　（化合物番号３１） ６−（４−イソプロピ／Ｉ／−２，５−ジメトキシ−３
，６−ジメチルフェニル）へキサノーμ３．０８９（１
０，０ｍｍｏｌｅ）　、　）リエチμアミン２．１０ｙ
／（１０ｘ　１．５　ｍｍｏｌｅ）をジクロルメタン（
２５＊／）に溶解し、−５セに冷却。塩化メタンスルホ
ニ／ｌ／１．３７　ｆ　（１０ｘ　１．２ｍｍｏｌｅ）
ジクロルメタン（５Ｎ／）溶液を２０分にわたって滴下
し、さら［３０分、水冷かくはんを続けた。冷水を加え
て反応を止め、ジクロルメタン層をと夛出し、冷希塩酸
１食塩水で順次洗浄、乾燥（硫酸マグネシウム）、溶媒
留去。残渣をアセトン（５０ｇｔ）に溶解し、ヨウ化ナ
トリウム４．５９（１０ｘ３ｍｍｏｌｅ　）を加え、５
０℃で２時間かくはん。アセトンを減圧留去し、残渣に
イソプロピμエーテμ、水を加えて抽出。イソプロピρ
エーテ／ｌ／Ａｉ１をとシ出し、食塩水洗浄、乾燥（硫
酸マグネシウム）、溶媒留去。残響波をシリカゲルカラ
ムクロマドグフッイーに付し、精製して（ヘキサン／イ
ソプロピルエーテル溶出）、１−ｙｓラウド６−（４−
イソプロピ／Ｌ’−２，５−ジメトキＶ−３，６−ジメ
チ〃フエニ／Ｉ／）ヘキナン３．８５Ｆ（９２％）を得
た。

参考例１２　（化合物番号４２） １−（２−テトラハイドリピヲニルオキシ）−２，７−
オクタジイン３．０５ｆ（１１，８Ｘ１．２５ｍｍｏｌ
ｅ　）の無水テ）ツヒドロフランＣ３０芦ｌ）溶液にナ
トリウムアミド０．８１　＃（１１，８Ｘ１．２５Ｘ　
Ｌ　４　ｍｍｏｌｅ　）を加え、アルゴン算囲気下、５
０℃で２時間かくはん。つぎに−５℃とし、ヘキサメチ
μホスホロアミド（６ば］を添加し、１−ヨウド−３−
（４−イソプロピ〃二２，５−ジメトキシ−３，６−シ
メチルフエニ／Ｉ／）プロパン４．４３ｆ　（Ｉ　１８
　ｍｍｏｌｅ）のテトフヒドロフフン（１８＊／）溶液
を１０分で滴下。さらに３０分、水冷かくはんを続けた
後、水浴をはずし、室温で３０分かくはん。氷冷し、飽
和塩化アンモニウム水を加えて反応を止め、イソプロピ
μエーテμを加えて抽出。有機層をとシ出し、飽和食塩
水で洗浄、乾燥（＆＆酸マグネシウム〕、溶媒留去。残
渣をメタノ−Ａ／（５０ｇ１／）に溶解し、ｐ−）ル二
ンス〃ホン酸０．１１９　（１１，８Ｘ　１／２０韻ｏ
１ｅ　）を加え、７０℃で１５分かくはん。空冷後、炭
酸水素ナトリウム水溶液を加えて中和し、溶媒留去つ残
渣にイソプロピルエーテル、水を加えて抽出。イソプロ
ピμエーテｌｖ層をとシ出し、食塩水洗浄、乾燥（硫酸
マグネシウム）、溶媒留去。残渣をシリカゲルカラムク
ロマドグフッイーに付し、２４１１して（イソプロピμ
エーテｌｖ溶出）、１ｌ−（４−イソプロピ１ｖ−２，
５−ジメトキシ−３，６−ジメチμフエニＩＶ）−２，
’ｌ−ウンデカジインー１−オー／Ｌ／３．９６Ｆ（９
１％）を得た。

上記参考例によって製造した化合物の物性および核磁気
共鳴スペクトμのデータを表３から表５に示した。

（以下余白）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２はいずれか一方が炭素数３〜１
   ２の二または三級の炭素で結合する基を示し、他方は水
   素原子、メチル基またはメトキシ基を示す。Ｒ＾３は水
   素原子またはメチル基を、Ｒ＾４は置換されていてもよ
   いヒドロキシメチル基、エステル化またはアミド化され
   ていてもよいカルボキシル基を、Ｚは−ＣＨ＝ＣＨ−、
   −Ｃ≡Ｃ−、▲数式、化学式、表等があります▼または
   ▲数式、化学式、表等があります▼で示される基を示す
   。ｎは２〜１１の整数を、ｍは０〜３の整数を、ｋは０
   〜５の整数を示す。ただしｍが２または３のとき、ｚお
   よびｋは〔〕内の繰返し単位において任意に変りうるも
   のとする。）で表わされるキノン誘導体。 ２、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２はいずれか一方が炭素数３〜１
   ２の二または三級の炭素で結合する基を示し、他方は水
   素原子、メチル基またはメトキシ基を示す。Ｒ＾３は水
   素原子またはメチル基を、Ｒ＾４は置換されていてもよ
   いヒドロキシメチル基、エステル化またはアミド化され
   ていてもよいカルボキシル基を、Ｚは−ＣＨ＝ＣＨ−、
   −Ｃ≡Ｃ−、▲数式、化学式、表等があります▼または
   ▲数式、化学式、表等があります▼で表わされる基を、
   Ｒ＾５は水素原子、メチル基、メトキシメチル基、ベン
   ジル基、２−テトラヒドロピラニル基を、Ｒ＾６は水素
   原子、水酸基、メトキシ基、メトキシメチルオキシ基、
   ベンジルオキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基
   を、Ｚは−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、▲数式、化学式
   、表等があります▼または▲数式、化学式、表等があり
   ます▼で示される基を示す。ｎは２〜１１の整数を、ｋ
   は０〜５の整数を示す。ただしｍが２または３のときＺ
   およびｋは〔〕内の繰返し単位において任意に変りうる
   ものとする。）で表わされる化合物と酸化剤とを反応さ
   せることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中の各記号は前記と同意義である）で表わされるキ
   ノン誘導体の製造法。 ３、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２はいずれか一方が炭素数３〜１
   ２の二または三級の炭素で結合する基を示し、他方は水
   素原子、メチル基またはメトキシ基を示す。Ｒ＾３は水
   素原子またはメチル基を、Ｒ＾４は置換されていてもよ
   いヒドロキシメチル基、エステル化またはアミド化され
   ていてもよいカルボキシル基を、Ｚは−ＣＲ＝ＣＨ−、
   −Ｃ≡Ｃ−、▲数式、化学式、表等があります▼または
   ▲数式、化学式、表等があります▼で示される基を示す
   。ｎは２〜１１の整数を、ｍは０〜３の整数を、ｋは０
   〜５の整数を示す。ただしｍが２または３のときＺおよ
   びｋは〔〕内の繰返し単位において任意に変りうるもの
   とする。）で表わされるキノン誘導体を有効成分として
   含んでなる医薬組成物。