JPS6147825B2 - - Google Patents
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- JPS6147825B2 JPS6147825B2 JP12694480A JP12694480A JPS6147825B2 JP S6147825 B2 JPS6147825 B2 JP S6147825B2 JP 12694480 A JP12694480 A JP 12694480A JP 12694480 A JP12694480 A JP 12694480A JP S6147825 B2 JPS6147825 B2 JP S6147825B2
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Description
本発明はヒドロキシベンゾニトリル類の製造方
法に関する。 更に詳しくはα，α，α―トリハロメチルフエ
ニルエステル類とアンモニアまたはアンモニア水
（以下アンモニアと称す）との反応によるヒドロ
キシベンゾニトリル類の新規な製造方法に関す
る。 ヒドロキシベンゾニトリル類が殺虫剤、除草
剤、殺菌剤、染料、液晶等の製造の中間物として
極めて有用な化合物である事は良く知られている
ところである。 従来、その製造方法としては(イ)ヒドロキシ安息
香酸またはその誘導体とリン酸アミドまたはリン
酸イミドを反応させる方法（特公昭43―7937号公
報、特公昭43―26290号公報、特公昭51―40072号
公報）、(ロ)アミノフエノール類のサンドマイヤー
反応（J.Chem.Soc.，ジヤーナル オブ ケミカ
ル ソサエテイ，1942，第103頁），(ハ)ハロフエノ
ール類とシアン化銅との反応（J.Am.Chem.Soc.
，ジヤーナル オブ アメリカン ケミカル ソ
サエテイ，80，第3271頁（1958），米国特許第
3259646号明細書，(ニ)ヒドロキシベンズアルドキ
シムの脱水（特公昭45―3372号公報），(ホ)メチル
フエノール類のアンモ酸化による方法（ドイツ特
許第2020866号明細書，ドイツ特許第2037495号明
細書）等が知られている。 しかし、(イ)の方法は反応に250℃付近の高温を
必要とする点、また原料のヒドロキシ安息香酸の
製造に高温高圧が必要な点等に欠点がある。ま
た、(ロ)、(ハ)および(ニ)の方法は高価な原料を使用し
なければならない上、製造方法が繁雑である等工
業的に不利であり、さらに(ホ)の方法は収率が低
く、工業的製造方法としては極めて不満足である
等の欠点を有している。 本発明者らは上述のような欠点のないヒドロキ
シベンゾニトリル類の製造方法について鋭意研究
した結果、α，α，α―トリハロメチルフエニル
エステル類とアンモニアとを反応させる事によつ
て、トリハロメチル基からのニトリル基の生成と
エステル基の分解反応が一挙に起こり、ヒドロキ
シベンゾニトリル類を高収率で生成する事を見い
出し、本発明を完成するに至つた。 すなわち本発明は一般式（） 〔式中、Ｒは同一または相異なり、水素原子、
ハロゲン原子またはニトロ基、Ｘは同種または異
種のハロゲン原子、Ｙは有機または無機の酸残
基、ｍおよびｎはｍ＋ｎ＝５の正の整数、ＰはＹ
の結合価数に応じた正の整数を表わす。〕 で示されるα，α，α―トリハロメチルエステル
類とアンモニアまたはアンモニア水との反応によ
る一般式（） 〔式中、Ｒ、ｍおよびｎは一般式（）と同じ
意味を表わす。〕 で示されるヒドロキシベンゾニトリル類の製造方
法を提供するものである。 以下、本発明方法を詳細に説明する。 本発明方法で用いられる一般式（）で示され
るα，α，α―トリハロメチルフエニルエステル
類としては、例えば、α，α，α―トリクロルメ
チルフエノール、α，α，α―トリブロムメチル
フエノール、α，α，α―トリクロルメチルフロ
ロフエノール、α，α，α―トリクロルメチルク
ロルフエノール、α，α，α―トリクロルメチル
ブロムフエノール、α，α，α―トリクロルメチ
ルヨードフエノール、α，α，α―トリブロムメ
チルクロルフエノール、α，α，α―トリクロル
メチルニトロフエノール、α，α，α―トリブロ
ムメチルニトロフエノール、α，α，α―トリク
ロルメチルジフロロフエノール、α，α，α―ト
リクロルメチルジクロルフエノール、α，α，α
―トリクロルメチルジブロムフエノール、α，
α，α―トリクロルメチルジヨードフエノール、
α，α，α―トリクロルメチルブロムクロルフエ
ノール、α，α，α―トリクロルメチルヨードク
ロルフエノール、α，α，α―トリクロルメチル
ブロムヨードフエノール、α，α，α―トリクロ
ルメチルフロロニトロフエノール、α，α，α―
トリクロルメチルクロルニトロフエノール、α，
α，α―トリクロルメチルブロムニトロフエノー
ル、α，α，α―トリクロルメチルヨードニトロ
フエノール、ジ（α，α，α―トリクロルメチ
ル）フエノール等のフエノール類の各異性体の有
機酸または無機酸のエステルであつて、例えば酢
酸等の有機酸、クロル炭酸、炭酸、リン酸、ホウ
酸等の無機酸のエステルがあげられる。 より具体的に例示すると、ジ（２―α，α，α
―トリクロルメチルフエニル）カーボネート、ジ
（３―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）
カーボネート、ジ（４―α，α，α―トリクロル
メチルフエニル）カーボネート、ジ（３―α，
α，α―トリブロムメチルフエニル）カーボネー
ト、ジ（４―α，α，α―トリブロムメチルフエ
ニル）カーボネート、トリ（２―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）ホスフエート、トリ
（３―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）
ホスフエート、トリ（４―α，α，α―トリクロ
ルメチルフエニル）ホスフエート、３―α，α，
α―トリクロルメチルフエニルクロルカーボネー
ト、４―α，α，α―トリクロルメチルフエニル
クロルカーボネート、４―α，α，α―トリクロ
ルメチルフエニルアセテート、トリ（４―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）ボレート、
ジ（４―フロル―２―α，α，α―トリクロルメ
チルフエニル）カーボネート、ジ（２―フロル―
５―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カ
ーボネート、ジ（３―フロル―４―α，α，α―
トリクロルメチルフエニル）カーボネート、トリ
（３―フロル―４―α，α，α―トリクロルメチ
ルフエニル）ホスフエート、トリ（５―クロル―
２―α，α，α―トリブロムメチルフエニル）ホ
スフエート、トリ（４―クロル―２―α，α，α
―トリクロルメチルフエニル）ボレート、ジ（４
―クロル―２―α，α，α―トリクロルメチルフ
エニル）カーボネート、トリ（４―クロル―２―
α，α，α―トリクロルメチルフエニル）ホスフ
エート、ジ（４―クロル―３―α，α，α―トリ
クロルメチルフエニル）カーボネート、トリ（２
―クロル―５―α，α，α―トリクロルメチルフ
エニル）ホスフエート、ジ（２―クロル―４―
α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カーボ
ネート、トリ（３―クロル―４―α，α，α―ト
リブロムメチルフエニル）ボレート、４―ブロム
―２―α，α，α―トリクロルメチルフエニルク
ロルカーボネート、ジ（５―ブロム―２―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）カーボネー
ト、４―ブロム―３―α，α，α―トリクロルメ
チルフエニルアセテート、ジ（２―ブロム―４―
α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カーボ
ネート、トリ（２―ブロム―４―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）ホスフエート、ジ（３
―ブロム―４―α，α，α―トリクロルメチルフ
エニル）カーボネート、トリ（４―ヨード―２―
α，α，α―トリクロルメチルフエニル）ボレー
ト、ジ（２―ヨード―５―α，α，α―トリクロ
ルメチルフエニル）カーボネート、ジ（２―ヨー
ド―４―α，α，α―トリクロルメチルフエニ
ル）カーボネート、トリ（２―ヨード―４―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）ホスフエー
ト、ジ（４―ニトロ―２―α，α，α―トリクロ
メチルフエニル）カーボネート、トリ（４―ニト
ロ―２―α，α，α―トリクロルメチルフエニ
ル）ホスフエート、ジ（５―ニトロ―２―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）カーボネー
ト、トリ（５―ニトロ―２―α，α，α―トリク
ロルメチルフエニル）ホスフエート、４―ニトロ
―３―α，α，α―トリクロルメチルフエニルア
セテート、ジ（２―ニトロ―５―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）カーボネート、トリ
（２―ニトロ―５―α，α，α―トリクロルメチ
ルフエニル）ホスフエート、ジ（２―ニトロ―４
―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カー
ボネート、トリ（２―ニトロ―４―α，α，α―
トリクロルメチルフエニル）ホスフエート、トリ
（３―ニトロ―４―α，α，α―トリブロムメチ
ルフエニル）ボレート、ジ（２，６―ジフロル―
４―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カ
ーボネート、トリ（３，４―ジクロル―２―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）ホスフエー
ト、２，４―ジクロル―６―α，α，α―トリブ
ロムメチルフエニルアセテート、ジ（２，４―ジ
クロル―５―α，α，α―トリクロルメチルフエ
ニル）カーボネート、ジ（２，６―ジクロル―４
―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カー
ボネート、トリ（２，６―ジクロル―４―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）ホスフエー
ト、ジ（３，５―ジクロル―４―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）カーボネート、トリ
（３，５―ジクロル―４―α，α，α―トリクロ
ルメチルフエニル）ホスフエート、２，４―ジブ
ロム―６―α，α，α―トリクロルメチルフエニ
ルアセテート、ジ（２，４―ジブロム―５―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）カーボネー
ト、ジ（２，６―ジブロム―４―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）カーボネート、トリ
（２，６―ジブロム―４―α，α，α―トリクロ
ルメチルフエニル）ホスフエート、トリ（２，４
―ジヨード―６―α，α，α―トリブロムメチル
フエニル）ボレード、ジ（２，４―ジヨード―５
―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カー
ボネート、ジ（２，６―ジヨード―４―α，α，
α―トリクロルメチルフエニル）カーボネート、
トリ（２，６―ジヨード―４―α，α，α―トリ
クロルメチルフエニル）カーボネート、トリ
（２，６―ジヨード―４―α，α，α―トリクロ
ルメチルフエニル）ホスフエート、ジ（２―クロ
ル―４―ブロム―５―α，α，α―トリクロルメ
チルフエニル）カーボネート、トリ（２―ブロム
―４―ヨード―６―α，α，α―トリクロルメチ
ルフエニル）ホスフエート、ジ（３―クロル―５
―ニトロ―４―α，α，α―トリクロルメチルフ
エニル）カーボネート、ジ（２―クロル―４―ニ
トロ―６―α，α，α―トリクロルメチルフエニ
ル）カーボネート、ジ（２，３，６―トリクロル
―４―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）
カーボネート、ジ〔３，４―ジ（α，α，α―ト
リクロルメチル）フエニル〕カーボネート、トリ
〔２，５―ジ（α，α，α―トリクロルメチル）
フエニル〕ホスフエート、ジ〔２，４―ジ（α，
α，α―トリクロルメチル）フエニル〕カーボネ
ート等があげられるが、本発明方法の実施に際し
て用いられる一般式（）で示されるα，α，α
―トリハロメチルフエニルエステル類は、本発明
の主旨を超えない限りこれらに限定されるもので
はないが、特にα，α，α―トリクロルメチルフ
エノールの炭酸エステルが好ましく用いられる。 上記エステル類は通常、一般式（） 〔式中、Ｒ、ｍおよびｎは一般式（）と同じ
意味を表わす。〕 で示されるメチルフエノール類から簡単に製造す
る事が可能であるが、また他の製品を製造する際
の副生物として副生したも等も使用する事ができ
る。 上記一般式（）のα，α，α―トリハロメチ
ルフエニルエステル類を製造する場合が好ましい
方法を説明すると、まず一般式（）で示される
メチルフエノール類を有機酸または無機酸または
その誘導体を用いてエステル化する。 エステル化を行うに際しては、 (1) 有機または無機酸と一般式（）で示される
メチルフエノール類を無触媒または酸触媒等の
存在下に直接反応させる。 (2) 有機または無機酸の無水物、ハロゲン化物等
と一般式（）で示されるメチルフエノール類
とを、無触媒または酸、アルカリ等の触媒の存
在下に反応させる。 (3) 有機または無機酸エステルと一般式（）で
示されるメチルフエノール類とを無触媒または
酸、アルカリ等の触媒の存在下にエステル交換
せしめる。 等の方法を採用することができ、一般式（）で
示されるメチルフエノール類および有機または無
機酸の種類は、必要に応じ適宜選択される。 引続いてメチルフエノール類のエステルにおけ
るメチル基のハロゲン化を行う。 ハロゲン化は上記の如く製造したメチルフエノ
ール類のエステルに、光またはラジカル開始剤の
存在下または不存下にハロケンを導入する事によ
つて行う事ができる。ハロゲン化は溶媒不存在下
または四塩化炭素、クロロホルム、トリクロルベ
ンゼン等のポリハロゲン化炭化水素溶媒の存在下
に実施することができる。光源としては高圧水銀
灯、タングステン灯、太陽光等を用いる事がで
き、ラジカル開始剤としてはα，α′―アゾ―ビ
ス―イソブチロニトリル等のアゾ化合物、ベンゾ
イルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイ
ド、ｔ―ブチルハイドロパーオキサイド等の過酸
化物等を使用する事ができる。反応温度は通常50
℃〜200℃が採用される。上述の如き方法によれ
ば一般式（）で示されるα，α，α―トリハロ
メチルフエニルエステル類を高収率で簡単に製造
する事ができる。 本発明方法の実施に際し、アンモニアとしては
ガス状または液状のアンモニアまたはアンモニア
水を用いる事ができる。アンモニア水を使用する
場合は、一般に市販されている10〜30重量％程度
の通常のものを使用すれば十分であるが、この範
囲外でも用いることができる。用いるアンモニア
の量は一般式（）で示されるα，α，α―トリ
ハロメチルフエニルエステル類１モルに対して５
〜300モル倍、好ましくは６〜200モル倍である。
アンモニアの量が少ないと収率の低下を来たす
し、アンモニアを過度に多く用いることは工業的
見地から不利である。 反応温度は一般に−20〜200℃、好ましくは０
〜130℃である。反応温度を上記温度より高くす
ると副反応が生じる様になり、一方低くすると反
応完結に長時間を要するのが好ましくない。 反応時間は反応温度に依存するが通常0.5〜10
時間程度で十分である。 本発明方法の実施に於いて、場合によつて前記
反応剤と全く反応しないか、または反応に際し、
実質的に不活性な溶媒を使用することができる。
かかる溶媒としてはヘキサン、ヘプタン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、クロル
ベンゼン、ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素
類、ジフエニルエーテル等のエーテル類等をあげ
る事ができる。 本発明方法によつて前記一般式（）のα，
α，α―トリハロメチルフエニルエステル類とア
ンモニアとを反応せしめる方法としては、 １ アンモニアまたはアンモニア水中に前記一般
式（）のα，α，α―トリハロメチルフエニ
ル類を添加し、反応せしめる方法。 ２ 前記一般式（）のα，α，α―トリハロメ
チルフエニルエステル類中にアンモニアまたは
アンモニア水を添加し、反応せしめる方法。 ３ 前記一般式（）のα，α，α―トリハロメ
チルフエニルエステル類とアンモニアまたはア
ンモニア水を同時に混合し、反応せしめる方
法。 等を採用する事ができ、いずれの方法を採用する
かは必要に応じ適宜選択される。 反応終了後、反応混合物から過剰のアンモニア
を分離した後、塩酸、硫酸等の鉱酸を用いて酸性
にし、適当な有機溶媒で抽出する等の手段により
目的生成物を得ることができる。 ここに得られたヒドロキシベンゾニトリル類は
そのままで充分次の行程に使用できる純度を有す
るが、必要により更に蒸留、再結晶その他の既知
の方法で精製使用する事ができる。 以上詳述した本発明方法によるヒドロキシベン
ゾニトリル類の製造方法の利点をあげると、 １ 反応温度が比較的低温で進行する上、操作が
簡単である。 ２ 反応が極めて選択的であり、高純度のヒドロ
キシベンゾニトリル類が高収率で製造可能であ
る。 等従来法に比べてヒドロキシベンゾニトリル類を
工業的に製造するにあたつて極めて有利である。 以下、実施例により本発明方法を具体的に説明
する。 実施例 １ ４―メチルフエノール162ｇと水酸化ナトリウ
ム61.2ｇを水870ｇに溶解し、さらに１，２―ジ
クロルエルタン545―および触媒としてトリメチ
ルベンジルアンモニウムクロリド0.86ｇを添加し
た後、撹拌しながらその中にホスゲンガス75ｇを
温度30℃で２時間30分にわたつて導入した。導入
終了後30分、同温度で撹拌した後水層を分離し、
有機層を500ｇの水で２回洗滌した。有機層から
１，２―ジクロルエタンを減圧留去してジ（４―
メチルフエニル）カーボネートの結晶180.5ｇを
得た。 得られたジ（４―メチルフエニル）カーボネー
ト48.4ｇを四塩化炭素436ｇに溶解し、100W高圧
水銀灯の照射下に塩素ガス98ｇを50〜60℃で３時
間40分にわたつて導入した。反応混合物から四塩
化炭素を減圧留去して、ジ（４―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）カーボネートの白色結
晶90.0ｇを得た。融点98.5〜99.5℃、元素分析
値；C13.32％，H1.81％，Cl47.33％，（理論値；
C13.38％，H1.79％，Cl47.38％） 以上の如く製造したジ（４―α，α，α―トリ
クロルメチルフエニル）カーボネート45.0ｇと25
重量％アンモニア水105.0ｇを撹拌機付のステン
レス製オートクレープに仕込み、密閉し、100℃
で１時間加熱撹拌し、反応させた。次いで同温度
で過剰のアンモニアを分離し、冷却し、反応混合
物を取り出した後、濃塩酸にてPH１となし、エー
テル100mlで２回抽出した。エーテル層を合わ
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、エーテルを留去
してガスクロマトグラフイー分析による純度98.0
％の４―ヒドロキシベンゾニトリルの結晶23.7ｇ
を得た。このものの融点は110℃〜113℃であり、
元素分析値はC70.6％，H4.3％，N11.7％（理論
値C70.58％，H4.23％，N11.75％）であつた。４
―ヒドロキシベンゾニトリルのジ（４―α，α，
α―トリクロルメチルフエニル）カーボネートに
対する収率は97.5％であつた。 実施例 ２ ３―メチルフエノール324ｇ、無水塩化アルミ
ニウム10ｇを混合し、撹拌下にオキシ塩化リン
159ｇを、温度が30℃付近になる様調節しながら
添加した。添加終了後、温度を80℃〜120℃に昇
温し、N2ガスを吹き込みながら反応させた。塩
酸ガスの発生が認められなくなつてから60℃に冷
却し、300ｇの10重量％のNaOH水溶液で１回、
次いで500ｇの水で２回洗滌した。得られた反応
混合物から5mmHg減圧下に200℃以下の温度で留
出する蒸留分離して、トリ（３―メチルフエニ
ル）ホスフエート347ｇを得た。 得られたトリ（メタクレジル）ホスフエート
73.7ｇを、四塩化炭素570ｇに溶解し、触媒とし
てα，α′―アゾビスイソブチロニトリル1.4ｇを
添加し、撹拌しながら塩素ガス179ｇを75℃〜78
℃で５時間30分にわたつて導入した。反応生成物
から四塩化炭素を減圧留去してトリ（３―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）ホスフエー
ト136ｇを得た。元素分析値；C37.0％，H1.5
％，Cl47.2％（理論値；C37.18％，H1.78％，
Cl47.03％）。 以上の如く製造したトリ（３―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）ホスフエート67.8ｇ、
液体アンモニア122ｇおよび水５ｇをステンレス
製オートクレープに仕込み密閉し、100℃で１時
間加熱撹拌した。次いで同温度で過剰のアンモニ
アを分離し、冷却後、反応生成物を水300ｇに投
入し、以後実施例１と同様の操作を行つたとこ
ろ、ガスクロマトグラフイー分析による純度98.1
％の３―ヒドロキシベンゾニトリルの結晶34.7ｇ
を得た。このものの融点は80℃〜82℃であり、元
素分析値はC70.5％，H4.20％，N11.5％（理論
値；C70.58％，H4.23％，N11.76％）であつた。
３―ヒドロキシベンゾニトリルのトリ（３―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）ホスフエー
トに対する収率は95.3％であつた。 実施例 ３ ２―クロル―４―メチルフエノールを出発原料
として、実施例１と同様の方法および操作を行つ
て製造したジ（２―クロル―４―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）カーボネート51.8ｇ、
トルエン70ｇおよび水10ｇをガス吹込み管、撹拌
機、温度計、還流冷却器を備えたガラス反応器に
仕込み、撹拌下に50℃でアンモニアガス34ｇを５
時間にわたつて導入した。次いでトルエン、アン
モニアおよび水を蒸留分離した後の反応混合物を
水300ｇに投入し、以後実施例１と同様の操作を
行つて、ガスクロマトグラフイー分析による純度
98.0％の３―クロル―４―ヒドロキシベンゾニト
リル28.6ｇを得た。このものの融点は152℃〜154
℃であり、元素分析値はC54.8％，H2.3％，N9.3
％，Cl22.7％（理論値；C54.75％，H2.63％，
N9.12％，Cl23.09％）であつた。３―クロル―４
―ヒドロキシベンゾニトリルのジ（２―クロル―
４―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カ
ーボネートに対する収率は91.3％であつた。 実施例 ４ 実施例３と同様の装置を用い、２―ニトロ―５
―メチルフエノールを出発原料として実施例２と
同様の方法および操作を行つて製造した。 トリ（２―ニトロ―５―α，α，α―トリクロ
ルメチルフエニル）ホスフエート23.1ｇを25重量
％アンモニア水105ｇ中に、０℃で撹拌下に少量
ずつ30分にわたつて添加した。その後、反応器内
温度を０℃から90℃まで３時間にわたつて昇温し
た。以後実施例１と同様の操作を行つてガスクロ
マトグラフイー分析による純度94.8％の３―ヒド
ロキシ―４―ニトロベンゾニトリルの結晶13.1ｇ
を得た。このものの融点は116℃〜119℃であり、
元素分析値はC51.9％，H2.3％，N17.3％，（理論
値；C51.23％，H2.46％，N17.06％）であつた。
３―ヒドロキシ―４―ニトロベンゾニトリルのト
リ（２―ニトロ―５―α，α，α―トリクロルメ
チルフエニルホスフエートに対する収率は86.0％
であつた。 実施例 ５〜19 各種メチルフエノール類を出発原料とし、実施
例１と同様の方法にて製造した各種α，α，α―
トリハロメチルフエノールの炭酸エステルを25重
量％アンモニア水と反応させ、次いで実施例１と
同様の操作を行つた結果を第１表に示す。第１表
において収率はいずれもα，α，α―トリハロメ
チルフエニルエステル基準である。
法に関する。 更に詳しくはα，α，α―トリハロメチルフエ
ニルエステル類とアンモニアまたはアンモニア水
（以下アンモニアと称す）との反応によるヒドロ
キシベンゾニトリル類の新規な製造方法に関す
る。 ヒドロキシベンゾニトリル類が殺虫剤、除草
剤、殺菌剤、染料、液晶等の製造の中間物として
極めて有用な化合物である事は良く知られている
ところである。 従来、その製造方法としては(イ)ヒドロキシ安息
香酸またはその誘導体とリン酸アミドまたはリン
酸イミドを反応させる方法（特公昭43―7937号公
報、特公昭43―26290号公報、特公昭51―40072号
公報）、(ロ)アミノフエノール類のサンドマイヤー
反応（J.Chem.Soc.，ジヤーナル オブ ケミカ
ル ソサエテイ，1942，第103頁），(ハ)ハロフエノ
ール類とシアン化銅との反応（J.Am.Chem.Soc.
，ジヤーナル オブ アメリカン ケミカル ソ
サエテイ，80，第3271頁（1958），米国特許第
3259646号明細書，(ニ)ヒドロキシベンズアルドキ
シムの脱水（特公昭45―3372号公報），(ホ)メチル
フエノール類のアンモ酸化による方法（ドイツ特
許第2020866号明細書，ドイツ特許第2037495号明
細書）等が知られている。 しかし、(イ)の方法は反応に250℃付近の高温を
必要とする点、また原料のヒドロキシ安息香酸の
製造に高温高圧が必要な点等に欠点がある。ま
た、(ロ)、(ハ)および(ニ)の方法は高価な原料を使用し
なければならない上、製造方法が繁雑である等工
業的に不利であり、さらに(ホ)の方法は収率が低
く、工業的製造方法としては極めて不満足である
等の欠点を有している。 本発明者らは上述のような欠点のないヒドロキ
シベンゾニトリル類の製造方法について鋭意研究
した結果、α，α，α―トリハロメチルフエニル
エステル類とアンモニアとを反応させる事によつ
て、トリハロメチル基からのニトリル基の生成と
エステル基の分解反応が一挙に起こり、ヒドロキ
シベンゾニトリル類を高収率で生成する事を見い
出し、本発明を完成するに至つた。 すなわち本発明は一般式（） 〔式中、Ｒは同一または相異なり、水素原子、
ハロゲン原子またはニトロ基、Ｘは同種または異
種のハロゲン原子、Ｙは有機または無機の酸残
基、ｍおよびｎはｍ＋ｎ＝５の正の整数、ＰはＹ
の結合価数に応じた正の整数を表わす。〕 で示されるα，α，α―トリハロメチルエステル
類とアンモニアまたはアンモニア水との反応によ
る一般式（） 〔式中、Ｒ、ｍおよびｎは一般式（）と同じ
意味を表わす。〕 で示されるヒドロキシベンゾニトリル類の製造方
法を提供するものである。 以下、本発明方法を詳細に説明する。 本発明方法で用いられる一般式（）で示され
るα，α，α―トリハロメチルフエニルエステル
類としては、例えば、α，α，α―トリクロルメ
チルフエノール、α，α，α―トリブロムメチル
フエノール、α，α，α―トリクロルメチルフロ
ロフエノール、α，α，α―トリクロルメチルク
ロルフエノール、α，α，α―トリクロルメチル
ブロムフエノール、α，α，α―トリクロルメチ
ルヨードフエノール、α，α，α―トリブロムメ
チルクロルフエノール、α，α，α―トリクロル
メチルニトロフエノール、α，α，α―トリブロ
ムメチルニトロフエノール、α，α，α―トリク
ロルメチルジフロロフエノール、α，α，α―ト
リクロルメチルジクロルフエノール、α，α，α
―トリクロルメチルジブロムフエノール、α，
α，α―トリクロルメチルジヨードフエノール、
α，α，α―トリクロルメチルブロムクロルフエ
ノール、α，α，α―トリクロルメチルヨードク
ロルフエノール、α，α，α―トリクロルメチル
ブロムヨードフエノール、α，α，α―トリクロ
ルメチルフロロニトロフエノール、α，α，α―
トリクロルメチルクロルニトロフエノール、α，
α，α―トリクロルメチルブロムニトロフエノー
ル、α，α，α―トリクロルメチルヨードニトロ
フエノール、ジ（α，α，α―トリクロルメチ
ル）フエノール等のフエノール類の各異性体の有
機酸または無機酸のエステルであつて、例えば酢
酸等の有機酸、クロル炭酸、炭酸、リン酸、ホウ
酸等の無機酸のエステルがあげられる。 より具体的に例示すると、ジ（２―α，α，α
―トリクロルメチルフエニル）カーボネート、ジ
（３―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）
カーボネート、ジ（４―α，α，α―トリクロル
メチルフエニル）カーボネート、ジ（３―α，
α，α―トリブロムメチルフエニル）カーボネー
ト、ジ（４―α，α，α―トリブロムメチルフエ
ニル）カーボネート、トリ（２―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）ホスフエート、トリ
（３―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）
ホスフエート、トリ（４―α，α，α―トリクロ
ルメチルフエニル）ホスフエート、３―α，α，
α―トリクロルメチルフエニルクロルカーボネー
ト、４―α，α，α―トリクロルメチルフエニル
クロルカーボネート、４―α，α，α―トリクロ
ルメチルフエニルアセテート、トリ（４―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）ボレート、
ジ（４―フロル―２―α，α，α―トリクロルメ
チルフエニル）カーボネート、ジ（２―フロル―
５―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カ
ーボネート、ジ（３―フロル―４―α，α，α―
トリクロルメチルフエニル）カーボネート、トリ
（３―フロル―４―α，α，α―トリクロルメチ
ルフエニル）ホスフエート、トリ（５―クロル―
２―α，α，α―トリブロムメチルフエニル）ホ
スフエート、トリ（４―クロル―２―α，α，α
―トリクロルメチルフエニル）ボレート、ジ（４
―クロル―２―α，α，α―トリクロルメチルフ
エニル）カーボネート、トリ（４―クロル―２―
α，α，α―トリクロルメチルフエニル）ホスフ
エート、ジ（４―クロル―３―α，α，α―トリ
クロルメチルフエニル）カーボネート、トリ（２
―クロル―５―α，α，α―トリクロルメチルフ
エニル）ホスフエート、ジ（２―クロル―４―
α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カーボ
ネート、トリ（３―クロル―４―α，α，α―ト
リブロムメチルフエニル）ボレート、４―ブロム
―２―α，α，α―トリクロルメチルフエニルク
ロルカーボネート、ジ（５―ブロム―２―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）カーボネー
ト、４―ブロム―３―α，α，α―トリクロルメ
チルフエニルアセテート、ジ（２―ブロム―４―
α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カーボ
ネート、トリ（２―ブロム―４―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）ホスフエート、ジ（３
―ブロム―４―α，α，α―トリクロルメチルフ
エニル）カーボネート、トリ（４―ヨード―２―
α，α，α―トリクロルメチルフエニル）ボレー
ト、ジ（２―ヨード―５―α，α，α―トリクロ
ルメチルフエニル）カーボネート、ジ（２―ヨー
ド―４―α，α，α―トリクロルメチルフエニ
ル）カーボネート、トリ（２―ヨード―４―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）ホスフエー
ト、ジ（４―ニトロ―２―α，α，α―トリクロ
メチルフエニル）カーボネート、トリ（４―ニト
ロ―２―α，α，α―トリクロルメチルフエニ
ル）ホスフエート、ジ（５―ニトロ―２―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）カーボネー
ト、トリ（５―ニトロ―２―α，α，α―トリク
ロルメチルフエニル）ホスフエート、４―ニトロ
―３―α，α，α―トリクロルメチルフエニルア
セテート、ジ（２―ニトロ―５―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）カーボネート、トリ
（２―ニトロ―５―α，α，α―トリクロルメチ
ルフエニル）ホスフエート、ジ（２―ニトロ―４
―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カー
ボネート、トリ（２―ニトロ―４―α，α，α―
トリクロルメチルフエニル）ホスフエート、トリ
（３―ニトロ―４―α，α，α―トリブロムメチ
ルフエニル）ボレート、ジ（２，６―ジフロル―
４―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カ
ーボネート、トリ（３，４―ジクロル―２―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）ホスフエー
ト、２，４―ジクロル―６―α，α，α―トリブ
ロムメチルフエニルアセテート、ジ（２，４―ジ
クロル―５―α，α，α―トリクロルメチルフエ
ニル）カーボネート、ジ（２，６―ジクロル―４
―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カー
ボネート、トリ（２，６―ジクロル―４―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）ホスフエー
ト、ジ（３，５―ジクロル―４―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）カーボネート、トリ
（３，５―ジクロル―４―α，α，α―トリクロ
ルメチルフエニル）ホスフエート、２，４―ジブ
ロム―６―α，α，α―トリクロルメチルフエニ
ルアセテート、ジ（２，４―ジブロム―５―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）カーボネー
ト、ジ（２，６―ジブロム―４―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）カーボネート、トリ
（２，６―ジブロム―４―α，α，α―トリクロ
ルメチルフエニル）ホスフエート、トリ（２，４
―ジヨード―６―α，α，α―トリブロムメチル
フエニル）ボレード、ジ（２，４―ジヨード―５
―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カー
ボネート、ジ（２，６―ジヨード―４―α，α，
α―トリクロルメチルフエニル）カーボネート、
トリ（２，６―ジヨード―４―α，α，α―トリ
クロルメチルフエニル）カーボネート、トリ
（２，６―ジヨード―４―α，α，α―トリクロ
ルメチルフエニル）ホスフエート、ジ（２―クロ
ル―４―ブロム―５―α，α，α―トリクロルメ
チルフエニル）カーボネート、トリ（２―ブロム
―４―ヨード―６―α，α，α―トリクロルメチ
ルフエニル）ホスフエート、ジ（３―クロル―５
―ニトロ―４―α，α，α―トリクロルメチルフ
エニル）カーボネート、ジ（２―クロル―４―ニ
トロ―６―α，α，α―トリクロルメチルフエニ
ル）カーボネート、ジ（２，３，６―トリクロル
―４―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）
カーボネート、ジ〔３，４―ジ（α，α，α―ト
リクロルメチル）フエニル〕カーボネート、トリ
〔２，５―ジ（α，α，α―トリクロルメチル）
フエニル〕ホスフエート、ジ〔２，４―ジ（α，
α，α―トリクロルメチル）フエニル〕カーボネ
ート等があげられるが、本発明方法の実施に際し
て用いられる一般式（）で示されるα，α，α
―トリハロメチルフエニルエステル類は、本発明
の主旨を超えない限りこれらに限定されるもので
はないが、特にα，α，α―トリクロルメチルフ
エノールの炭酸エステルが好ましく用いられる。 上記エステル類は通常、一般式（） 〔式中、Ｒ、ｍおよびｎは一般式（）と同じ
意味を表わす。〕 で示されるメチルフエノール類から簡単に製造す
る事が可能であるが、また他の製品を製造する際
の副生物として副生したも等も使用する事ができ
る。 上記一般式（）のα，α，α―トリハロメチ
ルフエニルエステル類を製造する場合が好ましい
方法を説明すると、まず一般式（）で示される
メチルフエノール類を有機酸または無機酸または
その誘導体を用いてエステル化する。 エステル化を行うに際しては、 (1) 有機または無機酸と一般式（）で示される
メチルフエノール類を無触媒または酸触媒等の
存在下に直接反応させる。 (2) 有機または無機酸の無水物、ハロゲン化物等
と一般式（）で示されるメチルフエノール類
とを、無触媒または酸、アルカリ等の触媒の存
在下に反応させる。 (3) 有機または無機酸エステルと一般式（）で
示されるメチルフエノール類とを無触媒または
酸、アルカリ等の触媒の存在下にエステル交換
せしめる。 等の方法を採用することができ、一般式（）で
示されるメチルフエノール類および有機または無
機酸の種類は、必要に応じ適宜選択される。 引続いてメチルフエノール類のエステルにおけ
るメチル基のハロゲン化を行う。 ハロゲン化は上記の如く製造したメチルフエノ
ール類のエステルに、光またはラジカル開始剤の
存在下または不存下にハロケンを導入する事によ
つて行う事ができる。ハロゲン化は溶媒不存在下
または四塩化炭素、クロロホルム、トリクロルベ
ンゼン等のポリハロゲン化炭化水素溶媒の存在下
に実施することができる。光源としては高圧水銀
灯、タングステン灯、太陽光等を用いる事がで
き、ラジカル開始剤としてはα，α′―アゾ―ビ
ス―イソブチロニトリル等のアゾ化合物、ベンゾ
イルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイ
ド、ｔ―ブチルハイドロパーオキサイド等の過酸
化物等を使用する事ができる。反応温度は通常50
℃〜200℃が採用される。上述の如き方法によれ
ば一般式（）で示されるα，α，α―トリハロ
メチルフエニルエステル類を高収率で簡単に製造
する事ができる。 本発明方法の実施に際し、アンモニアとしては
ガス状または液状のアンモニアまたはアンモニア
水を用いる事ができる。アンモニア水を使用する
場合は、一般に市販されている10〜30重量％程度
の通常のものを使用すれば十分であるが、この範
囲外でも用いることができる。用いるアンモニア
の量は一般式（）で示されるα，α，α―トリ
ハロメチルフエニルエステル類１モルに対して５
〜300モル倍、好ましくは６〜200モル倍である。
アンモニアの量が少ないと収率の低下を来たす
し、アンモニアを過度に多く用いることは工業的
見地から不利である。 反応温度は一般に−20〜200℃、好ましくは０
〜130℃である。反応温度を上記温度より高くす
ると副反応が生じる様になり、一方低くすると反
応完結に長時間を要するのが好ましくない。 反応時間は反応温度に依存するが通常0.5〜10
時間程度で十分である。 本発明方法の実施に於いて、場合によつて前記
反応剤と全く反応しないか、または反応に際し、
実質的に不活性な溶媒を使用することができる。
かかる溶媒としてはヘキサン、ヘプタン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、クロル
ベンゼン、ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素
類、ジフエニルエーテル等のエーテル類等をあげ
る事ができる。 本発明方法によつて前記一般式（）のα，
α，α―トリハロメチルフエニルエステル類とア
ンモニアとを反応せしめる方法としては、 １ アンモニアまたはアンモニア水中に前記一般
式（）のα，α，α―トリハロメチルフエニ
ル類を添加し、反応せしめる方法。 ２ 前記一般式（）のα，α，α―トリハロメ
チルフエニルエステル類中にアンモニアまたは
アンモニア水を添加し、反応せしめる方法。 ３ 前記一般式（）のα，α，α―トリハロメ
チルフエニルエステル類とアンモニアまたはア
ンモニア水を同時に混合し、反応せしめる方
法。 等を採用する事ができ、いずれの方法を採用する
かは必要に応じ適宜選択される。 反応終了後、反応混合物から過剰のアンモニア
を分離した後、塩酸、硫酸等の鉱酸を用いて酸性
にし、適当な有機溶媒で抽出する等の手段により
目的生成物を得ることができる。 ここに得られたヒドロキシベンゾニトリル類は
そのままで充分次の行程に使用できる純度を有す
るが、必要により更に蒸留、再結晶その他の既知
の方法で精製使用する事ができる。 以上詳述した本発明方法によるヒドロキシベン
ゾニトリル類の製造方法の利点をあげると、 １ 反応温度が比較的低温で進行する上、操作が
簡単である。 ２ 反応が極めて選択的であり、高純度のヒドロ
キシベンゾニトリル類が高収率で製造可能であ
る。 等従来法に比べてヒドロキシベンゾニトリル類を
工業的に製造するにあたつて極めて有利である。 以下、実施例により本発明方法を具体的に説明
する。 実施例 １ ４―メチルフエノール162ｇと水酸化ナトリウ
ム61.2ｇを水870ｇに溶解し、さらに１，２―ジ
クロルエルタン545―および触媒としてトリメチ
ルベンジルアンモニウムクロリド0.86ｇを添加し
た後、撹拌しながらその中にホスゲンガス75ｇを
温度30℃で２時間30分にわたつて導入した。導入
終了後30分、同温度で撹拌した後水層を分離し、
有機層を500ｇの水で２回洗滌した。有機層から
１，２―ジクロルエタンを減圧留去してジ（４―
メチルフエニル）カーボネートの結晶180.5ｇを
得た。 得られたジ（４―メチルフエニル）カーボネー
ト48.4ｇを四塩化炭素436ｇに溶解し、100W高圧
水銀灯の照射下に塩素ガス98ｇを50〜60℃で３時
間40分にわたつて導入した。反応混合物から四塩
化炭素を減圧留去して、ジ（４―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）カーボネートの白色結
晶90.0ｇを得た。融点98.5〜99.5℃、元素分析
値；C13.32％，H1.81％，Cl47.33％，（理論値；
C13.38％，H1.79％，Cl47.38％） 以上の如く製造したジ（４―α，α，α―トリ
クロルメチルフエニル）カーボネート45.0ｇと25
重量％アンモニア水105.0ｇを撹拌機付のステン
レス製オートクレープに仕込み、密閉し、100℃
で１時間加熱撹拌し、反応させた。次いで同温度
で過剰のアンモニアを分離し、冷却し、反応混合
物を取り出した後、濃塩酸にてPH１となし、エー
テル100mlで２回抽出した。エーテル層を合わ
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、エーテルを留去
してガスクロマトグラフイー分析による純度98.0
％の４―ヒドロキシベンゾニトリルの結晶23.7ｇ
を得た。このものの融点は110℃〜113℃であり、
元素分析値はC70.6％，H4.3％，N11.7％（理論
値C70.58％，H4.23％，N11.75％）であつた。４
―ヒドロキシベンゾニトリルのジ（４―α，α，
α―トリクロルメチルフエニル）カーボネートに
対する収率は97.5％であつた。 実施例 ２ ３―メチルフエノール324ｇ、無水塩化アルミ
ニウム10ｇを混合し、撹拌下にオキシ塩化リン
159ｇを、温度が30℃付近になる様調節しながら
添加した。添加終了後、温度を80℃〜120℃に昇
温し、N2ガスを吹き込みながら反応させた。塩
酸ガスの発生が認められなくなつてから60℃に冷
却し、300ｇの10重量％のNaOH水溶液で１回、
次いで500ｇの水で２回洗滌した。得られた反応
混合物から5mmHg減圧下に200℃以下の温度で留
出する蒸留分離して、トリ（３―メチルフエニ
ル）ホスフエート347ｇを得た。 得られたトリ（メタクレジル）ホスフエート
73.7ｇを、四塩化炭素570ｇに溶解し、触媒とし
てα，α′―アゾビスイソブチロニトリル1.4ｇを
添加し、撹拌しながら塩素ガス179ｇを75℃〜78
℃で５時間30分にわたつて導入した。反応生成物
から四塩化炭素を減圧留去してトリ（３―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）ホスフエー
ト136ｇを得た。元素分析値；C37.0％，H1.5
％，Cl47.2％（理論値；C37.18％，H1.78％，
Cl47.03％）。 以上の如く製造したトリ（３―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）ホスフエート67.8ｇ、
液体アンモニア122ｇおよび水５ｇをステンレス
製オートクレープに仕込み密閉し、100℃で１時
間加熱撹拌した。次いで同温度で過剰のアンモニ
アを分離し、冷却後、反応生成物を水300ｇに投
入し、以後実施例１と同様の操作を行つたとこ
ろ、ガスクロマトグラフイー分析による純度98.1
％の３―ヒドロキシベンゾニトリルの結晶34.7ｇ
を得た。このものの融点は80℃〜82℃であり、元
素分析値はC70.5％，H4.20％，N11.5％（理論
値；C70.58％，H4.23％，N11.76％）であつた。
３―ヒドロキシベンゾニトリルのトリ（３―α，
α，α―トリクロルメチルフエニル）ホスフエー
トに対する収率は95.3％であつた。 実施例 ３ ２―クロル―４―メチルフエノールを出発原料
として、実施例１と同様の方法および操作を行つ
て製造したジ（２―クロル―４―α，α，α―ト
リクロルメチルフエニル）カーボネート51.8ｇ、
トルエン70ｇおよび水10ｇをガス吹込み管、撹拌
機、温度計、還流冷却器を備えたガラス反応器に
仕込み、撹拌下に50℃でアンモニアガス34ｇを５
時間にわたつて導入した。次いでトルエン、アン
モニアおよび水を蒸留分離した後の反応混合物を
水300ｇに投入し、以後実施例１と同様の操作を
行つて、ガスクロマトグラフイー分析による純度
98.0％の３―クロル―４―ヒドロキシベンゾニト
リル28.6ｇを得た。このものの融点は152℃〜154
℃であり、元素分析値はC54.8％，H2.3％，N9.3
％，Cl22.7％（理論値；C54.75％，H2.63％，
N9.12％，Cl23.09％）であつた。３―クロル―４
―ヒドロキシベンゾニトリルのジ（２―クロル―
４―α，α，α―トリクロルメチルフエニル）カ
ーボネートに対する収率は91.3％であつた。 実施例 ４ 実施例３と同様の装置を用い、２―ニトロ―５
―メチルフエノールを出発原料として実施例２と
同様の方法および操作を行つて製造した。 トリ（２―ニトロ―５―α，α，α―トリクロ
ルメチルフエニル）ホスフエート23.1ｇを25重量
％アンモニア水105ｇ中に、０℃で撹拌下に少量
ずつ30分にわたつて添加した。その後、反応器内
温度を０℃から90℃まで３時間にわたつて昇温し
た。以後実施例１と同様の操作を行つてガスクロ
マトグラフイー分析による純度94.8％の３―ヒド
ロキシ―４―ニトロベンゾニトリルの結晶13.1ｇ
を得た。このものの融点は116℃〜119℃であり、
元素分析値はC51.9％，H2.3％，N17.3％，（理論
値；C51.23％，H2.46％，N17.06％）であつた。
３―ヒドロキシ―４―ニトロベンゾニトリルのト
リ（２―ニトロ―５―α，α，α―トリクロルメ
チルフエニルホスフエートに対する収率は86.0％
であつた。 実施例 ５〜19 各種メチルフエノール類を出発原料とし、実施
例１と同様の方法にて製造した各種α，α，α―
トリハロメチルフエノールの炭酸エステルを25重
量％アンモニア水と反応させ、次いで実施例１と
同様の操作を行つた結果を第１表に示す。第１表
において収率はいずれもα，α，α―トリハロメ
チルフエニルエステル基準である。
【表】
【表】
【表】
実施例 20〜25
各種メチルフエノール類を出発原料とし、実施
例２と同様の方法にて製造した各種α，α，α―
トリハロメチルフエノール類のリン酸エステルを
25重量％アンモニア水と反応させ、次いで実施例
１と同様の操作を行つた。 結果を第２表に示す。 第２表において収率はいずれもα，α，α―ト
リハロメチルフエニルエステル基準である。
例２と同様の方法にて製造した各種α，α，α―
トリハロメチルフエノール類のリン酸エステルを
25重量％アンモニア水と反応させ、次いで実施例
１と同様の操作を行つた。 結果を第２表に示す。 第２表において収率はいずれもα，α，α―ト
リハロメチルフエニルエステル基準である。
【表】
実施例 26〜28
実施例１と同様の方法および操作で４―α，
α，α―トリクロルメチルフエノールの各種有機
酸および無機酸エステルとアンモニア水とを反応
させた。 結果を第３表に示す。 第３表において収率はいずれも４―α，α，α
―トリクロルメチルフエニルエステル基準であ
る。
α，α―トリクロルメチルフエノールの各種有機
酸および無機酸エステルとアンモニア水とを反応
させた。 結果を第３表に示す。 第３表において収率はいずれも４―α，α，α
―トリクロルメチルフエニルエステル基準であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（） 〔式中、Ｒは同一または相異なり、水素原子、
ハロゲン原子またはニトロ基、Ｘは同種または異
種のハロゲン原子、Ｙは有機または無機の酸残
基、ｍおよびｎはｍ＋ｎ＝５の正の数、ＰはＹの
結合価数に応じた正の整数を表わす。〕 で示されるα，α，α―トリハロメチルフエニル
エステル類をアンモニアまたはアンモニア水と反
応させる事を特徴とする一般式（） 〔式中、Ｒ、ｍおよびｎは一般式（）と同じ
意味を表わす。〕 で示されるヒドロキシベンゾニトリル類の製造方
法。 ２ 一般式（）で示される。α，α，α―トリ
ハロメチルフエニルエステル類をアンモニアまた
はアンモニア水とを−20゜〜200℃で反応させる
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のヒ
ドロキシベンゾニトリル類の製造方法。 ３ 一般式（）で示されるα，α，α―トリハ
ロメチルフエニルエステル類１モルに対して５〜
300モル倍のアンモニアまたはアンモニア水を用
いる事を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
ヒドロキシベンゾニトリル類の製造方法。 ４ 一般式（）においてＹが【式】 【式】【式】【式】または 【式】の化学式で示される酸残基であることを特 徴とする特許請求の範囲第１項記載のヒドロキシ
ベンゾニトリル類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12694480A JPS5750953A (en) | 1980-09-11 | 1980-09-11 | Preparation of hydroxybenzonitriles |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12694480A JPS5750953A (en) | 1980-09-11 | 1980-09-11 | Preparation of hydroxybenzonitriles |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5750953A JPS5750953A (en) | 1982-03-25 |
| JPS6147825B2 true JPS6147825B2 (ja) | 1986-10-21 |
Family
ID=14947752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12694480A Granted JPS5750953A (en) | 1980-09-11 | 1980-09-11 | Preparation of hydroxybenzonitriles |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5750953A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5991493U (ja) * | 1982-12-14 | 1984-06-21 | 東芝熱器具株式会社 | 電動送風機 |
| JPS61122397U (ja) * | 1985-01-21 | 1986-08-01 | ||
| JPS63115596U (ja) * | 1987-01-23 | 1988-07-26 | ||
| JP4892853B2 (ja) * | 2005-04-07 | 2012-03-07 | Ｊｎｃ株式会社 | カーボネート結合基を有する液晶性化合物、この化合物を含有する液晶組成物およびこの液晶組成物を含有する液晶表示素子 |
-
1980
- 1980-09-11 JP JP12694480A patent/JPS5750953A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5750953A (en) | 1982-03-25 |
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