JPS6151101A - 被覆透明導電パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は画像認識と耐久性にすぐれた入力装置などに有
用な透明でかつ導電性を有するガラス基板パネルに関す
る。

〔従来の技術〕

ディスプレイの表示面上にその指示１図形に従って入力
を行なうことは他のキーボードなどの画面と離れた位置
での入力に比較して簡便で誤動作が少ない。さらに入カ
ゲードを一定化しその下の入力指示をテーブルなどの差
しかえによって多種の入力を可能ならしめることが考え
られる。この際前記の表示画面、可変テーブルを１４か
らその面上で入力させるための透明でかつ入力位置が検
出される入力装置が必要であり、光センサを用いるもの
、ストレインゲージを用いるもの、透明電極の接触によ
シ入力するものなど各種の方式が提案されている。本発
明は透明電極としての透明導電膜上に誘電体を被覆しこ
れを指またはその他の物体で接触しｔ静電容量変化から
入力位置を検出する方式において表示面に重ねるべき被
覆透明導電パネルに関するものである。ここで透明導電
膜を被覆するに要する被膜としては所定の範囲内の静電
容量を有する誘電体を用いれば良いのであるが、耐久性
とくに透明性の維持および絶縁膜の保護の観点からは硬
質の被膜が好ましい。かかる硬質の被膜を基材上に形成
する一般的な方法としては蒸着、スパッタリングによる
無機薄膜の形成法が古くから知られておシ、また液相か
ら形成するものとしてプラスチックレンズなどに用いら
れた有機ケイ素系高、硬度被膜（例えば特公昭５１−２
３４３　、特開昭５２−１１９６１８　）さらに反射防
止効果を有する被膜の提案（特開昭５６−７４２０２　
）がある。

上記透明導電パネルにあってはデイスプンーに装着した
場合、パネルの背面にある画像を明瞭に見るためには観
察者およびその背後からの反射像はきわめてわずられし
いものでありｔこれを消去ないし減少することが必要で
あシこれまでのパネルとくに硬質の誘電体を被膜に有す
るものについてはこの点で満足すべきものはなかった。

〔発明が解決しようとする問題点〕

硬質被膜としての無機薄膜は硬度、付着性などに有効で
ある半面ｐ薄膜形成の能率が低いこと。

膜厚制御の困難さ、とくに１μｍ前後以上の膜における
耐熱性の低さが問題になる。一方通常の有機系被膜はと
くにウェットコートの場合には被膜形成の能率、膜厚制
御は比較的容易であるが被膜の耐久性とくにその硬度が
低いだめにすシ傷などの欠陥が生じ易い。さらに全般に
比較的強い光の下゛（ で入力しようとする場合はそのパネル上での反射像のた
めに表示がちらついたシして見にくいことがあ夛。

透明導電パネルは本来その背後の画像を透過光により認
識し、パネル上で入力を行なうものであるからその際操
作者、またはその背後の反射像が鮮明になることは画像
の誤認、入力ミス、さらには長時間の使用の場合の操作
者への悪い影響などが生じ易い。従来のパネルとくに被
膜を形成しないものについては原理的に反射防止処理が
困難であ）、十分なものは得られていなかった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は上記問題点を一挙に解決するものでガーラス基
板上の全面もしくはその１部に透明導電性を有する層を
設けかつその上から誘電体被膜を設けてなる透明導電層
を中間に有するパネルに関するものであってかつ誘電体
被膜が反射防止効果すなわち外部の物体のパネル表面で
の反射像を不鮮明にする効果を有するパネルに関するも
のである。

ここでいう誘電体被膜は本発明の目的を達成するために
は従来のハードニートないしは表面高硬度化材の名で知
られているコーティング組成物から得られる被膜が使用
され、これらの中でもとくに次の４種が好ましく用いら
れる。

（１）　　一般式　Ｒａ　Ｒｂ　Ｓｉ　（ＯＲ’　）ａ
　−（’　”　＋１）で表わされる化合物ないしはその
加水分解物の少なくとも１種から得られる被膜 °（ここでＲ１、Ｒ２はＣ１〜Ｃ１゜のアルキル、アリ
ール、ハロゲン化プルキル、へロ′クン化アリール。

アルケニルまたはエボキレ基、（メタ）アクリルオキシ
基、アミノ−基、メルカプト基もしくはシプノ基を有す
る有機基であって炭素−ケイ素結合で８１に結合されて
いるものであｐ、ＢＳはＣ，−Ｃ，のアルキル基、アル
コキシアルキル基またはアシル基であり、ａおよびｂは
０，１または２でかつａ。

＋−ｂは０，１または２である。） （２）　　前項化合物ないしはその化合物の少なくとも
１種と平均粒子径約１〜２００ｎｍの微粒子状シリカか
ら得られる被膜 （３）下記の成分Ａ、　　Ｂから成ることを特徴とする
被覆組成物から得られる被膜 Ａ、一般式ＲンＲ’Ｏ）ｓ−、Ｓｉ’で示される基を有
するビニル重合体 （ここでＲ４はメチル基またはヱチル基　Ｒ５は炭素数
４以下のアルキル基、アルコキシアルキル基またはアシ
ル基であってケイ素は５ｉ−ｃ結合によって重合体に結
合されておｊｊ）　、　　ｍは０．１または２である。

） Ｂ、平均粒子径約１〜２００ｎｍの微粒子状シリカ （４）１分子中に少なくとも２個の重合性炭素−炭素不
飽和結合を有する化合物を活性エネルギー−〇照射によ
り架橋硬化せしめることによって得られる被膜 本発明に用いられるガラス基板は透明なものであればと
くに限定されない。ここで透明であるとは本発明の目的
に必要な程度に、透明導電板の後方に萎る各種表示が十
分に識別できれば良く、必　、ずしも無色あるいはクリ
アである必要はない。かえって画像のコントラストを上
げたりちらつきをなくするために着色した基板を用いた
９９画像の認識をｉげない程度の微小凹凸をつけること
も可能である。

また使用される基板の形状は必ずしも平板である必要は
なく２例えばＣＲＴのような曲面の表示装置に装着され
る場合はこれに適合する曲面の基板を使用するのが好ま
しい場合もある。

このガラス基板上に適用される透明導電膜はこれまでそ
の名の下に知られている各種材料、すなわち金、銀、パ
ラジウムなどの金属薄膜、導電性を有する無機酸化物薄
膜などを用いることができるがとくに酸化イソジウム／
酸化すず系薄膜（工ＴＯと略称する）が有用である。こ
れらの薄膜は要求される入力機構によって異なるが該当
するガラス基板の全面もしくは入力位置がブロック化さ
れているパターン状に形成される。薄膜の厚さは要求さ
れる導電性および透明性によって選択されるが好ましく
は１０　ｎｍ〜３００ｎｍである。

かかる薄膜の形成にあたっては真空蒸着法、ス；　　バ
ッタリング法その他の物理的気相法や該当する金属のハ
ロゲン化物、有機系誘導体の化学的気相法や場合に上り
液相からの薄膜形成法が適宜用いられる。かかる薄膜形
成にあたっての各種化学的。

物理的なガラス表面の処理、ガラスの表面改質は必要に
応じ行なうことができる。

透明導電膜をその表面に形成したガラス基板の上に形成
するべき前記被膜はそれ自体さらに反射防止性付与材を
含有するか表面加工によって反射防止性を付与すること
を要する。

ここで反射防止付与材とは本来透明である前記被膜表面
に微細な凹凸を生ずることによシを透明性を保持しつつ
反射像を不鮮明化し反射防止効果を付与するものであっ
て、マット化材、つや消し材、光拡散材などと呼ばれる
ものがこれにあたる。

これらの例としてはホワイトカーボン（含水シリカ）、
炭酸カルシウムなどの無機粒子ないしは上記被膜と比較
的低い相溶性を有しかつ混合することにより沈降分離を
しない有機高分子などが随時用いられる。これらの使用
量２種類は使用する被膜、その硬化条件１作業性１反射
防止性と解像力の相反する要求への対応から実験的に定
めらるべきものである。

表面処理による反射防止加工とはサンドブラストやプラ
ズマ処理などによる被膜の表面粗度の増大の他にとくに
有用なのは多層薄膜による反射防止の付与である。この
場合反射防止効果による反射像の不鮮明化のみならず透
過率はかえって向上し表示映像の解像力はむしろ増加す
るから光学的には好ましい方法である。形成薄膜の数、
材質（屈折率）の選択、膜厚の選択については公知（Ａ
、　Ｖａｓｉｃｋ、　＝　０ｐｔｉｃｓ　ｏｆ　ｔｈｉ
ｎ　ｆｉｌｍｓ　’、　Ｎｏｒｔｈ　−Ｈｏｌｌａｎｄ
Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ　Ｃｏ、　（１９６０）、　）で
あるが真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティン
グなどの気相法、ディップコート、スピンコードなどの
液相法などによる薄膜形成法を使用できる。この場合該
被膜はかかる薄膜の付着性向上のためのプラズマ処理、
コロナ放電処理などの物理処理、酸化処理などの化学処
理の他適幽なプライマ処理を行なうことができる。

本発明に好ましく用いられる前記の４種の被膜について
詳細に説明する。

（１）　　に記された化合物の例としてはメチルシリケ
ート、エチルシリケー１’Ｉ　　ｎ−プロピルシリケー
ト、ｉ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、
　　５ｅａ−ブチルシリケートおよびも−ブチルシリケ
ートなどのテトラアルコキシシラン類、メチルトリメト
キシシラン、メチルトリアルコキシシラン、メチルトリ
メトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン
、メチルトリブトキシシラ／、エチルトリメトキシシラ
ン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラ／、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキ
シシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニ
ルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、
フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルト
リメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、３，
３．３−）す７０ロプロビルトリメトキシシラン、γ−
グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、γ−グリシ
ドキシグロビルトリエトキシシラン、γ−（β−グリシ
ドキシエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、β−（
３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリノトキシ
シラン、β−（５，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリエトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメト牟ジ
シラン、γ−（β−アミノエチル）プロピルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプト、プロピルトリメトキシシラ
ン、β−シアンエチルグロビルトリメトキシシランなど
のトリアルコキシシラン、トリアルコキシアルコキシシ
ラン、ないしはトリアジルオキシシラン類おヨヒジメチ
ルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシ７ラン
、ジメチルジェトキシシラン、フェニルメチルジェトキ
シシラン、γ−グリシドキシグロビルメチルジメトキシ
シラン、γ−グリシドキシグロビルメチルジエトキシシ
ラン、γ−グリシドキシグロビルフェニルジメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシ
ラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン。

γ−クロロプロピルメチルジェトキシシラ／、ジメチル
ジアセトキシシラン、メチルビニルジメトキシン２ン、
メチルビニルジアセトキシシ２ノ。

γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラ／
、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジェトキシシラ
ンなどのジアルコキシシランないしはジアシルオキシシ
ランが挙げられる。これらは単独または複数種用いるこ
とができるしｔ複′ｃｉ種を共加水分解することでオリ
ゴマを作成した後披膜の形成に供することができる。

これらの化合物はそれ自体でも使用できるが好ましくは
加水分解することにより塗布後の被膜形成性を向上させ
ることができる。

加水分解物を製造するには対応する化合物を化学量論以
下ないしはそれ以上の水と混合攪拌することによって得
られる。すなわちこれらの化合物を単独または２種以上
組み合わせて無溶剤または適当な溶剤の存在下で水を添
加して行なわれる。

この場合塩酸などの酸を少量併用すると加水分解が効果
的に進行することが多い。この際通常加水分解中に１部
生成したシラノールの縮合が起ることがあるが著しい増
粘ゲル化に至らない限りとくにさしつかえない。加熱は
とくに必要ないが場合により適用する方が反応が早い場
合もある。またとくに発熱が著しい場合は冷却しつつ加
水分解を行なうことが好ましいこともある。これらの化
合物ないしはそれらの加水分解物はそのまま適用するこ
とができるが被膜形成のために要求される各種作業特性
、被膜として要求される各種物性からその他の各種物質
を併用することができる。

これらの化合物から被膜を形成するにはこれらの化合物
を含有する組成物を塗布後、加熱により乾燥硬化させる
。この際塗布にあたっては水その他の有機溶剤で希釈し
て用いる。

（２）　　に記されたものは前項（１）の化合物ないし
はその加水分解物の１種と平均粒子径約１〜２００ｎｍ
の微粒子状シリカを塗布、加熱硬化して得られる被膜か
らなるものである。

ここで微粒子状シリカとしては平均粒子径約１〜２００
ｎｍのものが用いられるが５〜１１００ｎのものがとく
に好ましい。また形状としては粉末状または溶媒中に分
散された形で供されるものであシ、いずれにしても（２
）項ないしは（３）項で示される組成物を溶解または分
散している溶媒にコロイド状に分散することができるも
のである。かかる微粒子状シリカの中には溶媒ないしは
樹脂への分散性を改良する目的で表面処理２表面被覆も
しくは変性されたシリカもこれに含めることができる。

（３）　　に記された被膜形成性組成物においてＡ成分
として用いられる重合体はその分子中に上記一般式で示
される基を有するものである。かかる重合体は例えば。

（−）　　上記の一般式で示される基を有する不飽和単
量体を単独またはその他のビニルモノマと共重合させる
方法。

（ｂ）　　反応性の官能基を有するビニル重合体と上記
一般式で示される基を有する化合物とを反応させる方法
などを用いて製造することができる。

ここで、一般式Ｒ二（Ｒ’Ｏ）　　　Ｓｉ−で示される
基Ｓ−詭 を有する不飽和単量体の例としてはγ−（メタ）アクリ
ルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタ）ア
クリルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−（メタ
）アクリルオキシプロビルメチルジメトキシシラン、γ
−（メタ）アクリルオキシプロピルエチルジメトキシシ
ラン、γ−（メタ）アクリルオキシプロピルメチルジェ
トキシシラン、γ−（メタ）アクリルオキシプロピルジ
メチルメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン。

ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
／アビニルトリエトキシエトキシシラン。

グリシジル（メタ）アクリレートとγ−アミノプロピル
トリメトキシシランとの反応生成物、（メタ）アクリル
酸とγ−グリシドキシプロビルトリメトキシシランとの
反応生成物、（メタ）アクリル酸とγ−グリシドキシプ
ロビルメチルジェトキシシランとの反応生成物を挙げる
ことができる。

また、上記の一般式Ｒ二（Ｒ’　Ｏ）ｓ−ｍ　ｓｉ−で
示される基を有する不飽和単量体はそれ単独でも重合で
き、所定の物性を示すが実用上の各種の性能を発１　　
現するために他の不飽和単量体と共重合することが可能
である。

ここで該不飽和単量体を５重量−以上含有することが必
要であり、これ以下の量では硬化が十分でない。

一般式Ｒｍ（ＲＯ）　、、、、Ｓｉ−で示される基を有
する不飽和単量体と共重合し得る不飽和単量体としては
通常のビニル重合に用いられる各種の単量体が適用可能
であり、（メタ）アクリル酸のアルキルエステル、もＬ
＜はハロゲン化アルキルエステル。

（メタ）アクリル酸グリシジル、スチレン、γ−メチル
スチレン、ビニルトルエン、（メタ＞７クリルアミド、
塩化ビニル、酢酸ビニルなどをその例として挙げること
ができる。さらに水酸基および不飽和基を有する単量体
が、得られる共重合体の水酸基価（ＯＲ価）を１５０以
下にするような景で使用することができる。ここで水酸
基価とは重合体１ｇ中に含まれる水酸基と当量の力性カ
リのｍｇ数である。

これらの単量体の例としては式 （ここで　Ｒ４は水素またはメチル基　Ｒ７は炭素数４
個以下のアルキレン基、ｎは１から２０までの整数であ
る。） であられされる（メタ）アクリル酸エステル、アリルア
ルコール、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチロール
アクリルアミド、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシ−
６−クロロプロピルエステルなどをその例として挙げる
ことができる。

ただしくメタ）アクリル酸などの酸性の単量体は共重合
体の酸価（重合体１ｇを中和するに要する力性カリのｍ
ｇ数）が２０以下、好ましくは１０以下になるように使
用すべきであり、これを越えると重合体およびこれを含
む被覆組成物の安定性が急激に低下する。　　・ 一般式Ｒ，：（”　Ｏ）　ｓ　、、、、、、Ｓｉ−で示
される基を含む不飽和単量体もしくはこれとその他の単
量体の混合物とを重合するにあたっては公知のラジカル
重合の方法が用いられる。重合は塊状重合、溶液重合。

懸濁重合、乳化重合など各種の重合法が適用可能である
が１本発明の目的には溶液重合がもつとも好ましい。

ここに用いられる溶媒としては上記のモノマから得られ
る（共）重合体を溶解または安定に分散できる溶媒であ
れば何でも良いが本発明の目的のためにはアルコール系
の溶剤を含む単一または混合溶剤が好ましい。ここでア
ルコール系溶剤としては炭素数３以上の脂肪族、脂環族
ないしは芳香族アルコール、（ｙＮＩＪ）エチレングリ
コールのモノアルキル、フェニルエーテル類、ジアセト
ンアルコールなどをその例として挙げることができる。

重合にあたってはラジカル開始剤として公知の化合物、
たとえばアゾ系化合物、過酸化物を重合触媒として使用
する。その他（共）重合体の分子量調節のために各種の
連鎖移動剤として公知の化合物１例、ｔｔｆドデシルメ
ルカプタン、ブチルメルカプタン、チオグリコールなど
を使用することもできる。得られる共重合体の分子量は
使用目的、共重合体組成によっても異なるが数平均分子
量２．０００〜２００，０００．好ましくは５，０００
〜１００，０００のものが用いられる。

また上記（ｂ）の方法によって製造されるビニル重合体
の例としては、（メタ）アクリル酸共重合体　。

とγ−グリシドキシプロビルトリメトキシシランまたは
γ−グリシドキシグロビルメチルジエトキシシランなど
のエポキシ基含有シランとの反応生成物、グリシドキシ
（メタ）アクリレート共重合体とγ−アミノプロピルト
リメトキシシランなどのアミノ基含有シランとの反応生
成物を挙げることができる。

このような方法によってビニル重合体と一般式Ｒ二（Ｒ
５０）５−ｍ　ｓｉ−で示される基を有する化合物の反
応によシ該基を重合体中に導入する場合も導入された該
基が、該基を含む不飽和単量体５重量％の共重合体から
得られたものと同量以上の量で重合体中に含まれている
ことが必要である。

Ｂ成分として述べられている微粒子状シリカは前記（２
）項で述べられた微粒子状シリカと同様のものである。

ここで溶媒としては前記Ａ成分の共重合体の溶媒として
述べたと同様のアルコール性溶媒を含む溶媒の単独また
は混合物が使用される。

Ａ成分、Ｂ成分を混合し２本発明の組成物を得るのであ
るが、混合にあたっては単なる混合の他にＢ成分の存在
下でＡ成分を共重合するという′方法をとることによ５
Ａ成分の生成とＡ成分とＢ成分との混合という操作を同
時に行なうことも可能である。Ａ成分とＢ成分との混合
割合は各々の固形分としてＡ成分１００重量部に対して
Ｂ成分５０〜２５０重量部、好ましくは７０〜２００重
量部を用いる。これよｐＢ酸成分多い場合は塗膜にクラ
ックを生じ、少ない場合は硬度の低下、硬化性不良を生
ずる。

前記（４）に記された化合物としてはこれまで提案され
ている各種のモノマ、オリゴマ、ポリマが使用可能であ
る。重合性炭素−炭素不飽和結合とはビニル基、アルケ
ニル基、ビニリデン基などが用いられるが、とくに本発
明で用いられる活性エネルギー線に対して有効なものと
してはアクリル基ＣＨ。

がある。

これらを１分子中に２個以上含む化合物の例としては、
多官能アルコールの（メタ）アジリレート、多官能フェ
ノールの（メタ）アクリレート。

多官能エポキシと（メタ）アクリル酸の反応生成物、ポ
リイソシアネートとヒドロキシアルキル（メタ）アクリ
レートの反応生成物、ヒドロキシアルキルリン酸の２〜
３（メタ）アクリル酸エステルメチレンジ（メタ）アク
リルアミド、各種アミン樹脂ないしはオルガノポリシロ
キサンの（メタ）アクリルオキシ置換体を挙げることが
出来る。

これらのさらに具体的な例としては炭素数１〜８のポリ
アルキレンジ（・メタ）アクリレート、炭素数１〜１２
の脂肪族ないしは脂環式ポリオキシアルキレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート。

グリセロールないしはジグリセロールのポリ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールないしはそのオリゴ
マのポリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ（メタ）アクリレート。

ポリエステルポリオールのポリ（メタ）アクリレート、
ポリウレタンポリオールのポリ（メタ）アクリレート、
ツルピノールのポリ（メタ）アクリレ−）ｔ　ヒ）”ロ
キシエチルビスフェノールーＡジ（メタ）アクリレート
、ジヒドロキシエチルフタレート、インフタレートない
しテレフタレートのジ（メタ）アクリレート、ビスフェ
ノールＡジ（メタ）アクリレート、レゾールジ（メタ）
アクリレート。

フェノール樹脂オリゴマのポリ（メタ）アクリ−レート
、脂肪族ないしは芳香族エポキシ樹脂と（メタ）アクリ
ル酸のポリ付加物、エポキシ基含有アクリル樹脂と（メ
タ）アクリル酸のポリ付加物。

トリメチロールプロパンないしはトリメチロールエタン
とトリレンジインシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、インホロンジインシアネートないしはリジン
ジイソシアネートから得られるトリイソシアネート付加
物とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートポリ付加物
、トリレンジイソシアネートないしはへキサメチレンジ
インシアネートの６量体とヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレートポリ付加物、リジントリインシアネートのヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレートポリ付加物、ポリ
エステルウレタンないしはポリエーテルウレタンの末端
ポリイソシアネートとヒドロキシエチル（メタ）アクリ
レートポリ付加物、トリ（メタ）アクリルオキシエチル
ホスフェート、メトキシメチルメラミンとヒドロキシエ
チル（メタ）アクリレートのポリ縮合物、ノ・イドロオ
ルガノポリシロキサンとアリル（メタ）アクリレートの
ポリ付加物（メタ）アクリルオキシプロピルトリアルコ
キシシランの加水分解縮合物または（メタ）アクリルオ
キシプロピルメチルジアルコキシシランの加水分解縮合
物などを挙げることができる。

これらの化合物は単独または複数種用いることができる
。また、これらの化合物のうち分子量５００につき少な
くとも１個の重合性炭素−炭素不飽和結合を有する化合
物がとくに好ましい結果を与える。

これらの化合物から被膜を形成させるにはこれらの化合
物を含有する組成物を塗布後、必要に応じ加熱などによ
シ溶剤を揮発除去した後活性エネルギー線と照射する。

ここで活性エネルギー線とは活性光線および電離性放射
線を指す。活性光線とは赤外線、可視光線、あるいは紫
外線をさし、とくに本発明においては波長が５００ｎｍ
以下の光線さらに効果的には紫外線を含む光線が好まし
い。活性光線を発生する光源としては各種のものが使用
可能であるが。

処理効率などの点から低圧、高圧、超高圧水銀灯。

キセノン放電灯、アーク灯などが好ましく用いられる。

また電離放射線とは・　コバルト６０からでるガンマ線
、あるいは電子線加速器で発生した電子線さらにはＸ線
装置で発生したＸ線や原子炉で発生した中性子線などを
用いることもできるが。

その取υ扱いやすさ、得られやすさなどからとくに電子
線が好ましい。

具体的に電子線とは加速エネルギーが０．３〜３ＭｅＶ
でバンプグラフ型、コツククロフト型、コツククロフト
ワルトン型、鉄芯絶縁コア型、ダイナミドロン型、共振
変圧器型、直線型などの各種電子線加速器から放射され
るものを指す。照射量は０．１〜１０　Ｍｒａｄの範囲
が適轟である。

かかる照射は室温、空気中で行なうこともできるし、必
要に応じ加熱およびまたは減圧、窒素などの非酸素性の
雰囲気を併用することができる。

照射条件は本発明の目的を達成するよう実験的に定めな
ければならない。

被膜形成組成物中には前記溶媒の他に物性改良の目的で
各種の物質が混入可能である。

これらの中には硬化触媒、希釈モノマ、などが好ましく
用いられる。硬化触媒としてはラジカル開始剤、光開始
剤、光増成剤の各々下にこれまで知られている各種の化
合物が適宜２通常は塗膜形成成分の１０重量−以下の量
で使用される。これらの例としてはベンゾイルパーオキ
シド、クミルパーオキシド、アルキルパーオキシベンゾ
エート。

イソプロピルパーオキシカーボネートなどの各種過酸化
物、アゾピスインブチロニトル、アゾビスシクロヘキサ
ノニトリルなどの各種アゾ系化合物。

ビアセチル、ベンゾフェノン、ミヒラケトン、ベニ／　
’）　Ａ／　、　ヘンツイン、ベンゾインブチルエーテ
ル。

ベンジルジメチルケタール、テトラメチルチウラムスレ
フィト、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン
、α−ヒドロキシイソブチルフェノンなどの光開始剤が
あシ、上記のラジカル開始剤光開始剤と併用して効果の
ちるｎ−ブチルアミン。

ジエチルアミノエチルメタアクリレートなどのアミン、
尿素類、チオ尿素類、ナトリウムジエチルジチオフォス
フェート、芳香族スルフィン酸などのイオウ化合物、ト
リーｎ−ブチルホスフィン。

ナトリウムジエチルチオホスフェートなどのリン化合物
、四塩化炭素、ヘキサクロロエタンなどの塩素化合物、
Ｎ−ニトロソヒドロキシルアミン誘導体ないしはオキサ
ゾリン化合物などの光増成剤がある。これらは単独ない
しは複数種併用される。

希釈モノマとしては上記炭素−炭素不飽和結合と共重合
可能な不飽和基を有するものであれば何でもよいがとく
に（メタ）アクリル酸エステル類。

アクリロニトリル、塩化ビニル、酢酸エテル、無水マレ
イン酸、などが好ましく用いられる。これらは本発明の
目的である表面硬度の向上を維持するためには塗膜形成
成分の２０重Ｂ、４以下にすることが好ましい。

上記の（１）、　（２）、　（３）および（４）の被膜
を形成する組成物は各々それ単独でも被膜を形成するこ
とが可能であるが各項の組成物を混合したものから得ら
れたものも同様に本発明の効果を達成し得る。とくに（
１）ないしく２）と（３）に記載の組成物の混合によっ
て得られる被膜は有用である。

さらにこれらの被膜形成性組成物中には塗装作業性、塗
膜特性改良のだめ各種溶媒、添加剤、樹脂類を必要に応
じ含むことができる。添加剤としては紫外線吸収剤、配
化防止剤、流動性調節剤。

発泡防止剤、粘度調節剤などがある。樹脂類としては被
膜の透明性をそこなわない程度の相溶性を有する有機重
合体であれば何でも良いがとくにアクリル樹脂、アミノ
樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、繊維素糸樹脂
、ポリエステル樹脂。

ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラールなどが好
ましい。これらの変性用樹脂、添加剤は被膜形成成分中
５０重量％以下の量にすることが好ましい。これより多
いと本発明の目的の１つである表面硬度の発現が困難で
ある。

これらの配合物の使用によって被膜は所望の硬度、耐久
性１反射防止効果の他に耐汚染性、耐薬品性の向上が見
られさらに帯電防止性ｌ防曇性２印刷性などを付与する
ことができる。

塗布法は公知の各種方式たとえば浸漬コート。

スプレーコート、スピンコード、カーテンフローコート
などが適用できる。

塗布後の硬化は適用される被膜材料に応じ、加熱硬化、
活性エネルギー線硬化ないしはこれらの併用によ、り行
なわれその条件は使用される被膜材料２作業条件により
実験的に選択さるべきものである。得られた被膜の比誘
電率は入力装置として使用される場合の方式、検出感度
、精度などによっても異なるが２〜５０好ましくは２〜
１５のものが使用される。

〔実施例〕

以下実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。

実施例１ （１）被覆組成物の調整 （、）　　ビニルトリエトキシシランの加水分解物の調
製 ビニルトリエトキシシラン２９０ｇに酢ｅｔ５ｇを添加
し、２０°Ｃにコントロールしながら０．０５Ｎ−塩酸
水溶液８．３ｇを攪拌下゛に滴下混合して・加水分解物
を得た。

（ｂ）　　メチルトリメトキシシラン加水分解物の調製 メチルトリメトキシシラン４１．６ｇに酢酸０．２ｇ。

エタノール２．９ｇを添加し、２０’ｃにコントロール
しながら０．０１Ｎ−塩酸水溶液１６．５ｇを攪拌下に
滴下混合して加水分解物を得た。

（Ｃ）塗料の調製 前記（ａＬ　（ｂ）で調製したそれぞれのシラン加水分
解物を混合し、さらにキシレン５ｇ、酢酸エチル５ｇ、
ｎ−ブタノール１１．３ｇにポリビニルブチラール樹脂
粉末（漬水化学（株）製品）１．３ｇの溶解液、メタノ
ール分散コロイド状シリカ（固形分３０チ）：２．ｓｇ
、　シリコーン系添加剤０．２５ｇ、酢酸ソーダ０．２
ｇを添加し、均一に溶解させて塗料とした。

（２）塗布およびキュア 前項被覆組成物を用いてＩＴＯ膜を付けた透明導電性ガ
ラス基板に浸漬法（引き上げ速度２０−／分）で塗布し
、９０℃の熱風乾燥機で２時間加熱硬化した。

（３）　　試験結果 得られた被覆透明導電性パネルの性能試験のために次の
テストを行った。

（−）　　反射防止 反射防止程度を目視によシリ下の６段階に分けて判定し
た。

◎・・・・・・まったく反射像がみられない。

Ｏ・・・・・・わずかに反射像がみられる。

ｘ　、−、−Ｉ　Ｔ　Ｏ膜を付けた透明導電性ガラス基
板と同程度の反射像である。

（ｂ）　　スチールクール硬度 ≠００００のスチールウールで塗面をこすシ、傷のつき
具合を目視によυ以下の５段階に分けて判定した。

Ａ・・・・・・まったく傷がつかない。

Ｂ・・・・・・わずかに傷あとがみとめられる。

Ｃ・・・・・・通常の有機プラスチックと同程度の全面
すり傷あとがつく。

実施例２ （１）被覆組成物の調製 （、）　　アルコキシシラ／共重合アクリルフェスの合
成 還流装置、温度計を取り付けた１Ｅの四ツロフラスコに
ｎ−プロパツール１２８ｇを仕込ミ、９０±２℃で下記
のモノマ、重合触媒および重合度調節剤の混合物を滴下
し重合を行なった。

メタクリル酸メチル　　　　　　　　　６０ｇアクリル
酸エチル　　　　　　　　　５６ｇ？　　　メタクリル
酸２−ヒドロキシエチル　　１４ｇγ−メタクリルオキ
シグロビルトリメトキシシラン　　　　　　　　　　　
　　　　３５ｇアゾビスインブチロニトリル　　　　１
．３５　ｇｎ−ドデシルメルカプタン　　　　　１．　
り　５　ｇ２時間かかつて滴下後、アゾビスインブチロ
ニトリル０１２７ｇを６０分毎に３回加えて重合を完結
させた。

（ｂ）　　塗料の調製 上記（−）で得られたアルコキシン２ン含有アクリルフ
ェス１２．８重合部にメラミン樹脂（三井東圧（株）製
品“サイメル６０５“）１．６重量部を加えるとともに
ｎ−プロパツール２８．６重量部を加えて均一に溶解し
、さらにシリカのロープロバノール分散体（固形分３Ｃ
１）４０．０重量部を加えて十分攪拌し。

その後アセチルアセトレアルミニウム１．０重量部。

シリコーン系添加剤０．１７重量部を加えて十分攪拌し
、その後ジアセトンアルコール２１．０重量部を加えて
攪拌する。その後シリカの微粉末０．５３ｇ、　　ガラ
スピーズ１０５ｇを加えてペイントコンディショナーで
３０分間分散させた後ガラスピーズを除いて塗料を調製
した。

（２）塗布およびキュア 前項被覆組成物を用いてＩＴＯ膜を付けた透明導電性ガ
ラス基板に浸漬法（引き上げ速度２　Ｏ１分）で塗布し
、１６０’ｏの熱風乾燥機で３０分間加熱硬化した。

試験結果を第１表に示す。

実施例６ （１）被覆組成物の調製 （−）　　シランカップリング剤の調製γ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシ２／６６５ｇを１０℃にコン
トロールしながら０．０１Ｎ−塩酸水溶液０．８ｇを攪
拌下に滴下混合して、加水分解物を得た。この加水分解
物にｎ−プロパツール／メタノール混合（１／１重量比
）の溶剤４９５．７ｇを加えて十分攪拌してシランカッ
プリング剤を得た。

（２）塗布およびキュア ＩＴＯ膜を付けた透明導電性ガラス基板に第１層に前項
シランカップリング剤を浸漬法（引き上げ速度２０　ｃ
、７分）で塗布し、室温下で６０分間セツティングした
。第２層に実施例１の被覆組成物を塗布した。

実験結果を第１表に示す。

実施例４ 第１層に実施例３のシランカップリング剤を塗布し、第
２層に実施例２の被覆組成物を塗布した。

なお塗布およびキュアは各項に述べた方法と同様に行っ
た。

試験結果を第１表に示す。

実施例５ （１）被覆組成物の調製 （、）　　シランカップリング剤の調製γ−メタクリオ
キシプロピルトリメトキシシラン６．５８を２０℃にコ
ントロールしながら０．０１Ｎ−塩酸水溶液０．８ｇを
攪拌下に滴下混合して、加水分解物を得た。この加水分
解物にｎ−プロパツール／メタノール混合（１／１重量
比）の溶剤を加えて十分攪拌してシランカップリング剤
を得た。

（ｂ）　　被覆組成物の調製 ジペンタエリスリトールへキサアクリレート（日本化薬
（株）製品）　６２ｇ＋　　ポリエステルウレタンアク
リレート（ヘキサメチレンジイソシアネート／アジピン
酸とエチレングリコールからのポリエステルポリオール
／２−ヒドロキシエチルメタクリレートから得られる分
子量１．９００のオリゴマ）１１．４ｇ、ベンジルジメ
チルケタール（″イルガキュア６５１″チバガイギ−（
株）製品）１．２ｇ、酢酸ブチル５６６ｇを加えて攪拌
する。その後シリカの微粉末０−５　ｇ　＋　　ガラス
ピーズ１０１ｇを加えてペイントコンディショナーで６
０分間分散させた後ガラスピーズを除いて塗料を調製し
た。

（２）塗布およびＵＶ照射 ＩＴＯ膜を付けた透明導電性ガラス基板に第１層に前項
（１）、　（ａ）シランカップリング剤を浸漬法（引き
上げ速度２０　ａ＋＋／分）で塗布し、室温下で１５分
間セツティングした。第２層に前項（１）、　（ｂ）塗
料を浸漬法（引き上げ速度２０ｅＩ＋／分）で塗布し、
１１０°Ｃの熱風乾燥機で３分間加熱した後基板を耐真
空容器に入れ、真空下で３ｋＷの超変圧水銀灯（オーク
製作所（株）製）で０．５　ｍの距離から１８０秒露光
した。

試験結果を第１表に示す。

実施例６ （１）被覆組成物の調製 アクリル系共重合体ワニス（コータツクスＬＨ６４０、
東しく株）製品、固形分５０チ）２０．０ｇと多官能イ
ンシアネートワニス（゛スミジュールＮ−７５″住友バ
イエルウレタン（株）製品、固形分７５＊）４．５ｇを
混合し、酢酸エチル／メチルインブチルケトン等量混合
物で固形分５％に希釈して被覆組成物を得た。

（２）塗布およびキュア ＩＴＯ膜を付けた透明導電性ガラス基板に第１層に実施
例３．　（１）、　（ａ）シランカップリング剤を浸漬
法（引き上げ速度２０壓勢）で塗布し、室温下で５０分
間セツティングした。第２層に上記（１）被覆組成物を
浸漬法（引き上げ速度２０　ｅ＋ｎ／分）で塗布し、１
６０℃で２Ｄ分間加熱硬化した。さらに第３層に実施例
（１）、　（ｃ）塗料を浸漬法（引き上げ速度２０　ａ
ｎ／分）で塗布し、９０℃の熱風乾燥機で２時間加熱硬
化した。

試験結果を第１表に示す。

第１表 実施例７．比較例１ （１）　　被覆組成物の調製 （−）　　第２層被覆組成物の調製 アクリル系共重合体ワニ〜ス（″ツータックス５Ａ−１
０５″東しく株）製品、固形分５０％）３１、ｓｇ。

ブチル化メチロールメラミン樹脂（゛スーパーベッカミ
ンｃ−８２１″大日本インキ化学工業（株）製品ｐ　固
形分６０％）７．６ｇ、　　ビスフェノールＡｍエポキ
シ樹脂（“エピコート１００１″シエル化学（株）製品
）４．５ｇをｎ−ブタノール／キシレン混合（３０／７
０重量比）溶媒に溶解したワニス（固形分５０％）をさ
らにキシレン、セロソルブアセテート等量混合物で希釈
し固形分２５チの被覆組成物を得た。

（ｂ）　　第３層被覆組成物の調製 エポキシ樹脂（＠エピコート８２７”シェル化学（株）
製品）５．２ｇにジアセトンアルコールｓ、　２　ｇ　
＋ベンジルアルコール４．１ｇ、　　アセチルアセトン
３．２ｇ。

シリコーン系添加剤０．２ｇを加えて十分攪拌する。

その後予め調製して得れているシラン加水分解物。

すなわちγ−グリシドキシプロビルメチルジェトキシシ
ラン１７．２ｇを１０°Ｃにコントロールしながら０．
０５Ｎ−塩酸水溶液２．５ｇを攪拌下に滴下混合した液
、メタノール分散コロイド状シリカ（固形分３１：１）
５７．６ｇを加えて十分攪拌し、その後アセチルアセト
ンアルミニウム１．７ｇを加えて十分攪拌して被覆組成
物を得た。

（２）　　塗布、キュア、真空蒸着および試験結果ＩＴ
Ｏ膜を付けた透明導電性ガラス基板に第１層に実施例３
のシランカップリング剤を浸漬法（引き上げ速度２０３
／分）で塗布し、室温下６０分間セツティングした。第
２層に前項（１）、　（ａ）を浸漬法（引き上げ速度１
０ｃＩ＋／分）で塗布し、１６０’ｃの熱風乾燥機で２
０分間加熱硬化した。第３層に前項（１）、　（ｂ）を
浸漬法（引き上げ速度１０　ｃ＋ｎ／分）で塗布し、１
６０゛ｃの熱風乾燥機で２時間加熱硬化した。

次にこのコート基板を反射防止加工した。まず表面処理
用プラズマ装置（ＰＲ５０１Ａヤマト科学（株）製）を
用い、酸素流量１００　ｍ７？／分、出力５０Ｗで１分
間処理を行ない２次に真空蒸着装置（真空器械工業（株
）製）を用い、真空度１’　Ｏ””　〜１０−５Ｔｏｒ
ｒで酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、フッ化マグ
ネシウムの順に蒸着した。この反射防止加工を両面につ
いて行った。

なお比較例１として前記反射防止加工以前までをすべて
同様にして行った。試験結果を第２表に；　　示す。な
お反射防止程度は全光線透過率（チ）を測定し２表示し
た。

第２表 〔発明の効果〕 本発明によってその外層に誘電体被膜を有し。

耐久性が良くかつ表示画面が鮮明に認知し得る透明導電
パネルが得られる。本パネルは硬度が窩＜。

汚染性、耐薬品性も良好である他１組成物の選択によっ
て帯電防止性、染色性などを付与することもできる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ガラス基板上の全面もしくはその１部に透明導電層を有
   する層を設け、かつその上から表面が反射防止効果を有
   する硬質誘電体被膜を設けてなる被覆透明導電パネル。