JPS6154036A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPS6154036A JPS6154036A JP17725584A JP17725584A JPS6154036A JP S6154036 A JPS6154036 A JP S6154036A JP 17725584 A JP17725584 A JP 17725584A JP 17725584 A JP17725584 A JP 17725584A JP S6154036 A JPS6154036 A JP S6154036A
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- magnetic recording
- recording medium
- protective film
- carbon
- gas
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- Pending
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、計算機の外部記憶装置に用いられる可塑性基
板を利用した磁気記録媒体に関する。
板を利用した磁気記録媒体に関する。
計算機の外部記憶装置の中で、ＣＳＳ方式を採用してい
る磁気ディスク装置、可塑性基板を利用したフロッピー
ディスク装置および磁気テープ装置の磁気記録媒体には
、磁気ヘッドにより摩耗および損傷が発生する。さらに
、記録媒体に金属磁性体を使用した場合に、記録媒体が
腐食することがある。これらの摩耗および損傷の軽減、
すなわち耐久性の増大と防食、すなわち耐候性の強化を
目的として、磁気記録媒体表面に５ｉＯｚおよびＳｉＮ
などの保護膜を形成していた。
る磁気ディスク装置、可塑性基板を利用したフロッピー
ディスク装置および磁気テープ装置の磁気記録媒体には
、磁気ヘッドにより摩耗および損傷が発生する。さらに
、記録媒体に金属磁性体を使用した場合に、記録媒体が
腐食することがある。これらの摩耗および損傷の軽減、
すなわち耐久性の増大と防食、すなわち耐候性の強化を
目的として、磁気記録媒体表面に５ｉＯｚおよびＳｉＮ
などの保護膜を形成していた。
前述の保護膜による対処では、耐久性に監視は不十分で
あり、さらに高密度化を計り保護膜の膜厚を薄（すると
、耐候性が劣化する欠点があった。
あり、さらに高密度化を計り保護膜の膜厚を薄（すると
、耐候性が劣化する欠点があった。
本発明はこのような欠点を解決し、耐久性および耐候性
の優れた磁気記録媒体およびその製造方法を提供するこ
とを目的とする。
の優れた磁気記録媒体およびその製造方法を提供するこ
とを目的とする。
本発明は、基板と、その基板の表面に形成された磁気記
録層と、この磁気記録層の表面に形成された保護膜とを
含む磁気記録媒体で、前述の問題点を解決するための手
段として、上記保護膜が、ダイアモンド状炭素とアモル
ファス状炭素との混合相であることを特徴とする。
録層と、この磁気記録層の表面に形成された保護膜とを
含む磁気記録媒体で、前述の問題点を解決するための手
段として、上記保護膜が、ダイアモンド状炭素とアモル
ファス状炭素との混合相であることを特徴とする。
また、基板の表面に形成された磁気記録層の表面に保護
膜を形成する磁気記録媒体の製造方法において、上記保
護膜をプラズマ蒸着法により形成することを特徴とする
。
膜を形成する磁気記録媒体の製造方法において、上記保
護膜をプラズマ蒸着法により形成することを特徴とする
。
また、プラズマ蒸着法は、反応ガスとキャリアガスとの
混合気体中でプラズマ放電を行う方法であってもよい。
混合気体中でプラズマ放電を行う方法であってもよい。
また、反応ガスはメタンガスであり、キャリアガスは水
素ガスであってもよい。
素ガスであってもよい。
磁気記録媒体の保護膜としてダイアモンド状炭素とアモ
ルファス状炭素の混合相を構成することにより、耐久性
、耐候性を顕著に向上させる効果がある。
ルファス状炭素の混合相を構成することにより、耐久性
、耐候性を顕著に向上させる効果がある。
また、この保護膜は記録膜の磁気特性を劣化させること
のない低温・低圧プラズマ蒸着により安定に製造するこ
とができる。
のない低温・低圧プラズマ蒸着により安定に製造するこ
とができる。
まず、本発明磁気記録媒体の実施例の構造を図に基づい
て説明する。
て説明する。
第１図は、この磁気記録媒体の切断面を示す模式図であ
る。図に示すように、基板３０の上に６荘気記録層２０
が被着され、さらに、この磁気記録層２０の上に保護膜
１０が被着されている。基板３０の材質は、アルミニュ
ウム合金およびポリイミド材である。アルミニウム合金
は固定ディスクに用いられ、ポリイミド材はフロッピー
デスクおよびテープに用いられる。磁気記録層２０の材
質は磁性体である。
る。図に示すように、基板３０の上に６荘気記録層２０
が被着され、さらに、この磁気記録層２０の上に保護膜
１０が被着されている。基板３０の材質は、アルミニュ
ウム合金およびポリイミド材である。アルミニウム合金
は固定ディスクに用いられ、ポリイミド材はフロッピー
デスクおよびテープに用いられる。磁気記録層２０の材
質は磁性体である。
また、保護膜１０はダイアモンド状炭素１）とアモルフ
ァス状炭素１２との混合相である。このダイアモンド状
炭素１）のピンカス硬度は約８０００ｋｇ／ｍｍｚであ
り、またアモルファス炭素１２のピッカス硬度は約８０
０ｋＩＸ／ｍｍ”である。
ァス状炭素１２との混合相である。このダイアモンド状
炭素１）のピンカス硬度は約８０００ｋｇ／ｍｍｚであ
り、またアモルファス炭素１２のピッカス硬度は約８０
０ｋＩＸ／ｍｍ”である。
次に、この磁気記録媒体の製造方法を図に基づいて説明
する。
する。
第２図は、この磁気記録媒体を製造する装置を示す模式
図である。まず、真空容器１内の圧力が約１０− ’Ｔ
ｏｒｒになるまで真空ポンプ装置７により真空容器１内
は排気され、ひきつづき反応ガスであるメタガスとキャ
リアガスである水素ガスとの混合比が約「５」対「９５
」になるようにメタンガス槽３および水素ガス槽２より
真空容器１内に供給されて真空容器１の内圧が約０．１
Ｔｏｒｒとなるまで充満される。次にｒ１３．５６
Ｊ削１ｚの高周波電源装置８により真空容器内にプラズ
マ放電を発生させる。一方、磁気記録媒体はヒータ６の
上に載置されてこのヒータ６により「１００」℃ないし
ｒ３００ ＪｏＣに加熱され、プラズマ放電によりこの
磁気記録媒体上にダイアモンド状炭素とアモルファス状
炭素との混合相の保護膜が形成される。この形成される
保護膜の成長速度は「５」ないし「２０」人毎秒に調整
される。
図である。まず、真空容器１内の圧力が約１０− ’Ｔ
ｏｒｒになるまで真空ポンプ装置７により真空容器１内
は排気され、ひきつづき反応ガスであるメタガスとキャ
リアガスである水素ガスとの混合比が約「５」対「９５
」になるようにメタンガス槽３および水素ガス槽２より
真空容器１内に供給されて真空容器１の内圧が約０．１
Ｔｏｒｒとなるまで充満される。次にｒ１３．５６
Ｊ削１ｚの高周波電源装置８により真空容器内にプラズ
マ放電を発生させる。一方、磁気記録媒体はヒータ６の
上に載置されてこのヒータ６により「１００」℃ないし
ｒ３００ ＪｏＣに加熱され、プラズマ放電によりこの
磁気記録媒体上にダイアモンド状炭素とアモルファス状
炭素との混合相の保護膜が形成される。この形成される
保護膜の成長速度は「５」ないし「２０」人毎秒に調整
される。
次に、本発明磁気記録媒体の実施例の評価結果を説明す
る。この実施例は固定ディスクである。
る。この実施例は固定ディスクである。
また、比較例の保護膜はスパッタ法により製造したもの
である。
である。
まず、引掻強度試験法による保護膜の耐久性試験の結果
を第３図に示す。この図では摩耗■は８００人厚のＳｉ
Ｏ２膜の摩耗量をｒｌｏＯＪ％にして示されている。本
発明磁気記録媒体の保護膜は比較例に比してＩＩＩＪで
あるにもかかわらず比較例に比し摩耗量は約ｒｌ／２
Ｊないし「１／３」である。
を第３図に示す。この図では摩耗■は８００人厚のＳｉ
Ｏ２膜の摩耗量をｒｌｏＯＪ％にして示されている。本
発明磁気記録媒体の保護膜は比較例に比してＩＩＩＪで
あるにもかかわらず比較例に比し摩耗量は約ｒｌ／２
Ｊないし「１／３」である。
次に、低速摺動試験法による保護膜の耐久性試験の結果
を第４図に示す。この試験では、ウェンチェスター型Ｃ
ｉｔ気ヘッドを２０叶ρｍの回転数で回転させて被試験
体と常時接触させ、ヘッドクラ、シュが発生するまでの
経過時間が測定される。図に示すように、本発明磁気記
録媒体の保護膜は比較例に比し、この経過時間が「１０
」ないしｒｌｏＯＪ（宮である。
を第４図に示す。この試験では、ウェンチェスター型Ｃ
ｉｔ気ヘッドを２０叶ρｍの回転数で回転させて被試験
体と常時接触させ、ヘッドクラ、シュが発生するまでの
経過時間が測定される。図に示すように、本発明磁気記
録媒体の保護膜は比較例に比し、この経過時間が「１０
」ないしｒｌｏＯＪ（宮である。
最後に、純水付着試験法による保護膜の耐候性試験の結
果を第５図に示す。この試験では、純水を被試験体であ
る保護膜上に付着させ、この保護膜により保護される記
録媒体の腐食発生数が計測される。ここで、純水の付着
時間ばｒｌｏｏ Ｊ時間である。図に示すように、比較
例では腐食が多発しているにもかかわらず本発明磁気記
録媒体の保護膜には腐食が発生していない。
果を第５図に示す。この試験では、純水を被試験体であ
る保護膜上に付着させ、この保護膜により保護される記
録媒体の腐食発生数が計測される。ここで、純水の付着
時間ばｒｌｏｏ Ｊ時間である。図に示すように、比較
例では腐食が多発しているにもかかわらず本発明磁気記
録媒体の保護膜には腐食が発生していない。
第１図は本発明記録媒体の構成を示す断面図。
第２図は本発明記録媒体の製造装置の構造を示す模式図
。 第３図は引掻き強度試験結果を示す図表。 第４図は低速摺動試験結果を示す図表。 第５図は純水付着試験結果を示す図表。 ■・・・真空容器、２・・・水素ガス槽、３・・・水素
ガス噴出口、４・・・メタンガス槽、５・・・メタンガ
ス噴出口、６・・・ヒータ、７・・・真空ポンプ、８・
・・高周波電源装置、１０・・・保護膜、１）・・・ダ
イアモンド状炭素、１２・・・アモルファス状炭素、２
０・・・磁気記録層、３０・・・基板。
。 第３図は引掻き強度試験結果を示す図表。 第４図は低速摺動試験結果を示す図表。 第５図は純水付着試験結果を示す図表。 ■・・・真空容器、２・・・水素ガス槽、３・・・水素
ガス噴出口、４・・・メタンガス槽、５・・・メタンガ
ス噴出口、６・・・ヒータ、７・・・真空ポンプ、８・
・・高周波電源装置、１０・・・保護膜、１）・・・ダ
イアモンド状炭素、１２・・・アモルファス状炭素、２
０・・・磁気記録層、３０・・・基板。
Claims (4)
- （１）基板と、その基板の表面に形成された磁気記録層
と、この磁気記録層の表面に形成された保護膜とを含む
磁気記録媒体において、 上記保護膜が、ダイアモンド状炭素とアモルファス状炭
素との混合相である ことを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）基板の表面に形成された磁気記録層の表面に保護
膜を形成する磁気記録媒体の製造方法において、 上記保護膜をプラズマ蒸着法により形成することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法。 - （３）プラズマ蒸着法は、反応ガスとキャリアガスとの
混合気体中でプラズマ放電を行う方法である特許請求の
範囲第（２）項に記載の磁気記録媒体の製造方法。 - （４）反応ガスはメタンガスであり、キャリアガスは水
素ガスである特許請求の範囲第（３）項に記載の磁気記
録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17725584A JPS6154036A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17725584A JPS6154036A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6154036A true JPS6154036A (ja) | 1986-03-18 |
Family
ID=16027874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17725584A Pending JPS6154036A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6154036A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62246129A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63300427A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-07 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6482321A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Hitachi Ltd | Magnetic recording medium |
| US4891114A (en) * | 1986-12-31 | 1990-01-02 | Basf Aktiengesellschaft | Magnetic recording media |
| JPH02158690A (ja) * | 1988-12-09 | 1990-06-19 | Ricoh Co Ltd | 摺動部材 |
| DE10359371A1 (de) * | 2003-12-18 | 2005-07-28 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Passivierte Endoberflächen |
-
1984
- 1984-08-24 JP JP17725584A patent/JPS6154036A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62246129A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| US4891114A (en) * | 1986-12-31 | 1990-01-02 | Basf Aktiengesellschaft | Magnetic recording media |
| JPS63300427A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-07 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6482321A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Hitachi Ltd | Magnetic recording medium |
| JPH02158690A (ja) * | 1988-12-09 | 1990-06-19 | Ricoh Co Ltd | 摺動部材 |
| DE10359371A1 (de) * | 2003-12-18 | 2005-07-28 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Passivierte Endoberflächen |
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