JPS6156342A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

Info

Publication number
JPS6156342A
JPS6156342A JP16745284A JP16745284A JPS6156342A JP S6156342 A JPS6156342 A JP S6156342A JP 16745284 A JP16745284 A JP 16745284A JP 16745284 A JP16745284 A JP 16745284A JP S6156342 A JPS6156342 A JP S6156342A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive resin
benzotriazole
resin composition
compd
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16745284A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazutaka Masaoka
正岡 和隆
Yoshitaka Minami
好隆 南
Hajime Kakumaru
肇 角丸
Eiji Fujita
藤田 瑛二
Isao Uchigasaki
内ケ崎 功
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP16745284A priority Critical patent/JPS6156342A/ja
Publication of JPS6156342A publication Critical patent/JPS6156342A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
    • H05K3/0076—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the composition of the mask

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、感光性樹脂組成物、更に詳しくは。
印刷配線板の製造、金属の精密加工等に用いられるエツ
チングレジスト又はめつきレジストとして特に優れ次は
くυ性、エツチング性9作業性を有する感光性樹脂組成
物に関する。
(従来技術) 印刷配線板の製造、金属の精密加工等の分野において、
エツチング、めっき等の基材の化学的。
電気的手法を用いる際にレジスト材料として、感光性樹
脂組成物及びこれを用い念感光性エレメノトを使用する
ことが知られている。感光性エレメントとしては、支持
体上に感光性樹脂組成物を積層したものが広く使用され
ている。
従来、印刷配線板の製造法には、テンティング法とめつ
き法の二つの方法がるる。テンティング法は、チップ部
品搭載のための銅スルホールをレジストで保護し、エツ
チングレジストはくシを経て、電気回路形成を行なうの
に対し、めっき法はこれと逆にスルホールを除いて、レ
ジストを被覆し電気めつきKよってスルホールに銅を析
出させ、半田めっきで保護し、レジストは<9.エツチ
ングによって電気回路の形成を行なう方法でるる。従っ
て上記三方法には必ずレジストのはぐり工程が入るため
、使用する感光性樹脂組成物は。
はくp液によって完全に除去されることが必要でロシ、
万一しシスト残渣が基板面に残存した場合。
その部位はエツチングされないばかりでなく、その後、
ニッケルめっき、金めつきなどを施すときにめっき付着
不良を誘発する原因となる。従って感光性樹脂組成物に
は、良好なはく)性、耐エツチング性、耐めっき性が要
求される。
従来の感光性樹脂組成物には、耐エツチング性。
耐めっき性を向上するために、密着性付与剤を添加して
いる。密着性付与剤としては、特公昭50−9177号
公報K 1.2,3−ベンゾトリアゾール。
特開昭55−65203号公報にインダゾール又はその
誘導体、特開昭55−65202号公報に7タラゾン又
はその誘導体がそれぞれ開示されているが、これらの化
合物は、感光性樹脂組成物の密着性向上には著しい効果
を発揮する。たとえば1、2,3−ベンゾ) l)アゾ
ールなどを感光性樹脂組成物中に多量に使用すると、レ
ジストと基材表面の密着性が著しく増大するが1反面、
紫外線硬化後、硬化し九部分は、はくシ液によって除去
され難くなシ、はくシ残りを生じ、エツチング残シを誘
発することになる。
(発明の目的) 本発明は上記欠点を24消すべく研究を重ねた結果なさ
れたもので、はぐり性の改善ばれた感光性樹脂組成物を
提供することを目的とする。
(発明の構成) 本発明は。
■ 有機ハロゲン化合物 (Bl  1.2,3−ベンゾトリアゾールと酸との塩
(C)エチレン性不飽和化合物 (Dl  フィルム性付与ポリマ ならびに (E)  活性線により遊離ラジカルを生成しつる増感
剤及び/又は増感剤系 を含有してなる感光性樹脂組成物に関する。
本発明においては、(C)エチレン性不飽和化合物。
■)フィルム性付与ポリマならびにfE)活性線により
遊離ラジカルを生成しつる増感剤及び/又は増感剤を含
む感光性樹脂組成物中に、(A)有機ノ・ロゲン化合物
および(B) 1,2,3−ベンゾトリアゾールと酸と
の塩をレジストはくυ性の改良のために必須成分として
組合せて含有される。有機ハロゲン化合物と、1,2,
3−ベンゾトリアゾールと酸との塩とを組合せて、感光
性樹脂組成物中に用いることKよって従来見られなかっ
た良好なはくυ性を得ることができる。従来プリント配
線板の製造工程中のはく他工程で用いられるはくシ剤は
、塩化メチレン又は、塩化メチレンとアルコールの混合
物が主なものでるるか2重合防止剤または塩化メチレン
揮発防止のため、エチレングリコール等の高揮発成分を
添加するものが多く見うけられる。
このようなはくシ液を用いて、有機ハロゲン化合物だけ
を含有する。感光性樹脂組成物をはくすすると。
基板表面から浮き上ったばくシ残渣物或は、エチレング
リコール中に溶解されたレジスト成分が再び基材表面に
強固に付着するという現象が起こる。
一方1.2,3−ベンゾトリアゾールと酸との塩だけを
含む感光性樹脂組成物を同様のはぐり液ではくりすると
、はくシ後レジストが存在した部分に赤い変色が見られ
エツチング不能となるか又は。
エツチング速度が低下するという現象が起こる。
有機ハロゲン化合物と、1,2,3−ベンゾトリアゾー
ルと酸との塩を組合せて用いると上記のような現象は全
くなくなυ、はくυ性が良好でエツチング性が良く、エ
ツチング速度の低下しない感光性樹脂組成物を得ること
ができる。
有機ハロゲン化合物の例としては、四塩化炭素。
クロロホルム、ブロモホルム+ 1+1.1−ト+)7
゜ロエタン、臭化メチレン、ヨウ化メチレン、塩化メチ
ンン、四臭化炭素、ヨードホルム、1,1,2,2−テ
トラフロモエタン、ペンタブロモエタン、トリブロモア
セトフェノン、ビス−(トリブロモメチル)スルホン、
トリブロモメチルフェニルスルホン、塩化ビニル、塩素
化オレフィン等が挙げられる。炭素−ハロゲン結合強度
の弱い脂肪族ノ・ロゲン化合物、特に同一炭素上に2個
以上のノ・ロゲン原子が結合している化合物とりわけ有
機ブロム化合物が好ましい。トリブロモメチル基を有す
る有機ハロゲン化合物が一層好ましい結果をろたえるが
中でもトリブロモメチルフェニルスルホンが最も好まし
い。
1、2,3−ベンゾトリアゾールと酸との塩の例として
は、1,2,3−ベンゾトリアゾールの塩酸塩。
酢酸ts 、シュウ酸塩、p−トルエンスルホン酸塩。
メタクリル酸塩、アクリル酸塩などがるるか、1゜2,
3−ベンゾトリアゾール塩酸塩が最も好ましい結果を与
える。
本発明における感光性樹脂組成物中のエチレン性不飽和
化合物としては、アクリレート単量体又はメタクリレー
ト単量体の使用が好ましい。例えばトリメチロールプロ
パントリアクリレート、ぺ1       ンタエリス
リトールトリアクリレート、1.6−ヘキサンジオール
ジアクリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシエ
トキシフェニル)プロパン。
2,2−ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル)プ
ロパン、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、
トリメチロールプロパントリメタクリレート等の多価ア
ルコールのポリアクリレート又はポリメタクリレート、
トリメチルプロパントリグリシジルエーテルのアクリル
酸又はメタクリル酸との付加物、ビスフェノールAエピ
クロルヒドリン系のエポキシ樹脂のアクリル酸又はメタ
クリル酸付加物等のエポキシアクリレート、無水フタル
e−ネオペンチルグリコール−アクリル酸の1=1:2
の縮合物停の低分子不飽和ポリエステル。
2、2, z: 2’−テトラキス(ヒドロキシメチル
)−3゜3′−オキシジグロバノールと6−ヘキサノリ
ド付加物との縮合物とアクリル酸のエステル化物が挙げ
られる。
フィルム性付与ポリマに対してエチレン性不飽和化合物
を10〜45重量−の範囲で用いることが好ましい。 
                       1本
発明のフィルム性付与ポリマには特に制限はないがビニ
ル共重合によって得られる高分子置体が好ましい。ビニ
ル共重合体に用いられるビニル重合性単量体としては、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸α−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル、アクリ
ル酸エチル。
アクリル酸メチルスチレン、ビニルトルエン、N−ビニ
ルピロリド/、α−メチルスチレン、α−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、アクリルアミド、アクリロニトリル、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルアクリ
レート等が用いられる。
又2本発明における活性線により遊離ラジカルを生成し
うる増感剤及び増感剤系についても何ら制限はなく、従
来知られているものを用いることができる。例えば、ベ
ンゾフェノン、4.4’−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、4.4’−ジエチルアミノベンゾフェノン、4.4
′−ジクロルベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、2
−エチルアントラキノン、t−ブチルアントラキノン等
のアントラキノン類、2−クロロチオキサントン、ベン
ゾインエチルエーテル、ペンゾインイングロビルエーテ
ル、ベンジル、2,4.5−1リアリ一ルイミダゾール
ニ量体(ロフインニ量体)などの1種又は2種以上が用
いられる。
本発明になる感光性樹脂組成物においてフィルム性付与
ポリマを30〜80重量部、エチレン性不飽和化合物7
0〜20重量部の範囲で、これらの総量が100重量部
になるように用い、この100重量部に対して、有機ハ
ロゲン化合物を0.1〜10重量部、1,2,3−ベン
ゾトリアゾールと酸との塩0.01〜5.0重量部、活
性線により遊離ラジカルを生成しつる増感剤及び/又は
増感剤系を0.5〜10重量部の範囲で用いることが好
ましい。1.2,3−ベンゾトリアゾールと酸との塩が
0.01重量部未満であるとはくり残渣物の再付着が起
こシ、5.Oi量部を越えると銅面が赤く変色すると同
時にはくシ残が生じる傾向がある。
これらの材料の混合順序、混合法等については特に制限
はない。
なお1本発明になる感光性樹脂組成物には、染料、可塑
剤、顔料、″a燃剤、安定剤等を必要に応じて添加する
こともできる。又、密着性付与剤企使用することも可能
である。
(発明の効果) 本発明によって、ばくり性の良好な感光性樹脂組成物を
得ることができる。
(実施例) 本発明の詳細な説明する。
実施例1 −a 以下に記した手順によりフィルム性付与ポリマを合成し
た。
表1の配合に従って二鍾類のモノマ混合溶液400gを
調整した。次に冷却器、@変針9滴下装置を備えたIで
の4ツロ反応フラスコにトルエン250 g、表1に従
って秤量したモノマ溶液各4009のうち150gを入
れ、窒素気流を通じ93°CK昇温した。次いで残りの
モノマzsog。
トルエン1sog、アゾビスインブチロニトリル0、5
09を混合し、溶解したものを3時間にわたつて滴下し
た。滴下終了後頁に7時間保温を続けた。この間フラス
コの温度は93℃に保たれた。
次にアゾビスインブチロニトリル0.25gtトルエン
759に溶)リイしたものを30分江わfc9滴下した
。滴下後4時間保温を続けたものをトルエン75g、メ
チルエチルケトン759で希釈し友ものをそれぞれポリ
マ(1)、ポリマ(2)とした。得られたポリマの特性
を表2に示した。
表1 (数字は重量%でろシ、総量は4oogでるる)弐 2 −b 表3に示す配合で以下の感光性樹脂組成物を配合した。
−%1新中村化学■製  トリメチロールプロパントリ
アクリレート 矢2日本化薬■製  ススτ2′−テトラキス(ヒドロ
キシメチル)−3,3’−オキシジグロバノールと6−
ヘキサノリド付加物との縮合物とアクリル酸のエステル
化物 薫新中村化学■製  ペンタエリスリトールトリアクリ
レート 薫4用ロ化学工条■製  2,2′−メチレンビス(4
−エチル−6−t−ブチルフェノール)表3中、5〜8
が本発明になる実施例でロシ。
他は比収例でるる。
−c 表3に示す1〜8の感光性樹脂組成物溶液を。
厚み23μmを有するポリエチレンテレフタレートフィ
ルム(東し■製ルミラー@)に乾燥後の膜厚が40μm
となるように塗工乾燥し、厚み351     μmの
ポリエチレンフィルムで被覆して感光性エレメントを得
た。得られた感光性エレメントからポリエチレンフィル
ムを剥離しながら、その感光層面を、スコッチブライト
■バフ0−ル(住友スリーM製)により研暦、乾燥し清
浄に妊れた銅張積層板(100mmX200圓)の銅面
上に日立高温ラミネーターを用い連続的に積層して試験
片を得た。積層条件を表4に示す。
冬エア圧カ −d 1−cで得られた各試験片につき1次に示す試験を行な
った。
(1)感度試験 21段ステップタブレットをそなえたネガを通し、超高
圧水銀灯によυ60 mJ/cm”で1−cで得られた
試験片を露光した。30分放置後、ポリエチレンテレフ
タレートフィルムを剥gftL、1゜1、1− ) I
J り0ロエタンシヤワーで現像しステップタブレット
の硬化段数を読みとった。結果を表3に示す。数字が大
きい程、感度が高いことを示す。
(2)はくシ性 °   1−Cで得られた試験片を、21段ステップタ
ブレットで7段になるように露光する。その後1、1.
1− ) IJクロロエタンシャワーによって現像した
。現像条件を表5に示す。
表 5 その後、13〜18℃の表7に示すはくシ液に1分間浸
漬し、ついで13〜18℃の塩化メチレン新液によって
30秒間、浸漬洗浄した。
得られた試験片の銅面状態について評価した。
評価基準を底6に示し、評価結果を表7に示す。
表  6 (3)  エツチング時間 試験(2)ではくシした1〜8の試験片を、50℃の塩
化第2鉄エツチング溶液でエツチングした。
35μm銅箔が完全に除去される時間をそれぞれ測定し
た。
試験の結果を表7に示す。
矢1 超高圧水銀灯(出力3 KSV ) 100 m
J 70m2≠2 塩化メチレン 薫3 塩化メチレン(95wt%) メチルアルコール(SWtチ) 薫4 スーパーリムーバー;(ヤマトヤ商会■)−%5
  はくり残り 苦6 銅面変色 チア はくシ残渣物付着 表7よυ2本発明になる感光性樹脂組成物は。
比較例に比べて、はぐり性、エツチング性が良好である
ことが示される。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(A)有機ハロゲン化合物 (B)1,2,3−ベンゾトリアゾールと酸との塩(C
    )エチレン性不飽和化合物 (D)フィルム性付与ポリマ ならびに (E)活性線により遊離ラジカルを生成しうる増感剤及
    び/又は増感剤系 を含有してなる感光性樹脂組成物。 2、有機ハロゲン化合物がトリメチルブロモフェニルス
    ルホンである特許請求の範囲第1項記載の感光性樹脂組
    成物。 3、1,2,3−ベンゾトリアゾールと酸との塩が、1
    ,2,3−ベンゾトリアゾール塩酸塩である特許請求の
    範囲第1項又は第2項記載の感光性樹脂組成物。
JP16745284A 1984-08-10 1984-08-10 感光性樹脂組成物 Pending JPS6156342A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16745284A JPS6156342A (ja) 1984-08-10 1984-08-10 感光性樹脂組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16745284A JPS6156342A (ja) 1984-08-10 1984-08-10 感光性樹脂組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6156342A true JPS6156342A (ja) 1986-03-22

Family

ID=15849951

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16745284A Pending JPS6156342A (ja) 1984-08-10 1984-08-10 感光性樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6156342A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6410235A (en) * 1987-07-02 1989-01-13 Hitachi Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6410235A (en) * 1987-07-02 1989-01-13 Hitachi Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6228560B1 (en) Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same
JPH0288615A (ja) 難燃性液状感光性樹脂組成物
KR102882782B1 (ko) 감광성 수지 적층체
JPWO2009116401A1 (ja) 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、ソルダーレジスト及びプリント配線板
US4980266A (en) Photosensitive resin composition
JP2677916B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JP3692197B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JPH08286372A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JP3859934B2 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
JP2019002978A (ja) ポジ型感光性レジスト
JP4752840B2 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及びプリント配線板の製造方法
JPS6156341A (ja) 感光性樹脂組成物
JPH0528827B2 (ja)
JPH02191955A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JPS6275633A (ja) 感光性樹脂組成物
JP2004341478A (ja) 感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及び感光性樹脂組成物
JPS60225841A (ja) 感光性樹脂組成物
JPH0411856B2 (ja)
JP4561560B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びプリント配線板の製造方法
JPH03122647A (ja) 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性フイルム
JPS6263933A (ja) 感光性樹脂組成物
JPH0284652A (ja) 感光性樹脂組成物および感光性樹脂組成物積層体
JPH0282248A (ja) 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性エレメント
JPS60225149A (ja) 感光性樹脂組成物
JPH0675371A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント