JPS6160878A - 金属薄膜被覆層を有するプラスチック成型品の製造方法 - Google Patents
金属薄膜被覆層を有するプラスチック成型品の製造方法Info
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- JPS6160878A JPS6160878A JP59182712A JP18271284A JPS6160878A JP S6160878 A JPS6160878 A JP S6160878A JP 59182712 A JP59182712 A JP 59182712A JP 18271284 A JP18271284 A JP 18271284A JP S6160878 A JPS6160878 A JP S6160878A
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、金属薄膜波ＹＢ層を有するプラストク成型品
の製造方法に関し、更に詳しくζ±、金属薄膜被覆層に
クランクが発生せず、高０光輝性表面を有するプラス手
・ｌり成型品の提供を目的とする。
の製造方法に関し、更に詳しくζ±、金属薄膜被覆層に
クランクが発生せず、高０光輝性表面を有するプラス手
・ｌり成型品の提供を目的とする。
（従来の技術）
従来、金属薄膜を有するプラス今・ツク成型Ｌ″ｆｕは
、プラス÷・ツク成型品の表面に真空蒸着、ホラ１、ス
タンプ、メッキ淳の方法により金ＨＦＩ ＩＩＡを形成
することにより得られているが、例えＬｆ、真空２５若
法では比較的低融点の金属、例えば７ルミニウム、スズ
、アンチモン等しか使用できないため、表面性質に優れ
た製品は得られず、また、ポットスタンプ法やメッキ法
等は、工程上煩雑であり経済的ではなかった。このよう
な問題点を解決する方法として、スパッタリング法が開
発されているが、この方法による金属砧膜は、その基材
との関係でクラックが生じ易く、また、その表面に設け
るトップコートｚとの接若性が劣り、実用化が困難であ
った。
、プラス÷・ツク成型品の表面に真空蒸着、ホラ１、ス
タンプ、メッキ淳の方法により金ＨＦＩ ＩＩＡを形成
することにより得られているが、例えＬｆ、真空２５若
法では比較的低融点の金属、例えば７ルミニウム、スズ
、アンチモン等しか使用できないため、表面性質に優れ
た製品は得られず、また、ポットスタンプ法やメッキ法
等は、工程上煩雑であり経済的ではなかった。このよう
な問題点を解決する方法として、スパッタリング法が開
発されているが、この方法による金属砧膜は、その基材
との関係でクラックが生じ易く、また、その表面に設け
るトップコートｚとの接若性が劣り、実用化が困難であ
った。
（問題点を解決するための手段）
本発明者は、上述の如き従来技術の欠点を解決すべく鋭
意研究の結果、プラス４・ツク成型品にスパッタリング
により金属薄膜を形成するに際し、特定のベースコート
を設け、該ベースコート層上に特定の条件で、金属をス
パッタリングし、次に形成された金属薄膜上に特定のト
ップコート層を設けることにより、金属薄膜のクラック
が発生せず、しかも金属薄膜とトップコート層とのｃ！
Ｅ着性が良好で、半永久的にすぐれた光輝性を保持する
プラス’ｆ ツク成型品が提供できることを見い出し、
本発明を完成した。
意研究の結果、プラス４・ツク成型品にスパッタリング
により金属薄膜を形成するに際し、特定のベースコート
を設け、該ベースコート層上に特定の条件で、金属をス
パッタリングし、次に形成された金属薄膜上に特定のト
ップコート層を設けることにより、金属薄膜のクラック
が発生せず、しかも金属薄膜とトップコート層とのｃ！
Ｅ着性が良好で、半永久的にすぐれた光輝性を保持する
プラス’ｆ ツク成型品が提供できることを見い出し、
本発明を完成した。
すなわち、本発明は、（ａ）金属薄膜被覆歴を形成すべ
きプラス→・、り成型品の表面に、紫外線硬化型アクリ
ル樹脂系ベースコート塗料を塗布し、紫外線により硬化
させて、−鉛筆硬度がＨ以上のベースコート層を形成す
る工程、 （ｂ）真空度Ｉ Ｘ Ｌ Ｏ〜６Ｘ Ｉ ０Ｔｏｒｒ、
アルゴン■、電流密度２０〜５００Ａ／ｍ’の条件下で
。
きプラス→・、り成型品の表面に、紫外線硬化型アクリ
ル樹脂系ベースコート塗料を塗布し、紫外線により硬化
させて、−鉛筆硬度がＨ以上のベースコート層を形成す
る工程、 （ｂ）真空度Ｉ Ｘ Ｌ Ｏ〜６Ｘ Ｉ ０Ｔｏｒｒ、
アルゴン■、電流密度２０〜５００Ａ／ｍ’の条件下で
。
スパッタリングにより、クロム、ニッケル等の金属、黄
銅、ステンレススチール等の各種合金の３００〜２００
０Ａの厚さのｓ膜を上記のベースコート層上に形成する
工程、 （Ｃ）反応性アルコキシシラン化合物を含有する酸価が
５〜５０である紫外線硬化型アクリル樹脂系トップフー
ト塗料を上記金Ｈ，薄膜面に塗布し、紫外線により硬化
させる工程、 からなることを特徴とする金属薄膜液ＷＩ層を有するプ
ラスチック成型品の製央方法である。
銅、ステンレススチール等の各種合金の３００〜２００
０Ａの厚さのｓ膜を上記のベースコート層上に形成する
工程、 （Ｃ）反応性アルコキシシラン化合物を含有する酸価が
５〜５０である紫外線硬化型アクリル樹脂系トップフー
ト塗料を上記金Ｈ，薄膜面に塗布し、紫外線により硬化
させる工程、 からなることを特徴とする金属薄膜液ＷＩ層を有するプ
ラスチック成型品の製央方法である。
本発明の詳細な説明すると、本発明方法において使用す
るプラスチック成型品の素材は、熱膨張係数が大きいと
金属薄膜の造膜時あるいは使用時、金属薄膜がクラック
を発生する原因となる。
るプラスチック成型品の素材は、熱膨張係数が大きいと
金属薄膜の造膜時あるいは使用時、金属薄膜がクラック
を発生する原因となる。
従って熱膨張係数の小さいことが望ましく、実用的には
２０Ｘ１０ｃｍ／ｃｍ／”０であることが好ましい。
２０Ｘ１０ｃｍ／ｃｍ／”０であることが好ましい。
特に好ましいプラスチック成型品の素材を具体的に挙げ
ると、ポリエステル樹脂、アクリロニトリル−ブタジェ
ン−スチレン共ｍ合物、アクリロニトリル−スチレン、
アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ＰＶＣ等あるい
は、これら共重合物またはブレンド物あるいはこれらの
を被覆、ｍＷしたもの等が挙げられる。
ると、ポリエステル樹脂、アクリロニトリル−ブタジェ
ン−スチレン共ｍ合物、アクリロニトリル−スチレン、
アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ＰＶＣ等あるい
は、これら共重合物またはブレンド物あるいはこれらの
を被覆、ｍＷしたもの等が挙げられる。
本発明でベースコートの形成に使用する紫外線硬化型ア
クリル樹脂組成物は、すでに公知の材料であり、紫外線
硬化型アクリル樹脂、増感剤およびその他の任意成分か
らなるものである。その紫外線硬化型アクリル樹脂の代
表例としては、その分子構造中にラジカル工合可能な不
飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル（
メタ）アクリレート樹脂、ポリエーテル（メタ）アクリ
レート樹脂、アクリル（メタ）アクリレート樹脂、エポ
キシ（メタ）アクリレート樹脂、ウレタン（メタ）アク
リレート樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メ
タ）アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマー、
およびスチレン、メチルスチレン、ジビニルベンゼン、
（メタ）アクリル酸エステル等の付加重合性化合物を包
含し、これらの成分を単独または混合物として含有する
ものである。
クリル樹脂組成物は、すでに公知の材料であり、紫外線
硬化型アクリル樹脂、増感剤およびその他の任意成分か
らなるものである。その紫外線硬化型アクリル樹脂の代
表例としては、その分子構造中にラジカル工合可能な不
飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル（
メタ）アクリレート樹脂、ポリエーテル（メタ）アクリ
レート樹脂、アクリル（メタ）アクリレート樹脂、エポ
キシ（メタ）アクリレート樹脂、ウレタン（メタ）アク
リレート樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メ
タ）アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマー、
およびスチレン、メチルスチレン、ジビニルベンゼン、
（メタ）アクリル酸エステル等の付加重合性化合物を包
含し、これらの成分を単独または混合物として含有する
ものである。
本発明においては、これらの紫外線硬化型アクリルまた
はオリゴマーｖｊ４＠とじて、その約５〜１００重量％
、好ましくは約３０ｉ量％以上が、トリ（メタ）アクリ
レート、ソルビトールトリグリシジル（メタ）アクリレ
ート等の３官能以上のポリ（メタ）アクリレートを使用
するのが望ましく、このようなポリ（メタ）アクリレー
ト等が。
はオリゴマーｖｊ４＠とじて、その約５〜１００重量％
、好ましくは約３０ｉ量％以上が、トリ（メタ）アクリ
レート、ソルビトールトリグリシジル（メタ）アクリレ
ート等の３官能以上のポリ（メタ）アクリレートを使用
するのが望ましく、このようなポリ（メタ）アクリレー
ト等が。
５重量％以下であるときは十分な表面硬度の被膜を形成
することができず、金Ｈ，ａ膜のフラッグ発生を防止す
ることができない。
することができず、金Ｈ，ａ膜のフラッグ発生を防止す
ることができない。
また必要な増感剤とは、紫外線のエネルギーによりフリ
ーラジカルを発生する化合物であって、ベンゾイン、ベ
ンゾフェノンあるいはそれらのエステルなどのカルボニ
ル化合物、過酸化ベンゾイルなどの有機過酸化物、アゾ
ビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、ジフェニルジ
サルファイド等のイオウ化合物等がある。
ーラジカルを発生する化合物であって、ベンゾイン、ベ
ンゾフェノンあるいはそれらのエステルなどのカルボニ
ル化合物、過酸化ベンゾイルなどの有機過酸化物、アゾ
ビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、ジフェニルジ
サルファイド等のイオウ化合物等がある。
その他の任意成分としては少量の有機溶剤、染料顔料等
の着色剤、ワックスその他の各種添加剤がある。
の着色剤、ワックスその他の各種添加剤がある。
このような紫外線硬化型アクリル樹脂系ベースコート塗
料は、脱脂処理したプラスチック成型品表面に、通常の
へヶ塗り、スプレー塗装、ディラフ［＋、カーテンフロ
ーコーター、ロール塗装等により塗布し、低〜高圧水銀
灯、アーク灯、キセノンランプ等により紫外線を照射し
、硬化させる。
料は、脱脂処理したプラスチック成型品表面に、通常の
へヶ塗り、スプレー塗装、ディラフ［＋、カーテンフロ
ーコーター、ロール塗装等により塗布し、低〜高圧水銀
灯、アーク灯、キセノンランプ等により紫外線を照射し
、硬化させる。
ある。
このようにして得られるベースコート層は、金属膜にク
ラックを発生させないようにするため、硬度がＨ以上（
Ｊ Ｉ Ｓ に５４００に基づく測定方法による。）
、特に好ましくは２膜以上であることが必要である。
ラックを発生させないようにするため、硬度がＨ以上（
Ｊ Ｉ Ｓ に５４００に基づく測定方法による。）
、特に好ましくは２膜以上であることが必要である。
本発明の方法において特に紫外線硬化型アクリル樹脂系
ベースコート塗料を使用するのは、冷エネルギー乾燥な
のでプラス今ツク成型品の劣化損傷を招かず、プラスチ
ック成型品の表面を平滑にし、しかもプラスチ斗・７成
型品の金属薄膜間のストレスを緩和し、プラス今ツク成
型品と金属ｇｊ膜との密着性を向上するためである。
ベースコート塗料を使用するのは、冷エネルギー乾燥な
のでプラス今ツク成型品の劣化損傷を招かず、プラスチ
ック成型品の表面を平滑にし、しかもプラスチ斗・７成
型品の金属薄膜間のストレスを緩和し、プラス今ツク成
型品と金属ｇｊ膜との密着性を向上するためである。
次にベースコー）Ｇ表面にスパッタリング法によりクロ
ム等の金属またはステンレス等の合金の金ｍａｒｓを形
成させる。
ム等の金属またはステンレス等の合金の金ｍａｒｓを形
成させる。
金Ｂ薄膜を形成させる方法は、例えば直流二極マグネト
ロンスパッタリング装置を用い、陰極ターゲットをクロ
ム等の金属またはステンレス等の合金として、１×１０
″″’−６ＸＩＯＴｏｒｒに真空引きしたペルジャーに
アルゴンガスを封入し、アルゴン圧として５ｘｉｏ〜ｌ
Ｘ１０Ｔｏｒｒにした後、直流二極間に電圧２００〜５
ｏｏｖ、電流密度２０〜５００ Ａ／ｒｎ’にて放電を
起させる。
ロンスパッタリング装置を用い、陰極ターゲットをクロ
ム等の金属またはステンレス等の合金として、１×１０
″″’−６ＸＩＯＴｏｒｒに真空引きしたペルジャーに
アルゴンガスを封入し、アルゴン圧として５ｘｉｏ〜ｌ
Ｘ１０Ｔｏｒｒにした後、直流二極間に電圧２００〜５
ｏｏｖ、電流密度２０〜５００ Ａ／ｒｎ’にて放電を
起させる。
放電により生成したアルボイオンは１１６極ターゲツト
のクロム等の金属またはステンレス等の合金を衝撃して
クロムまたはステンレス等の金属原子を放出する。この
金属原子はペルジャー内を直進し、ベースコート層表面
に到達し、凝縮してベースコートｃ表面に薄い金属皮膜
を形成する。
のクロム等の金属またはステンレス等の合金を衝撃して
クロムまたはステンレス等の金属原子を放出する。この
金属原子はペルジャー内を直進し、ベースコート層表面
に到達し、凝縮してベースコートｃ表面に薄い金属皮膜
を形成する。
スパッタリング条件として、二極間の電圧を２００〜６
００Ｖにすることによりスパッタリング現象を起す、電
圧が２００ｖ以下だと放電されてもスパッタリング現象
を起さず、一方６００■以上になると工業的に各種難点
が現れる。
００Ｖにすることによりスパッタリング現象を起す、電
圧が２００ｖ以下だと放電されてもスパッタリング現象
を起さず、一方６００■以上になると工業的に各種難点
が現れる。
また電流密度は２０〜５００Ａ／ゴが適当で、この範囲
以下になるとスパッタリング現象が起らず、一方この範
囲以上になると温度上昇によりプラス斗・ツク成型品が
変形したり、あるいは金属薄膜にクラックが生じやすく
なり、好ましくない。
以下になるとスパッタリング現象が起らず、一方この範
囲以上になると温度上昇によりプラス斗・ツク成型品が
変形したり、あるいは金属薄膜にクラックが生じやすく
なり、好ましくない。
また真空度Ｉ Ｘ Ｉ Ｏ〜６Ｘ Ｉ ０Ｔｏｒｒ、ア
ルゴン圧５Ｘ１０〜Ｉ Ｘ １０Ｔｏｒｒの範囲におい
てクラックを生じ難い金属薄膜が得られる。
ルゴン圧５Ｘ１０〜Ｉ Ｘ １０Ｔｏｒｒの範囲におい
てクラックを生じ難い金属薄膜が得られる。
真空度およびアルゴン圧がこの範囲外になると、スパッ
タリング現象を起さないかあるいは金属薄膜を形成して
もクラックが生じやすい。
タリング現象を起さないかあるいは金属薄膜を形成して
もクラックが生じやすい。
本発明においての金属８膜の膜厚は、通常３００〜２０
００Ａが適当である。それ以下になると光沢のある金属
膜が得られない。
００Ａが適当である。それ以下になると光沢のある金属
膜が得られない。
以上の如く形成された金属薄膜上に５次にトップコート
層を形成するが、このトップコート上塗塗料の基本的組
成は前記のベースコート用塗料と同様であるが、まず第
１の特徴として、その組成物としての酸価が、５〜５０
の範囲にコントロールされていることがある。このよう
な酸価のコントロールは、（メタ）アクリル酸を用いて
、紫外線硬化型アクリル樹脂を製造する際に容易に行な
うことができる。このような範囲の酸価の紫外線硬化型
アクリル樹脂を使用することによって、金属Ｓ膜等に対
する密着性が非常に優れるとともに、機械的・化学的物
性の非常に優れたトップコ−ト層が形成できる。更に第
２の特徴は、このようなトップコート剤がアクリル樹脂
に対してその０．１〜５重量％の反応性アルコキシシラ
ン化合物を含有していることである。このような反応性
アルコキシシランとして好ましいものは、Ｎ−（２−ア
ミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−アミノプロピルトリブトキシシラン等のアミノ
アルコキシシラン類、３−グリシドキシプロビルメチル
ジメトキシシラン等のエポキシアルコキシシラン、３−
クロロプロピルメチルジメトキシシラン等のクロルアル
コキシシラン類、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ
）シラン、３−メタクリキシプロピルトリメトキシシラ
ン等のビニル、メタクリロキシ基含有アルコキシシラン
類であり、これらの中で特に好ましいものは紫外線硬化
型アクリル樹脂の酸部分と反応性の高いアミン、エポキ
シ、メルカプト基含有のフルコキシシラン類であり、ま
た安定性の面では分子量の大なものが好ましい、このよ
うな反応性アルコキシシランを上記の範囲の量で添加す
ることによって、反応性アルコキシシランが金属表面と
紫外線硬化型アクリル樹脂との双方に作用して、金属表
面とトップコート層の優れた密着性を与える。
層を形成するが、このトップコート上塗塗料の基本的組
成は前記のベースコート用塗料と同様であるが、まず第
１の特徴として、その組成物としての酸価が、５〜５０
の範囲にコントロールされていることがある。このよう
な酸価のコントロールは、（メタ）アクリル酸を用いて
、紫外線硬化型アクリル樹脂を製造する際に容易に行な
うことができる。このような範囲の酸価の紫外線硬化型
アクリル樹脂を使用することによって、金属Ｓ膜等に対
する密着性が非常に優れるとともに、機械的・化学的物
性の非常に優れたトップコ−ト層が形成できる。更に第
２の特徴は、このようなトップコート剤がアクリル樹脂
に対してその０．１〜５重量％の反応性アルコキシシラ
ン化合物を含有していることである。このような反応性
アルコキシシランとして好ましいものは、Ｎ−（２−ア
ミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−アミノプロピルトリブトキシシラン等のアミノ
アルコキシシラン類、３−グリシドキシプロビルメチル
ジメトキシシラン等のエポキシアルコキシシラン、３−
クロロプロピルメチルジメトキシシラン等のクロルアル
コキシシラン類、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ
）シラン、３−メタクリキシプロピルトリメトキシシラ
ン等のビニル、メタクリロキシ基含有アルコキシシラン
類であり、これらの中で特に好ましいものは紫外線硬化
型アクリル樹脂の酸部分と反応性の高いアミン、エポキ
シ、メルカプト基含有のフルコキシシラン類であり、ま
た安定性の面では分子量の大なものが好ましい、このよ
うな反応性アルコキシシランを上記の範囲の量で添加す
ることによって、反応性アルコキシシランが金属表面と
紫外線硬化型アクリル樹脂との双方に作用して、金属表
面とトップコート層の優れた密着性を与える。
以上の如きトップコート剤の塗布方法および乾するのが
好ましい。
好ましい。
（作用・効果）
本発明方法では、上記の如き構成をとることによって、
すなわちベースコー）Ｆとして、鉛筆硬度Ｈ以上の層を
形成することによって、プラス＋・、り成型品の素材の
表面に起因する金属薄膜のクラック発生性が減少し、ま
た特定の条件下でのスパッタリングにより、クラック発
生性の低い光輝性層が形成され、更に、特定のトップコ
ート剤により、金属層と密着性の良いトップコート層が
形成されるので前述の如き従来技術の欠点が解決され、
すぐれた光輝性と長期表面耐久性のプラス廿ツタ成型品
が提供される。
すなわちベースコー）Ｆとして、鉛筆硬度Ｈ以上の層を
形成することによって、プラス＋・、り成型品の素材の
表面に起因する金属薄膜のクラック発生性が減少し、ま
た特定の条件下でのスパッタリングにより、クラック発
生性の低い光輝性層が形成され、更に、特定のトップコ
ート剤により、金属層と密着性の良いトップコート層が
形成されるので前述の如き従来技術の欠点が解決され、
すぐれた光輝性と長期表面耐久性のプラス廿ツタ成型品
が提供される。
次に実施例をあげて本発明を具体的に説明する。
なお、文中部または％とあるのは重量基準である。
実施例１
コロナ放電処理したポリエステルフィルム（厚さ５０部
ｍ）に、以下のベースコート塗料を塗布し、ベースコー
トｚを作成した。
ｍ）に、以下のベースコート塗料を塗布し、ベースコー
トｚを作成した。
２官能ウレタンアクリレート
（分子ｆ！ｋｌＯＯＯ〜１５００） ５０部平均３
官能ポリエステルアクリレート （分子量８００−１６００） ４０部ジペンタエ
リスリトール ヘキサアクリレート １０部 酢酸インブチル ５０部ベンゾフ
ェノン ３部ベンジルジメチル
ケタノール ２部この塗料をグラビアロール
コータ−で、約３戸ｍに塗布し、溶剤を乾燥後、１６０
Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯下１５ｃｍで、コンベア速度２０ｍ
／ｗｉｎで硬化して得た被膜の硬度は、鉛筆硬度は３Ｈ
であった。
官能ポリエステルアクリレート （分子量８００−１６００） ４０部ジペンタエ
リスリトール ヘキサアクリレート １０部 酢酸インブチル ５０部ベンゾフ
ェノン ３部ベンジルジメチル
ケタノール ２部この塗料をグラビアロール
コータ−で、約３戸ｍに塗布し、溶剤を乾燥後、１６０
Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯下１５ｃｍで、コンベア速度２０ｍ
／ｗｉｎで硬化して得た被膜の硬度は、鉛筆硬度は３Ｈ
であった。
次に、上記のベースコート上に、徳田真空（株）製のス
パッタリング装置で、真空度ｌＸ−＋
−今１０Ｔｏｒｒ、アルゴ
ン圧８ＸＬＯＴｏｒｒ、電圧５００Ｖ、電流密度２００
Ａ／ｍ”の条件でクロムのスパッタ膜（厚さ１００ＯＡ
）を形成した。
パッタリング装置で、真空度ｌＸ−＋
−今１０Ｔｏｒｒ、アルゴ
ン圧８ＸＬＯＴｏｒｒ、電圧５００Ｖ、電流密度２００
Ａ／ｍ”の条件でクロムのスパッタ膜（厚さ１００ＯＡ
）を形成した。
次いで、上記のスパッタＢ膜上に、以下のトップコート
塗料を塗布し、トップコートを作成した。
塗料を塗布し、トップコートを作成した。
２官能ウレタンアクリレート
（分子量１０００〜１５００） ５０部トリメチロー
ルプロパン トリアクリレート ２０部 １．６−ヘキサンジオール ジアクリレート １０部 ビス（メタアクリロキシエチル） フォスフェート ４部 メチルイソブチルケトン ２０部酢醜エチ
ル ２０部２−ヒドロキシ−
２メチル− トリフェニルプロパン−１−オン ４部３−メルカプト
プロピル トリメトキシシラン ２部 シリコン系レベリング剤 Ｂｙｋ−３０００，３１ （＃価；３０） この塗料をグラビアロールコータ−で約４．ｍの厚さを
塗布し、溶剤を乾燥後、８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯下１５
ｃｍでコンベア速ＨＩ Ｏｍ ／ ｔｔｔｒｎで硬化さ
せ、鉛ｉ硬度３Ｈで密着性１ ｍ ｍ巾りロスカットセ
ロテープ剥［１００／１００の耐久性良好な美麗なりロ
ムスパッタリングのフィルムを作成することができた。
ルプロパン トリアクリレート ２０部 １．６−ヘキサンジオール ジアクリレート １０部 ビス（メタアクリロキシエチル） フォスフェート ４部 メチルイソブチルケトン ２０部酢醜エチ
ル ２０部２−ヒドロキシ−
２メチル− トリフェニルプロパン−１−オン ４部３−メルカプト
プロピル トリメトキシシラン ２部 シリコン系レベリング剤 Ｂｙｋ−３０００，３１ （＃価；３０） この塗料をグラビアロールコータ−で約４．ｍの厚さを
塗布し、溶剤を乾燥後、８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯下１５
ｃｍでコンベア速ＨＩ Ｏｍ ／ ｔｔｔｒｎで硬化さ
せ、鉛ｉ硬度３Ｈで密着性１ ｍ ｍ巾りロスカットセ
ロテープ剥［１００／１００の耐久性良好な美麗なりロ
ムスパッタリングのフィルムを作成することができた。
参考例１
実施例１におけるベースコートの鉛筆硬度をＨＢとした
場合は、トップコート硬化後、スパッタリング膜に廁か
いクラックを多数化じた。
場合は、トップコート硬化後、スパッタリング膜に廁か
いクラックを多数化じた。
参考例２
実施例１のトップコートの形成において、３−メル力プ
トプロビルトリメトキシシラ／を除いた塗料を用いた場
合は、トップコートは、密着テストで２０７１００であ
り、密着不良であった。
トプロビルトリメトキシシラ／を除いた塗料を用いた場
合は、トップコートは、密着テストで２０７１００であ
り、密着不良であった。
参考例３
実施例１において、トップコートの形成においてビス（
メタクリロキシシジル）フォスフニートを除き、醜価を
５以下とした時は、密着テストでトップコートはＯ／１
００で′ｌＩ：着不良であった。
メタクリロキシシジル）フォスフニートを除き、醜価を
５以下とした時は、密着テストでトップコートはＯ／１
００で′ｌＩ：着不良であった。
実施例２
ＡＢＳ！＆型物に、以下のベースコート塗料を塗布し、
トップコート層を作成した。
トップコート層を作成した。
２官能エポキシアクリレート
（分子［６００〜１０００） ５０部ペンタエリ
スリトール トリアクリレ−） ４０部 ベンゾフェノン ２部１−ハイド
ロキシシクロ ヘキシルケトン ３部 ｎ−へキサン ３０部インプロ
ピルアルコール ２部部酢酸エチル
２部部キシレン
３０部メチルセロンルブ
３０部プチルセロンルブ ２
０部この塗料をエアースプレーで約１１０１ｔに塗布し
、溶剤乾燥後、８０ Ｗ ／ ｃ ｍ高圧水銀灯下、１
５ｃｍで回転しながら、５秒ｆｉｌｌ硬化させ、鉛筆硬
度Ｈのベースコート居を得た。
スリトール トリアクリレ−） ４０部 ベンゾフェノン ２部１−ハイド
ロキシシクロ ヘキシルケトン ３部 ｎ−へキサン ３０部インプロ
ピルアルコール ２部部酢酸エチル
２部部キシレン
３０部メチルセロンルブ
３０部プチルセロンルブ ２
０部この塗料をエアースプレーで約１１０１ｔに塗布し
、溶剤乾燥後、８０ Ｗ ／ ｃ ｍ高圧水銀灯下、１
５ｃｍで回転しながら、５秒ｆｉｌｌ硬化させ、鉛筆硬
度Ｈのベースコート居を得た。
上記ベースコート層上に、徳田真空（株）製のスパッタ
リング装置で、真空度８ Ｘ １０Ｔｏｒｒ、アルゴン
圧８ Ｘ Ｉ ＯＴｏｒｒ、電圧４００Ｖ、電流密ｆｆ
３００Ａ／ゴの条件でニッケルのスパッタ膜（１５００
Ａ）を形成した。
リング装置で、真空度８ Ｘ １０Ｔｏｒｒ、アルゴン
圧８ Ｘ Ｉ ＯＴｏｒｒ、電圧４００Ｖ、電流密ｆｆ
３００Ａ／ゴの条件でニッケルのスパッタ膜（１５００
Ａ）を形成した。
上記ニッケルスパッタ薄膜上に、以下のトップコート塗
料を、塗布してトップコート層を作成した。
料を、塗布してトップコート層を作成した。
２官能エポキシアクリレート
（分子量６００〜１０００） ３０部２官能ポリ
エーテルアクリレート （分子Ｑ Ｉ ０００〜ｌ ４００ ） ３０
部ヒドロキシバリン酸ネオペンチル グリコールジアクリレート １５部 ジェトキシアセトフェノン ３部ベンゾイ
ンイソブチルエーテル １部アクリルジアクリ
レート（分子量 ５００、醜価１５０） ５部３−ア
ミツブａピルトリプトキシ シラ７ ２部酢酸エチル
２０部インプロピルアルコ
ール ２０部エチル七ロンルブ
３０部メチルイソブチルケトン
３０部トルエン ３０部
信越シリコンＫ Ｆ −６９０、２＋；Ｉｔ（酩化１２
） 上記塗料を、エアスプレーで約８終ｍに塗布し、溶剤を
乾燥後、８０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯Ｆ１５ｃｍで回転さ
せながら６秒間照射して硬化させ、鉛筆硬度３Ｈで、密
着性１ｍｍ巾クロりカントセロテ〜プ剥離テストは１０
０／１００でｔ。
エーテルアクリレート （分子Ｑ Ｉ ０００〜ｌ ４００ ） ３０
部ヒドロキシバリン酸ネオペンチル グリコールジアクリレート １５部 ジェトキシアセトフェノン ３部ベンゾイ
ンイソブチルエーテル １部アクリルジアクリ
レート（分子量 ５００、醜価１５０） ５部３−ア
ミツブａピルトリプトキシ シラ７ ２部酢酸エチル
２０部インプロピルアルコ
ール ２０部エチル七ロンルブ
３０部メチルイソブチルケトン
３０部トルエン ３０部
信越シリコンＫ Ｆ −６９０、２＋；Ｉｔ（酩化１２
） 上記塗料を、エアスプレーで約８終ｍに塗布し、溶剤を
乾燥後、８０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯Ｆ１５ｃｍで回転さ
せながら６秒間照射して硬化させ、鉛筆硬度３Ｈで、密
着性１ｍｍ巾クロりカントセロテ〜プ剥離テストは１０
０／１００でｔ。
リ、耐久性良好で美麗なニッケルスバンタ１１りを有す
るＡＢＳ成型物が得られた。
るＡＢＳ成型物が得られた。
参考例４
実施例２のベースコートの硬度をＦとした場合は、トッ
プコート形ｒ＆後に、数本のクラックが発生した。
プコート形ｒ＆後に、数本のクラックが発生した。
参考例５
実施例２のトップコートの形成に際し、シラン化合物を
使用しない場合は、トップコート層の密あった。
使用しない場合は、トップコート層の密あった。
参考例６
実施例２のトップコートの形成に際し、アクリルジアク
リレートを使用しなかった場合は、密若性が不十分であ
った。
リレートを使用しなかった場合は、密若性が不十分であ
った。
特許出願人 大日精化工業株式会社
）？宇ｑ＝
Claims (2)
- （１）（ａ）金属薄膜被覆層を形成すべきプラスチック
成型品の表面に、紫外線硬化型アクリル樹脂系ベースコ
ート塗料を塗布し、紫外線により硬化させて、鉛筆硬度
がＨ以上のベースコート層を形成する工程、 （ｂ）真空度１×１０＾−＾３〜６×１０＾−＾５Ｔｏ
ｒｒ、アルゴン圧５×１０＾−＾３〜１×１０＾−＾４
Ｔｏｒｒ、電圧２００〜６００Ｖ、電流密度２０〜５０
０Ａ／ｍ＾２の条件下で、スパッタリングにより、クロ
ム、ニッケル等の金属、黄銅、ステンレススチール等の
各種合金の３００〜２０００Åの厚さの薄膜を上記のベ
ースコート層上に形成する工程、 （ｃ）反応性アルコキシシラン化合物を含有する酸価が
５〜５０である紫外線硬化型アクリル樹脂系トップコー
ト塗料を上記金属薄膜面に塗布し、紫外線により硬化さ
せる工程、 からなることを特徴とする金属薄膜被覆層を有するプラ
スチック成型品の製造方法。 - （２）紫外線硬化型アクリル樹脂系ベースコート用塗料
およびトップコート塗料が、３官能以上の成分を５重量
％以上含有する特許請求の範囲第（１）項に記載の方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59182712A JPS6160878A (ja) | 1984-09-03 | 1984-09-03 | 金属薄膜被覆層を有するプラスチック成型品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59182712A JPS6160878A (ja) | 1984-09-03 | 1984-09-03 | 金属薄膜被覆層を有するプラスチック成型品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6160878A true JPS6160878A (ja) | 1986-03-28 |
| JPH0422984B2 JPH0422984B2 (ja) | 1992-04-21 |
Family
ID=16123114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59182712A Granted JPS6160878A (ja) | 1984-09-03 | 1984-09-03 | 金属薄膜被覆層を有するプラスチック成型品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6160878A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01212753A (ja) * | 1988-02-19 | 1989-08-25 | Ikuyo:Kk | 合成樹脂成形品の金属外観形成方法 |
| JP2003231207A (ja) * | 2002-11-25 | 2003-08-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 複合薄膜 |
| JP2010090186A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-22 | Fujikura Kasei Co Ltd | ベースコート塗料組成物、および光輝性複合塗膜 |
| JP2011122119A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Fujikura Kasei Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型塗料組成物、および複合塗膜 |
| JP2012056252A (ja) * | 2010-09-10 | 2012-03-22 | Kaneka Corp | アクリル系樹脂フィルム |
| JP2016511776A (ja) * | 2013-01-17 | 2016-04-21 | サン ケミカル コーポレイション | 紙および板紙用のｅｃプライマーコーティング |
| WO2019225465A1 (ja) * | 2018-05-24 | 2019-11-28 | Dic株式会社 | 重合性組成物、その硬化物、フォトスペーサー、表示素子用オーバーコート、表示素子用層間絶縁材料、及び液晶表示素子 |
-
1984
- 1984-09-03 JP JP59182712A patent/JPS6160878A/ja active Granted
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01212753A (ja) * | 1988-02-19 | 1989-08-25 | Ikuyo:Kk | 合成樹脂成形品の金属外観形成方法 |
| JP2003231207A (ja) * | 2002-11-25 | 2003-08-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 複合薄膜 |
| JP2010090186A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-22 | Fujikura Kasei Co Ltd | ベースコート塗料組成物、および光輝性複合塗膜 |
| JP2011122119A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Fujikura Kasei Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型塗料組成物、および複合塗膜 |
| JP2012056252A (ja) * | 2010-09-10 | 2012-03-22 | Kaneka Corp | アクリル系樹脂フィルム |
| JP2016511776A (ja) * | 2013-01-17 | 2016-04-21 | サン ケミカル コーポレイション | 紙および板紙用のｅｃプライマーコーティング |
| WO2019225465A1 (ja) * | 2018-05-24 | 2019-11-28 | Dic株式会社 | 重合性組成物、その硬化物、フォトスペーサー、表示素子用オーバーコート、表示素子用層間絶縁材料、及び液晶表示素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0422984B2 (ja) | 1992-04-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |