JPS6165877A - ヒドロキシラクトン類 - Google Patents
ヒドロキシラクトン類Info
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- JPS6165877A JPS6165877A JP59187153A JP18715384A JPS6165877A JP S6165877 A JPS6165877 A JP S6165877A JP 59187153 A JP59187153 A JP 59187153A JP 18715384 A JP18715384 A JP 18715384A JP S6165877 A JPS6165877 A JP S6165877A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、第1式
(ただし、前記第1式中、R1はメチル基および4−メ
チル−3−埒ンテニル基のいずれかを示し、R2は、R
1がメチル基のとき3−メチル−2−ブテニル基であり
、R1が4−メチル−3−ペンテニル基のとき水素原子
である。)で示されるヒドロキシラクトン類に関し、さ
らに詳しく言うと、たとえばペリレンやローズフランの
合成に有用な原料としての、前記第1式で示されるヒド
ロキシラクトン類に関する。
チル−3−埒ンテニル基のいずれかを示し、R2は、R
1がメチル基のとき3−メチル−2−ブテニル基であり
、R1が4−メチル−3−ペンテニル基のとき水素原子
である。)で示されるヒドロキシラクトン類に関し、さ
らに詳しく言うと、たとえばペリレンやローズフランの
合成に有用な原料としての、前記第1式で示されるヒド
ロキシラクトン類に関する。
[従来の技術]
3位あるいは2位および3位に置換基を有するフラン類
は天然に広く分布している。たとえば、第2式で示され
るところの3位に置換基を有するフランすなわちペリレ
ンは動植物から単離される。
は天然に広く分布している。たとえば、第2式で示され
るところの3位に置換基を有するフランすなわちペリレ
ンは動植物から単離される。
また、第3式で示されるところの2位および3位に置換
基を有するフランすなわちローズフランはブルガリアロ
ーズから単離される。
基を有するフランすなわちローズフランはブルガリアロ
ーズから単離される。
前記ペリレンやローズフランはたとえば香料等に有用で
あるので、その合成法の確立が望まれていて、その合成
法としては、第4式および第5式で示されるフラノブテ
ノリドからの還元による方法が報告されている[D、
R,Gerlge et al、Tetrahe
dron Lett、、(1977) 、 4443
] 。
あるので、その合成法の確立が望まれていて、その合成
法としては、第4式および第5式で示されるフラノブテ
ノリドからの還元による方法が報告されている[D、
R,Gerlge et al、Tetrahe
dron Lett、、(1977) 、 4443
] 。
H3
[発明が解決しようとする問題点]
前記報文によるローズフラン等の合成では、4−メチル
−(5H)−フラン−2−オンを出発[料にして側鎖の
ジメチルアリル基を導入するのであるが、位置異性体を
副生じて目的前駆体の収率が低く、しかも目的前駆体の
分離精製が困難である。
−(5H)−フラン−2−オンを出発[料にして側鎖の
ジメチルアリル基を導入するのであるが、位置異性体を
副生じて目的前駆体の収率が低く、しかも目的前駆体の
分離精製が困難である。
[問題点を解決するための手段]
この発明者らは、前記事情に基づき、前記第4式および
第5式で示されるフラノブテノリドを収率良く、しかも
副生物のない単一物として合成することのできるヒドロ
キシラクトン類を合成することができることを見出して
この発明に到達した。
第5式で示されるフラノブテノリドを収率良く、しかも
副生物のない単一物として合成することのできるヒドロ
キシラクトン類を合成することができることを見出して
この発明に到達した。
この発明に係る、前記第1式で示されるヒドロキシチク
トン類は、さらに次の第6式および第7式で示すことが
でき、いずれも新規な化合物である。
トン類は、さらに次の第6式および第7式で示すことが
でき、いずれも新規な化合物である。
(以下余白)
この発明に係るヒドロキシラクトン類は、いずれもメタ
リルアルコールを出発原料にして次のようにして合成す
ることができる。すなわち、第6式で示されるヒドロキ
シラクトンを合成する場合、先ず、過剰のN、N、N、
N−テトラメチルエチレンジアミンの存在下にβ−メタ
リルアルっ−ルとn−ブチルリチウムとを反応させてβ
−メタリルアルコールのリチウム化物を得、このリチウ
ム化物に3,3−ジメチルアリルクロライドを反応させ
ることにより、第8式で示されるアリルアルコール誘導
体を得る。
リルアルコールを出発原料にして次のようにして合成す
ることができる。すなわち、第6式で示されるヒドロキ
シラクトンを合成する場合、先ず、過剰のN、N、N、
N−テトラメチルエチレンジアミンの存在下にβ−メタ
リルアルっ−ルとn−ブチルリチウムとを反応させてβ
−メタリルアルコールのリチウム化物を得、このリチウ
ム化物に3,3−ジメチルアリルクロライドを反応させ
ることにより、第8式で示されるアリルアルコール誘導
体を得る。
また、第7式で示されるヒドロキシラクトンを合成する
場合、β−メタリルアルコールをたとえばジフェニルジ
スルフィド(1,5当量)およびトリーn−ブチルホス
フィン(1,1当量、ピリジン溶液、0℃)で処理して
第9式で示されるスルフィド化合物を得、次いでこのス
ルフィド化合物をn−ブチルリチウム(1,1当量、テ
トラハイドロフラン溶液、−78℃)の存在下に3,3
−ジメチルアリルクロライドと処理して第10式で示さ
れる化合物を得る。
場合、β−メタリルアルコールをたとえばジフェニルジ
スルフィド(1,5当量)およびトリーn−ブチルホス
フィン(1,1当量、ピリジン溶液、0℃)で処理して
第9式で示されるスルフィド化合物を得、次いでこのス
ルフィド化合物をn−ブチルリチウム(1,1当量、テ
トラハイドロフラン溶液、−78℃)の存在下に3,3
−ジメチルアリルクロライドと処理して第10式で示さ
れる化合物を得る。
(ただし、第9式および第10式中phはフェニル基を
示す、) この第1O式で示される化合物を、たとえばm−クロロ
過安息香酸(1,0当量、塩化メチレン溶液、−20℃
)等の過酸化物で酸化すると、第11式で示されるスル
ホキシド化合物が生成し、このスルホキシド化合物をた
とえばトリエチルホスファイトあるいはジエチルアミン
と処理すると第12式で示されるアリルアルコール化合
物が得られる。
示す、) この第1O式で示される化合物を、たとえばm−クロロ
過安息香酸(1,0当量、塩化メチレン溶液、−20℃
)等の過酸化物で酸化すると、第11式で示されるスル
ホキシド化合物が生成し、このスルホキシド化合物をた
とえばトリエチルホスファイトあるいはジエチルアミン
と処理すると第12式で示されるアリルアルコール化合
物が得られる。
第12式で示されるアリルアルコール化合物と第8式で
示されるアリルアルコール化合物とは異性体関係にある
。
示されるアリルアルコール化合物とは異性体関係にある
。
H3
第8式および第12式で示されるアリルアルコール化合
物はいずれも同様の方法によりヒドロキシラクトンに変
換される。
物はいずれも同様の方法によりヒドロキシラクトンに変
換される。
すなわち、第8式で示されるアリルアルコール化合物を
例にとると、先ず、第8式で示されるアリルアルコール
化合物は、たとえばバナジルアセチルアセトナート(2
モル%、塩化メチレン溶液、0℃)の存在下にt−ブチ
ルハイドロパーオキサイド(2,0当量)で酸化して、
第13式で示されるエポキシド化合物とする0次いで、
このエポキシド化合物をエタノール中でシアン化ナトリ
ウム(5,C1量)と共に16時間還流すると、ペイン
(Payne )転位を伴なった一連の反応により、第
14式で示されるジヒドロキシカルボン酸第14式で示
されるこのジヒドロキシカルボン酸化合物をトルエン中
で共沸的に還流すると、脱水、閉環して、第6式で示さ
れるヒドロキシラクトンが得られる。
例にとると、先ず、第8式で示されるアリルアルコール
化合物は、たとえばバナジルアセチルアセトナート(2
モル%、塩化メチレン溶液、0℃)の存在下にt−ブチ
ルハイドロパーオキサイド(2,0当量)で酸化して、
第13式で示されるエポキシド化合物とする0次いで、
このエポキシド化合物をエタノール中でシアン化ナトリ
ウム(5,C1量)と共に16時間還流すると、ペイン
(Payne )転位を伴なった一連の反応により、第
14式で示されるジヒドロキシカルボン酸第14式で示
されるこのジヒドロキシカルボン酸化合物をトルエン中
で共沸的に還流すると、脱水、閉環して、第6式で示さ
れるヒドロキシラクトンが得られる。
同様にして、第12式で示されるアリルアルコール化合
物も、過酸化物で酸化して第15式で示されるエポキシ
ド化合物とし、このエポキシド化合物をたとえばアルコ
ール中でシアン化合物と共に加熱することにより、ペイ
ン転位、シアノ基の導入、加水分解を経て、第16式で
示されるジヒドロキシカルボン酸化合物を得、このジヒ
ドロキシカルボン酸化合物を脱水、閉環することにより
、第7式で示されるヒドロキシラクトンが得らこのよう
にして得られるヒドロキシラクトン類は、簡単な脱水反
応により容易に、しかも位置異性体の副生を生じること
なく第4式および第5式で示されるフラノブテノリドに
変換することができ、これらのフラノブテノリドは既述
のように還元反応により容易にペリレンおよびローズフ
ランにほぼ定量的に誘導することができる。したがって
、この発明に係るヒドロキシラクトン類は、ペリレンお
よびローズフランの合成に有用な原料であり、またこの
発明に係るヒドロキシフラン類は、β−メタリルアルコ
ールから誘導することができるので、ペリレンおよびロ
ーズフランの工業的生産を可能とすることができる。
物も、過酸化物で酸化して第15式で示されるエポキシ
ド化合物とし、このエポキシド化合物をたとえばアルコ
ール中でシアン化合物と共に加熱することにより、ペイ
ン転位、シアノ基の導入、加水分解を経て、第16式で
示されるジヒドロキシカルボン酸化合物を得、このジヒ
ドロキシカルボン酸化合物を脱水、閉環することにより
、第7式で示されるヒドロキシラクトンが得らこのよう
にして得られるヒドロキシラクトン類は、簡単な脱水反
応により容易に、しかも位置異性体の副生を生じること
なく第4式および第5式で示されるフラノブテノリドに
変換することができ、これらのフラノブテノリドは既述
のように還元反応により容易にペリレンおよびローズフ
ランにほぼ定量的に誘導することができる。したがって
、この発明に係るヒドロキシラクトン類は、ペリレンお
よびローズフランの合成に有用な原料であり、またこの
発明に係るヒドロキシフラン類は、β−メタリルアルコ
ールから誘導することができるので、ペリレンおよびロ
ーズフランの工業的生産を可能とすることができる。
[実施例]
次に、参考例および実施例を挙げてこの発明をさらに具
体的に説明する。
体的に説明する。
(参考例1)
第12式で示されるアリルアルコール化合物の合成。
β−メタリルアルコール7.2g(0,1厘of )と
トリーn−ブチルホスフィン30.35 g (0,1
5mat )とジフェニルジスルフィド32.7g(0
,15mol )とを含むピリジン溶液を、室温下に1
時間15分撹拌した。撹拌後、ピリジンを減圧下に溜去
し、得られた残渣にジエチルエーテルを加え、10%塩
酸、10%苛性ソーダ水溶液、水および飽和食塩水で、
この順に洗浄操作した。
トリーn−ブチルホスフィン30.35 g (0,1
5mat )とジフェニルジスルフィド32.7g(0
,15mol )とを含むピリジン溶液を、室温下に1
時間15分撹拌した。撹拌後、ピリジンを減圧下に溜去
し、得られた残渣にジエチルエーテルを加え、10%塩
酸、10%苛性ソーダ水溶液、水および飽和食塩水で、
この順に洗浄操作した。
洗浄後、硫醜マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に溜
去した。得られた残渣を蒸留すると、bp=125〜1
31℃で、第9式で示されるスルフィドが68%の収率
で得られた。
去した。得られた残渣を蒸留すると、bp=125〜1
31℃で、第9式で示されるスルフィドが68%の収率
で得られた。
次いで、前記スルフィド500B(3,05mmol
)を含むテトラハイドロフラン溶液5mlに、−78℃
に冷却しながら、n−ブチルリチウムの10%n−ヘキ
サン溶液を滴下し、5分間撹拌した0次いで、同温度で
3,3−ジメチルアリルクロライド627 mg (6
,1mmol )のテトラハイドロフラン溶液5mlを
滴下し、25分間撹拌した後、室温に戻し、35分間撹
拌して生成液を得た。この生成液に飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液を加え、次いでジエチルエーテルで希釈し、
得られる有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。乾燥後、溶媒を減圧下に溜去して第10
式で示される化合物870mgを得た。
)を含むテトラハイドロフラン溶液5mlに、−78℃
に冷却しながら、n−ブチルリチウムの10%n−ヘキ
サン溶液を滴下し、5分間撹拌した0次いで、同温度で
3,3−ジメチルアリルクロライド627 mg (6
,1mmol )のテトラハイドロフラン溶液5mlを
滴下し、25分間撹拌した後、室温に戻し、35分間撹
拌して生成液を得た。この生成液に飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液を加え、次いでジエチルエーテルで希釈し、
得られる有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。乾燥後、溶媒を減圧下に溜去して第10
式で示される化合物870mgを得た。
第10式で示される化合物7.07g (30,47m
mol)の塩化メチレン溶液100m1に炭酸水素ナト
リウム12.8 g (152,4mmol )を加え
、食塩−氷で冷却しながら、m−クロロ過安息香酸5.
26gを加えた。同温度に冷却しながら25分間撹拌し
て生成液を得た。この生成液に2%のチオ硫酸ソーダ水
溶液を加えて、有機層を分取し、′この有機層に水およ
び飽和食塩水で洗浄操作した後、この有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。
mol)の塩化メチレン溶液100m1に炭酸水素ナト
リウム12.8 g (152,4mmol )を加え
、食塩−氷で冷却しながら、m−クロロ過安息香酸5.
26gを加えた。同温度に冷却しながら25分間撹拌し
て生成液を得た。この生成液に2%のチオ硫酸ソーダ水
溶液を加えて、有機層を分取し、′この有機層に水およ
び飽和食塩水で洗浄操作した後、この有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。
乾燥後、この有機層から溶媒を溜去し、得られる残渣を
、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、ジエ
チルエーテル/n−ヘキサン(l:4、V/V)の溜升
から第11式で示されるスルホキシド化合物3.63g
を得た。
、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、ジエ
チルエーテル/n−ヘキサン(l:4、V/V)の溜升
から第11式で示されるスルホキシド化合物3.63g
を得た。
このスルホキシド化合物1.00 g (4,03mm
al)のメタノール溶液20m1に、ジエチルアミ70
.885 g (12,1mmal )を加え、10時
間加熱還流した。得られた生成液から溶媒を減圧下に溜
去し、残渣をジエチルエーテルで希釈した。このジエチ
ルエーテル溶液を、2%塩酸、水、15%苛性ソーダ水
溶液、水、飽和食塩水でこの順に洗浄操作した。洗浄後
、有a層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を溜去
して残渣を得た。この残渣を、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付し、ジエチルエーテル/n−ヘキサン
(1:6、V/V)の溜升から表題のアリルアルコール
化合物を740B得た。
al)のメタノール溶液20m1に、ジエチルアミ70
.885 g (12,1mmal )を加え、10時
間加熱還流した。得られた生成液から溶媒を減圧下に溜
去し、残渣をジエチルエーテルで希釈した。このジエチ
ルエーテル溶液を、2%塩酸、水、15%苛性ソーダ水
溶液、水、飽和食塩水でこの順に洗浄操作した。洗浄後
、有a層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を溜去
して残渣を得た。この残渣を、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付し、ジエチルエーテル/n−ヘキサン
(1:6、V/V)の溜升から表題のアリルアルコール
化合物を740B得た。
IR(y、c+a−1) 3600.3420.13
70.99O NMR(δ、 ppm ) 1.58 (IH%S)1
.60 (3H,S) 1.70 (6H,5X2) 2.72 (2H,dd、 J = 6 X 6 Hz) 3.82〜4.02 (2H,m) 4.92〜5.20 (LH,m) 5.20〜5.50 (LH,m) (参考例?) 第15式で示されるエポキシド化合物の合成。
70.99O NMR(δ、 ppm ) 1.58 (IH%S)1
.60 (3H,S) 1.70 (6H,5X2) 2.72 (2H,dd、 J = 6 X 6 Hz) 3.82〜4.02 (2H,m) 4.92〜5.20 (LH,m) 5.20〜5.50 (LH,m) (参考例?) 第15式で示されるエポキシド化合物の合成。
参考例1で合成したアリルアルコール化合物200mg
(1,43mmol ) (7)塩化メチレン溶液1
0m1に、バナジルアセチルアセトナート7、6 mg
の塩化メチレン溶液(濃度;2mo1%)を加え、次い
で水冷下に、2.86 mmolのt−ブチルハイドロ
パーオキサイドを有する塩化メチレン溶液1.41m1
を加え、しかる後、室温で3.5時間撹拌して生成液を
得た。
(1,43mmol ) (7)塩化メチレン溶液1
0m1に、バナジルアセチルアセトナート7、6 mg
の塩化メチレン溶液(濃度;2mo1%)を加え、次い
で水冷下に、2.86 mmolのt−ブチルハイドロ
パーオキサイドを有する塩化メチレン溶液1.41m1
を加え、しかる後、室温で3.5時間撹拌して生成液を
得た。
この生成液に8%亜硫酸ソーダ水溶液を加えた後、有機
層を分取し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒の溜去後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付してジエチルエーテル/n−ヘキサン(l
:2、V/V)の溜升から表題のエポキシド化合物を8
5%の収率で得た。
層を分取し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒の溜去後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付してジエチルエーテル/n−ヘキサン(l
:2、V/V)の溜升から表題のエポキシド化合物を8
5%の収率で得た。
IR(y、cm−’)3400.1440.1370.
1010 35N (δ、ppm ) 1.33 (3H,S)1
.66 (3H,S) 1.73 (3H,S) 1.92〜2.53 (3H,m) 3.03 (IH,t、J=7Hz) 3.63 (2H,br、 S) 4.9.2〜5.40 (IH,m) (実施例1) 第7式で示されるヒドロキシラクトンの合成。
1010 35N (δ、ppm ) 1.33 (3H,S)1
.66 (3H,S) 1.73 (3H,S) 1.92〜2.53 (3H,m) 3.03 (IH,t、J=7Hz) 3.63 (2H,br、 S) 4.9.2〜5.40 (IH,m) (実施例1) 第7式で示されるヒドロキシラクトンの合成。
参考例2で得たエポキシド化合物150B(0,962
mmal )を含水エタノール[エタノール/水=2/
3、V/V]12m1に溶解し、この溶液にシアン化ナ
トリウム236mgを加え、7時間加熱還流した。減圧
下にエタノールを溜去し、得られた残渣に濃塩酸を加え
てpl(を1〜2に調整した後、塩化メチレンで抽出操
作をした。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に溜去した。得られた
残液をトルエン251に溶解し、これを6時間加熱還流
した。得られた生成液をジエチルエーテルで希訳し、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水でこの順
に洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に
溜去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、ジエチルエーテル/n−ヘキサン(1
:1、V/V)の溜升から、表題のヒドロキシラクトン
を、無色油状物として56%の収率で得た。
mmal )を含水エタノール[エタノール/水=2/
3、V/V]12m1に溶解し、この溶液にシアン化ナ
トリウム236mgを加え、7時間加熱還流した。減圧
下にエタノールを溜去し、得られた残渣に濃塩酸を加え
てpl(を1〜2に調整した後、塩化メチレンで抽出操
作をした。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に溜去した。得られた
残液をトルエン251に溶解し、これを6時間加熱還流
した。得られた生成液をジエチルエーテルで希訳し、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水でこの順
に洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に
溜去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、ジエチルエーテル/n−ヘキサン(1
:1、V/V)の溜升から、表題のヒドロキシラクトン
を、無色油状物として56%の収率で得た。
IR(y、cm−1) 3350.176ONMR(
δ、ppm ) 1.36 (3H,S)1.66
(3H,S) 1.73 (3H,S) 2.01〜2.56 (2H,m) 2.59 (2H,S) 2.73 (IH,br、S) 4.34 (IH,dd、 J=8X6 Hz) 5.00〜5.43 (IH,m) (実施例2) 第5式で示されるフラノブテノリドの合成。
δ、ppm ) 1.36 (3H,S)1.66
(3H,S) 1.73 (3H,S) 2.01〜2.56 (2H,m) 2.59 (2H,S) 2.73 (IH,br、S) 4.34 (IH,dd、 J=8X6 Hz) 5.00〜5.43 (IH,m) (実施例2) 第5式で示されるフラノブテノリドの合成。
前記実施例1で合成したヒドロキシラクトン100mg
(0,53m+wol )を塩化メチレン5】1に溶
解し、得られた溶液に、水冷下でトリエチルアミン0.
27ml (1,96mmol )およびメタンスルホ
ニルクロリド0.076ml (0,978mmol
)を加えた。その後、室温で3.5時間撹拌した。得ら
れた生成液を塩化メチレンで希釈し、水、5%塩酸、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で、この
順に洗浄操作し、その後、硫酸マグネシウムで乾燥した
。乾f#後、減圧下に溶媒を溜去して、得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジエチル
エーテル/n−ヘキサン(l:3、V/V)の溜升から
定量的に表−の化合物を得た。
(0,53m+wol )を塩化メチレン5】1に溶
解し、得られた溶液に、水冷下でトリエチルアミン0.
27ml (1,96mmol )およびメタンスルホ
ニルクロリド0.076ml (0,978mmol
)を加えた。その後、室温で3.5時間撹拌した。得ら
れた生成液を塩化メチレンで希釈し、水、5%塩酸、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で、この
順に洗浄操作し、その後、硫酸マグネシウムで乾燥した
。乾f#後、減圧下に溶媒を溜去して、得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジエチル
エーテル/n−ヘキサン(l:3、V/V)の溜升から
定量的に表−の化合物を得た。
IR(ν、cm−1) l 755.164o、117
O NMR(δ、ppm ) 1.63 (3H,S)1.
69 (3H,S) 2.07 (3H,S) 2.20〜2.76 (2H,m) 4.66〜5.26(IH+LH 、m) 5.66〜5.92 (IH,m) この実施例から明らかなように、第7式で示されるヒド
ロキシラクトンからローズフランの原料であると共に第
5式で示されるフラノブテノリドを容易に、かつ、定量
的に合成することができる。
O NMR(δ、ppm ) 1.63 (3H,S)1.
69 (3H,S) 2.07 (3H,S) 2.20〜2.76 (2H,m) 4.66〜5.26(IH+LH 、m) 5.66〜5.92 (IH,m) この実施例から明らかなように、第7式で示されるヒド
ロキシラクトンからローズフランの原料であると共に第
5式で示されるフラノブテノリドを容易に、かつ、定量
的に合成することができる。
(参考例3)
第8式で示されるアリルアルコール化合物の合成。
アルゴン気流下に、n−ブチルリチウム20mmolを
含有するn−へキサン溶液(濃度;10%)12.8m
lからn−ヘキサンを減圧下に溜去し、得られた残渣に
、N、N、N、N−テトラメチルエチレンジアミン3.
51、ジエチルエーテル12m1およびテトラハイドロ
フラン3mlを添加した。得られた混合物に、水冷下に
β−メタリルアルコ−JL/720mg (10mmo
+ ) 全滴下L、滴下後この混合物を室温で1.5時
間撹拌した0次いで、冷却しながら、3,3−ジメチル
アリルクロリド4.70 g (45mmol )を滴
下し、滴下後そのまま40分間、さらに室温で30分間
撹拌した。得られた生成液をジエチルエーテルで希釈し
、次いで悠和炭酩水素ナトリウム水溶液、木、飽和硫酸
銅水溶液、5%塩酸、水、飽和食塩水で、この順に従っ
てジエチルエーテル層を洗浄した。洗浄後、得られたジ
エチルエーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥後、ジエチ
ルエーテルを減圧下に溜去して残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付してジエチル
エーテル/n−ヘキサン(l:4、V/V)の溜升から
、表題のアリルアルコール化合物を30%の収率で得た
。
含有するn−へキサン溶液(濃度;10%)12.8m
lからn−ヘキサンを減圧下に溜去し、得られた残渣に
、N、N、N、N−テトラメチルエチレンジアミン3.
51、ジエチルエーテル12m1およびテトラハイドロ
フラン3mlを添加した。得られた混合物に、水冷下に
β−メタリルアルコ−JL/720mg (10mmo
+ ) 全滴下L、滴下後この混合物を室温で1.5時
間撹拌した0次いで、冷却しながら、3,3−ジメチル
アリルクロリド4.70 g (45mmol )を滴
下し、滴下後そのまま40分間、さらに室温で30分間
撹拌した。得られた生成液をジエチルエーテルで希釈し
、次いで悠和炭酩水素ナトリウム水溶液、木、飽和硫酸
銅水溶液、5%塩酸、水、飽和食塩水で、この順に従っ
てジエチルエーテル層を洗浄した。洗浄後、得られたジ
エチルエーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥後、ジエチ
ルエーテルを減圧下に溜去して残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付してジエチル
エーテル/n−ヘキサン(l:4、V/V)の溜升から
、表題のアリルアルコール化合物を30%の収率で得た
。
IR(y、cm−’)3340,1650.90ONM
R(δ 、 pp厘 ) 1.62 (3H,S)
1.70 (3H,S) 2.05〜2.30 (4H,m) 1.97 (IH,br) 4.06 (2H,S) 4.80〜5.10 (2H,m) 5.12 (LH,m) MS (m/e ) 140 (M )(参考例
4) 第13式で示されるエポキシド化合物の合成。
R(δ 、 pp厘 ) 1.62 (3H,S)
1.70 (3H,S) 2.05〜2.30 (4H,m) 1.97 (IH,br) 4.06 (2H,S) 4.80〜5.10 (2H,m) 5.12 (LH,m) MS (m/e ) 140 (M )(参考例
4) 第13式で示されるエポキシド化合物の合成。
前記参考例3で合成したアリルアルコール化合物を原料
にして、参考例2と同様にして、表題のエポキシド化合
物を81%の収率で得た。
にして、参考例2と同様にして、表題のエポキシド化合
物を81%の収率で得た。
I R(ν、 cm−1) 3440.89ONMR(
δ、ppm ) 1.6゛1 (3H,S)1.68
(3H,S) 1.75〜2.35 (3H,m) 2.68 (IH,d、J=4.5 Hz) 2.88 (IH,d、J=4.5 Hz) 3.58〜3.83 (2H,m) 0.90 N1.40 (2H,m) MS (m/e ) 156 (M+)(実施例
3) 第6式で示されるヒドロキシラクトンの合成。
δ、ppm ) 1.6゛1 (3H,S)1.68
(3H,S) 1.75〜2.35 (3H,m) 2.68 (IH,d、J=4.5 Hz) 2.88 (IH,d、J=4.5 Hz) 3.58〜3.83 (2H,m) 0.90 N1.40 (2H,m) MS (m/e ) 156 (M+)(実施例
3) 第6式で示されるヒドロキシラクトンの合成。
前記参考例4で合成したエポキシド化合物を原料にして
、実施例1と同様にして、表題のヒドロキシラクトンを
64%の収率で得た。
、実施例1と同様にして、表題のヒドロキシラクトンを
64%の収率で得た。
I R(y 、 am−’) 3410.178ONM
R(δ、PP!I ) 0.90〜1.30 (2H,
m)162 (3H,S) 1.68 (3H,S) 1.80〜2.23 (2H1m) 2.55 (2H,S) 4.18 (zH,s) 4.85 (L H,br) 5.10 (IH,m) MS (m/e ) 166 (M −18)分
子量(C1oH1603として) 計算値、184.1099、 実測値;184.1100 (実施例4) 第4式で示されるフラノブテノリドの合成。
R(δ、PP!I ) 0.90〜1.30 (2H,
m)162 (3H,S) 1.68 (3H,S) 1.80〜2.23 (2H1m) 2.55 (2H,S) 4.18 (zH,s) 4.85 (L H,br) 5.10 (IH,m) MS (m/e ) 166 (M −18)分
子量(C1oH1603として) 計算値、184.1099、 実測値;184.1100 (実施例4) 第4式で示されるフラノブテノリドの合成。
前記実施例3で合成したヒドロキシラクトンを原料にし
て、前記実施例2と同様にして表題のフラノブテノリド
を92%の収率で得た。
て、前記実施例2と同様にして表題のフラノブテノリド
を92%の収率で得た。
IR(y、c、m−’) 1780.1745.163
5.885 NMR(δ、ppm ) 1.63 (3H,S)1.
70 (3H,S) 2.20〜2.60 (4H,m) 4.68 (2H,d、 J =1.5Hz) 4.90〜5.31 (LH,m) 5.75〜5.92 (IH,m) MS (III/I! ) 166 (M+−18
)この実施例から明らかなように、第6式で示されるヒ
ドロキシラクトンから、ペリレンの合成原料であると共
に第4式で示されるフラノブテノリドを容易に、かつ、
高収率で合成することができる。
5.885 NMR(δ、ppm ) 1.63 (3H,S)1.
70 (3H,S) 2.20〜2.60 (4H,m) 4.68 (2H,d、 J =1.5Hz) 4.90〜5.31 (LH,m) 5.75〜5.92 (IH,m) MS (III/I! ) 166 (M+−18
)この実施例から明らかなように、第6式で示されるヒ
ドロキシラクトンから、ペリレンの合成原料であると共
に第4式で示されるフラノブテノリドを容易に、かつ、
高収率で合成することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 第1式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) (ただし、前記第1式中、R_1はメチル基および4−
メチル−3−ペンテニル基のいずれかを示し、R_2は
、R_1がメチル基のとき3−メチル−2−ブテニル基
であり、R_1が4−メチル−3−ペンテニル基のとき
水素原子である。)で示されるヒドロキシラクトン類。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59187153A JPS6165877A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | ヒドロキシラクトン類 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59187153A JPS6165877A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | ヒドロキシラクトン類 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6165877A true JPS6165877A (ja) | 1986-04-04 |
Family
ID=16201046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59187153A Pending JPS6165877A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | ヒドロキシラクトン類 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6165877A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017025182A (ja) * | 2015-07-21 | 2017-02-02 | 長谷川香料株式会社 | 4−(4−メチル−3−ペンテニル)−2(5h)−フラノンを有効成分とする香料組成物 |
| WO2022085379A1 (ja) * | 2020-10-20 | 2022-04-28 | 長谷川香料株式会社 | ラクトン化合物 |
-
1984
- 1984-09-06 JP JP59187153A patent/JPS6165877A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017025182A (ja) * | 2015-07-21 | 2017-02-02 | 長谷川香料株式会社 | 4−(4−メチル−3−ペンテニル)−2(5h)−フラノンを有効成分とする香料組成物 |
| WO2022085379A1 (ja) * | 2020-10-20 | 2022-04-28 | 長谷川香料株式会社 | ラクトン化合物 |
| JP2022067156A (ja) * | 2020-10-20 | 2022-05-06 | 長谷川香料株式会社 | ラクトン化合物 |
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