JPS6167770A - マグネシウムおよびマグネシウム合金のめつき法 - Google Patents
マグネシウムおよびマグネシウム合金のめつき法Info
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- JPS6167770A JPS6167770A JP18775884A JP18775884A JPS6167770A JP S6167770 A JPS6167770 A JP S6167770A JP 18775884 A JP18775884 A JP 18775884A JP 18775884 A JP18775884 A JP 18775884A JP S6167770 A JPS6167770 A JP S6167770A
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/1803—Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces
- C23C18/1824—Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces by chemical pretreatment
- C23C18/1837—Multistep pretreatment
- C23C18/1844—Multistep pretreatment with use of organic or inorganic compounds other than metals, first
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、マグネシウムおよびマグネシウム合金に、密
着性および耐蝕性の良好なめっきを施す方法に関する。
着性および耐蝕性の良好なめっきを施す方法に関する。
〔従来波４ｉｊ ）
マグネシウムは、比重がアルミニウムの約２／３であり
、軽量化金属利料としてずくれている。
、軽量化金属利料としてずくれている。
しかし化学的活性が非常に強く、表面の加工、研磨、化
学的活性化を行っても、ただちに酸化膜が生成するため
、マグネシウム表面に、密着性の良いめっきを施すこと
は極めて困難である。
学的活性化を行っても、ただちに酸化膜が生成するため
、マグネシウム表面に、密着性の良いめっきを施すこと
は極めて困難である。
このように、密着性のすくれためっきを得ることが困難
とされているマグネシウムまたはマグネシウム合金の表
面処理法として、ダウケミカル社が開発したいわゆるダ
ウ法が知られている。このダウ法には、前処理、亜鉛置
換、青化銅ストライクを施した後、目的とするめっきを
行う、電気めっき法（ダウめっき法）と、無電解ニッケ
ルめっき法がある。無電解ニッケルめっき法としては、
前記ダウめっき法により青化銅ストライクを施した後に
無電解ニッケルめっぎを行う方法と、叶Ｏ３−１１ＮＯ
３混液による化学エツチング、次いでフッ酸処理した後
、無電解ニッケルめっきをｈｉ！ｉず方法が提案されて
いる。また、特公昭３７−９８００号及び特公昭４０−
］７２２号公報にＬ；Ｉ’、 、 ＣｒＯ３−１１ＮＯ
ａ−１１Ｆ混液によりエツチングし、フッ酸処理し、次
いでアルカリ中和を行った後、無電解ニッケルめっきを
行う方法（ＧＡＴ法）が開示されている。
とされているマグネシウムまたはマグネシウム合金の表
面処理法として、ダウケミカル社が開発したいわゆるダ
ウ法が知られている。このダウ法には、前処理、亜鉛置
換、青化銅ストライクを施した後、目的とするめっきを
行う、電気めっき法（ダウめっき法）と、無電解ニッケ
ルめっき法がある。無電解ニッケルめっき法としては、
前記ダウめっき法により青化銅ストライクを施した後に
無電解ニッケルめっぎを行う方法と、叶Ｏ３−１１ＮＯ
３混液による化学エツチング、次いでフッ酸処理した後
、無電解ニッケルめっきをｈｉ！ｉず方法が提案されて
いる。また、特公昭３７−９８００号及び特公昭４０−
］７２２号公報にＬ；Ｉ’、 、 ＣｒＯ３−１１ＮＯ
ａ−１１Ｆ混液によりエツチングし、フッ酸処理し、次
いでアルカリ中和を行った後、無電解ニッケルめっきを
行う方法（ＧＡＴ法）が開示されている。
ＧＡＴ法は、フッ酸処理によってマグネシウム表面に形
成されたＭ［Ｆ、被膜を、アルカリ中和処理によりＭｇ
１ｌｌ’、およびＭｇ （Ｏｌｌ） ｚ に変化せし
め、無電解ニッケルめっきの密着性を向」二させる、こ
とを特徴とするものであり、アルカリ性無電解ニッケル
めっき浴を用いるため、めっき浴中においてマグネシウ
ムの腐食が起こらないという利点がある。
成されたＭ［Ｆ、被膜を、アルカリ中和処理によりＭｇ
１ｌｌ’、およびＭｇ （Ｏｌｌ） ｚ に変化せし
め、無電解ニッケルめっきの密着性を向」二させる、こ
とを特徴とするものであり、アルカリ性無電解ニッケル
めっき浴を用いるため、めっき浴中においてマグネシウ
ムの腐食が起こらないという利点がある。
しかしこれら従来の無電解ニッケル法では、密着性の良
好なめっきが得られず、また、化学エツチングに酸性ク
ロム酸液を用いているため、マグネシウム表面が浸食さ
れて粗面となり、めっきの外観が悪くなるだけてなく、
６価クロムを多量に使用しているため、排水公害を起こ
すおそれがあり、好ましくない。またダウ法を、／ｌ
（１−Ｚｎ−ＭＵダイカフ、１〜金合金めっきに適用し
たばあい、亜鉛間接そのものが極めて信頼性に欠け、良
好な密着性を有するめっきが得られない。
好なめっきが得られず、また、化学エツチングに酸性ク
ロム酸液を用いているため、マグネシウム表面が浸食さ
れて粗面となり、めっきの外観が悪くなるだけてなく、
６価クロムを多量に使用しているため、排水公害を起こ
すおそれがあり、好ましくない。またダウ法を、／ｌ
（１−Ｚｎ−ＭＵダイカフ、１〜金合金めっきに適用し
たばあい、亜鉛間接そのものが極めて信頼性に欠け、良
好な密着性を有するめっきが得られない。
本発明の目的は、マグネシウムおよびマグネシウム合金
に、密着性および耐食性のすくれためつきを施す方法を
提供することである。
に、密着性および耐食性のすくれためつきを施す方法を
提供することである。
マグネシウムまたはマグネシウム合金にめっきを施すば
あい、その密着性を■害するものはＭｇＯ１Ｍ１！＋Ｊ
６．□のような金属間化合物、および向とめっき 層の
間に生じる電位差と腐食性媒体（水、酸素、各種の陰イ
オンなど）である。本発明者はこれらの点に留意し鋭意
研究を進め、本発明を完成するに至った。本発明は、マ
グネシウムまたはマグネシウム合金を化学エツチングし
、フッ化物で処理し、アルカリで中和し、次いでフｌ（
電解ニッケルめっきを行う工程を含むマグネシウムまた
はマグネシウム合金のめっき法において、化学エツチン
グ液が、ピロリン酸塩、硝酸塩および硫酸塩を含み、ク
ロム酸イオンを含まず、アルカリ中和液が、次亜リン酸
塩およびアンモニア水を含み、 無電解ニッケルめっき液が、オキシカルボン酸ニッケル
、ピロリン酸塩、次亜リン酸塩およびフッ化物を含み、
硫酸イオンおよび塩化物イオンを含まないこと、 を特徴とする、マグネシウムまたはマグネシウム合金の
めっき法である。
あい、その密着性を■害するものはＭｇＯ１Ｍ１！＋Ｊ
６．□のような金属間化合物、および向とめっき 層の
間に生じる電位差と腐食性媒体（水、酸素、各種の陰イ
オンなど）である。本発明者はこれらの点に留意し鋭意
研究を進め、本発明を完成するに至った。本発明は、マ
グネシウムまたはマグネシウム合金を化学エツチングし
、フッ化物で処理し、アルカリで中和し、次いでフｌ（
電解ニッケルめっきを行う工程を含むマグネシウムまた
はマグネシウム合金のめっき法において、化学エツチン
グ液が、ピロリン酸塩、硝酸塩および硫酸塩を含み、ク
ロム酸イオンを含まず、アルカリ中和液が、次亜リン酸
塩およびアンモニア水を含み、 無電解ニッケルめっき液が、オキシカルボン酸ニッケル
、ピロリン酸塩、次亜リン酸塩およびフッ化物を含み、
硫酸イオンおよび塩化物イオンを含まないこと、 を特徴とする、マグネシウムまたはマグネシウム合金の
めっき法である。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明方法を実施するばあい、必要により、まず表面研
磨および表面脱脂を行う。表面研磨は、素材表面に存在
する湯シワ、巣穴、その他の欠陥部分を、エメリー別布
研磨などによりできるだけ除去した後、１−リボリ羽布
で鏡面仕上げすることにより行う。ブラスト処理により
梨地仕」二げをしてもよい。次に、有機溶剤による予備
洗浄の後、アルカリｎ＋ｈ脂剤を用いて表面にイに１着
している汚れを十分に除去する。必要に応して、陰極電
解脱脂を併用してもよい。
磨および表面脱脂を行う。表面研磨は、素材表面に存在
する湯シワ、巣穴、その他の欠陥部分を、エメリー別布
研磨などによりできるだけ除去した後、１−リボリ羽布
で鏡面仕上げすることにより行う。ブラスト処理により
梨地仕」二げをしてもよい。次に、有機溶剤による予備
洗浄の後、アルカリｎ＋ｈ脂剤を用いて表面にイに１着
している汚れを十分に除去する。必要に応して、陰極電
解脱脂を併用してもよい。
脱脂処理した後、化学エツチングを行う。本発明に使用
されるエツチング液は、ピロリン酸塩、硝酸塩、および
硫酸塩を含んでいる。塩としては、ナトリウム塩、カリ
ウム塩、またはアンモニラＪ、塩が好ましい。ピロリン
酸塩のン農度は５０〜５００ｇ／Ｃ１好ましくは１００
〜２００ ｇ／β力く適当である。硝酸塩の濃度は２０
〜３００ｇ／ｆｆ、好）Ｅしくは５０〜２００ ｇ／Ｉ
ｆが適当である。硫酸塩の濃度は５〜１００ｇ／ｘ、好
ましくは、１０〜５０ ｇ ／ （！が適当である。処
理温度は５０℃〜８０℃、好ましくは７０℃〜８０℃が
適当であり、処理時間は１分〜３分程度が適当である。
されるエツチング液は、ピロリン酸塩、硝酸塩、および
硫酸塩を含んでいる。塩としては、ナトリウム塩、カリ
ウム塩、またはアンモニラＪ、塩が好ましい。ピロリン
酸塩のン農度は５０〜５００ｇ／Ｃ１好ましくは１００
〜２００ ｇ／β力く適当である。硝酸塩の濃度は２０
〜３００ｇ／ｆｆ、好）Ｅしくは５０〜２００ ｇ／Ｉ
ｆが適当である。硫酸塩の濃度は５〜１００ｇ／ｘ、好
ましくは、１０〜５０ ｇ ／ （！が適当である。処
理温度は５０℃〜８０℃、好ましくは７０℃〜８０℃が
適当であり、処理時間は１分〜３分程度が適当である。
この化学エツチング処理により、素材表面に存在する酸
除去される。しかも素材表面は、それほど粗面化されず
、表面各部付量の電位が均一化される。この際、ピロリ
ン酸塩および硫酸塩はエツチング剤として作用し、硝酸
塩は、マグネシウムの腐食抑制剤として作用する。ピロ
リン酸塩はまた、素（イ表面に腐食保護膜としてのリン
酸塩被膜を形成し、空気中、および水中における素材の
腐食を防止する。
除去される。しかも素材表面は、それほど粗面化されず
、表面各部付量の電位が均一化される。この際、ピロリ
ン酸塩および硫酸塩はエツチング剤として作用し、硝酸
塩は、マグネシウムの腐食抑制剤として作用する。ピロ
リン酸塩はまた、素（イ表面に腐食保護膜としてのリン
酸塩被膜を形成し、空気中、および水中における素材の
腐食を防止する。
化学エソヂングを行い、水洗した素材を、フッ化物処理
する。この処理は、恥０ 、Ｍｇ＋７Ａｆｆ １２など
の不純物をより完全に除去し、フッ化マグネシウム被膜
を形成せしめるものである。フッ化物処理液としては、
たとえば、７０％■■Ｆ、あるいＬＪ８５％リン酸２０
０ｇ／βおよびＮ１１４１１Ｆ２ １００ｇ／ｌを含む
液が使用される。処理温度は室温で十分であり、処理時
間は３０〜９０秒程度が適当である。
する。この処理は、恥０ 、Ｍｇ＋７Ａｆｆ １２など
の不純物をより完全に除去し、フッ化マグネシウム被膜
を形成せしめるものである。フッ化物処理液としては、
たとえば、７０％■■Ｆ、あるいＬＪ８５％リン酸２０
０ｇ／βおよびＮ１１４１１Ｆ２ １００ｇ／ｌを含む
液が使用される。処理温度は室温で十分であり、処理時
間は３０〜９０秒程度が適当である。
次いで水洗後、アルカリ中和処理を行う。本発明のアル
カリ中和液は、次亜リン酸塩およびアンモニア水を含ん
でいる。塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩、また
はアンモニウム塩が好ましい。次亜リン酸塩の？農度は
５〜５０ ｇ ／ ／！、好まＬ ＜ ｉ；ｉ ］ ０
〜３０ ｇ／（ｌが適当である。アンモニア水の濃度し
１１．２８重量％アンモニア水５，１００ｍ １ ／
ｉ２ 、好ましくは１０〜３０ ｍ （１／ １．が適
当である。また、さらにオキシカルボン酸塩を含有させ
てもよく、その深度は５〜５０ｇ／ｆｆ、好ましくは１
０〜３０ ｇ ／ ７！が適当である。オキシカルボン
酸としてシ；１、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グリコー
ル酸、コハク酸などを使用することができる。オキシカ
ルボン酸の塩としては、ナトリウム塩塩、カリウム塩、
アンモニウム塩などが好ましい。このように、中和液に
オキシカルボン酸塩を含有させ、次工程の無電解ニッケ
ルめっき液のＳ、ｌ成に近すけておくことにより、めっ
きの開始を円滑に行うことができる。処理温度６才室温
で十分であり、処理時間は、３０〜１２０秒程度が適当
である。
カリ中和液は、次亜リン酸塩およびアンモニア水を含ん
でいる。塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩、また
はアンモニウム塩が好ましい。次亜リン酸塩の？農度は
５〜５０ ｇ ／ ／！、好まＬ ＜ ｉ；ｉ ］ ０
〜３０ ｇ／（ｌが適当である。アンモニア水の濃度し
１１．２８重量％アンモニア水５，１００ｍ １ ／
ｉ２ 、好ましくは１０〜３０ ｍ （１／ １．が適
当である。また、さらにオキシカルボン酸塩を含有させ
てもよく、その深度は５〜５０ｇ／ｆｆ、好ましくは１
０〜３０ ｇ ／ ７！が適当である。オキシカルボン
酸としてシ；１、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グリコー
ル酸、コハク酸などを使用することができる。オキシカ
ルボン酸の塩としては、ナトリウム塩塩、カリウム塩、
アンモニウム塩などが好ましい。このように、中和液に
オキシカルボン酸塩を含有させ、次工程の無電解ニッケ
ルめっき液のＳ、ｌ成に近すけておくことにより、めっ
きの開始を円滑に行うことができる。処理温度６才室温
で十分であり、処理時間は、３０〜１２０秒程度が適当
である。
本発明のアルカリ中和液は、還元剤を含んでいるため、
素材表面に残存するフッ化物処理液成分を中和するだけ
でなく、素材表面の酸化が有効に防１にされる。
素材表面に残存するフッ化物処理液成分を中和するだけ
でなく、素材表面の酸化が有効に防１にされる。
次いで水洗を行うことなく、無電解ニッケルめつき処理
を行う。水洗工程を省略することにより、通常おこりや
すい空中滞在時あるいは水洗時における素材表面の酸化
あるいは腐食の発生が著しく低減する。
を行う。水洗工程を省略することにより、通常おこりや
すい空中滞在時あるいは水洗時における素材表面の酸化
あるいは腐食の発生が著しく低減する。
本発明に使用する無電解ニッケルめっき液は、オキシカ
ルボン酸ニッケル、ピロリン酸塩、次亜リン酸塩および
フッ化物を含んでいる。オキシカルボン酸としては、前
述のオキシカルボン酸を使用することができる。ピロリ
ン酸塩、次亜リン酸塩およびフッ化物としては、ナトリ
ウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などが好ましい。
ルボン酸ニッケル、ピロリン酸塩、次亜リン酸塩および
フッ化物を含んでいる。オキシカルボン酸としては、前
述のオキシカルボン酸を使用することができる。ピロリ
ン酸塩、次亜リン酸塩およびフッ化物としては、ナトリ
ウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などが好ましい。
本発明に使用する無電解ニッケルめっき液は、マグネシ
ウムに対して強い腐食性を有する、硫酸イオンや塩化物
イオンのような陰イオンを実質的に含んでいない。オキ
シカルボン酸ニッケルの濃度は１５〜３５ｇ／Ａ、好ま
しくは２０〜３０ ｇ ／ ＩＩが適当である。ピロリ
ン酸塩の濃度は３０〜１００ｇ／ｌ好ましくは３０〜７
０ ｇ／７！が適当であり る。次亜リン酸塩の濃度は１５〜３５ ｇ／ｌ、好まし
く Ｂａｔ ２０〜３０ｇ／７！が適当である。フッ化
物の濃度＆；ｌ： ２〜２０ｇ／１．．好ましくは５〜
１０ｇ／ｐが適当である。本発明において、無電解ニッ
ケルめっき？夜のｐｌ＋は、アルカリイ則であることが
好ましくぐ特にｐｌ＋９．５〜１０．５の範囲が好まし
い。処理浴温ば５０〜６５℃、処理時間へよ２〜１０分
が適当である。
ウムに対して強い腐食性を有する、硫酸イオンや塩化物
イオンのような陰イオンを実質的に含んでいない。オキ
シカルボン酸ニッケルの濃度は１５〜３５ｇ／Ａ、好ま
しくは２０〜３０ ｇ ／ ＩＩが適当である。ピロリ
ン酸塩の濃度は３０〜１００ｇ／ｌ好ましくは３０〜７
０ ｇ／７！が適当であり る。次亜リン酸塩の濃度は１５〜３５ ｇ／ｌ、好まし
く Ｂａｔ ２０〜３０ｇ／７！が適当である。フッ化
物の濃度＆；ｌ： ２〜２０ｇ／１．．好ましくは５〜
１０ｇ／ｐが適当である。本発明において、無電解ニッ
ケルめっき？夜のｐｌ＋は、アルカリイ則であることが
好ましくぐ特にｐｌ＋９．５〜１０．５の範囲が好まし
い。処理浴温ば５０〜６５℃、処理時間へよ２〜１０分
が適当である。
無電解ニッケルめっき処理を行った後、水洗する。本発
明方法にしたがってこのようにめっきを施した素材はそ
のままめっき製品として使用することができるし、ある
いはこれを下地として、さらに他のめっき、たとえば酸
性無電解めっき、電気めっきなどを施すこともできる。
明方法にしたがってこのようにめっきを施した素材はそ
のままめっき製品として使用することができるし、ある
いはこれを下地として、さらに他のめっき、たとえば酸
性無電解めっき、電気めっきなどを施すこともできる。
次に実施例を示し、本発明を更に詳細に説明する。以下
の実施例で使用した素材の成分は次のとおりである。
の実施例で使用した素材の成分は次のとおりである。
弓 １ １ １ ｇ
実施例１
オーディオピックアップ用ＡＺ−９１，８素月（Ｊ Ｉ
Ｓ−ＭＤＣ・ＩＢ−ボソトチャンハーダイカスト）に
、表１に示すダウ法、ＧＡＴ法ならびに本発明による方
法を用いてめっきを施した。
Ｓ−ＭＤＣ・ＩＢ−ボソトチャンハーダイカスト）に
、表１に示すダウ法、ＧＡＴ法ならびに本発明による方
法を用いてめっきを施した。
この結果、次のことが明らかとなった。
■） ダウ法によると、調布研磨を施して平滑ζこした
表面が、化学エツチングに於いてあれてしまい素材の表
面欠陥が露呈される。更に次工程のフッ酸処理によって
表面に形成された不溶性被膜（ＭｇＦ２）のために、無
電解ニッケルめっきの反応開始が近く （６０〜１２０
秒経過後反応開始）、不均一なめっきとなり易いだけで
なく良好なめっきの密着が得られなかった。
表面が、化学エツチングに於いてあれてしまい素材の表
面欠陥が露呈される。更に次工程のフッ酸処理によって
表面に形成された不溶性被膜（ＭｇＦ２）のために、無
電解ニッケルめっきの反応開始が近く （６０〜１２０
秒経過後反応開始）、不均一なめっきとなり易いだけで
なく良好なめっきの密着が得られなかった。
２） ＧＡＴ法に於いては、ダウ法と同時に化学エツ
チングによって素材表面があれでしまうが、無電解ニッ
ケルめっき反応開始は早く、均一である。しかし、反応
の初期（３０〜６０秒）に素材表面がめつき液によって
侵され、めっき後２００℃、１時間のヘーキング処理（
めっきの密着力を向上させるために行う）を施しても、
一部に密着不良によるフクレを生じた。
チングによって素材表面があれでしまうが、無電解ニッ
ケルめっき反応開始は早く、均一である。しかし、反応
の初期（３０〜６０秒）に素材表面がめつき液によって
侵され、めっき後２００℃、１時間のヘーキング処理（
めっきの密着力を向上させるために行う）を施しても、
一部に密着不良によるフクレを生じた。
３） 本発明による方法を用いためっきは、エツチング
による素材表面のあれが無く、美麗な外観を有するだけ
でなく、密着及び師１食性も良好であった。
による素材表面のあれが無く、美麗な外観を有するだけ
でなく、密着及び師１食性も良好であった。
実施例２
ザンドキャス１−（砂型鋳物）ＡＺ−９２，Ａ（Ｊ ｌ
５−ＭＣ−３）に、表１に示した本発明によるめっき方
法を用いてめっきを施した結果、良好な密着及び耐食性
を有するめっきが得られた。
５−ＭＣ−３）に、表１に示した本発明によるめっき方
法を用いてめっきを施した結果、良好な密着及び耐食性
を有するめっきが得られた。
このサントキャストは、結晶粒径が大きく、偏析部も多
いため化学エツチングとフッ化物処理をくり返し行わな
いと、均一な表面状態が得られ難い。
いため化学エツチングとフッ化物処理をくり返し行わな
いと、均一な表面状態が得られ難い。
実施例３
ＡＺ−６３（ＪＩＳ−ＭＣ−１）及びＺＫ−６１（ＪＩ
Ｓ−ＭＣ−７）に、表１に示した本発明による方法を用
いてめっきを施した結果、外観、密着及び耐食性の良好
なめっきが得られた。
Ｓ−ＭＣ−７）に、表１に示した本発明による方法を用
いてめっきを施した結果、外観、密着及び耐食性の良好
なめっきが得られた。
なお、実施例中に於いて良好な而・１食性とは、無】３
電解ニッケルめっきを施したテストピース（ダウ法）お
よび無電解ニッケルめっきを施したのち、酸性無電解ニ
ッケルめっき（１０μ厚）を施したテス（・ピース（Ｇ
ＡＴ法および本発明方法）が、塩水噴霧試験に１５０時
間以上耐えるものを云う。
よび無電解ニッケルめっきを施したのち、酸性無電解ニ
ッケルめっき（１０μ厚）を施したテス（・ピース（Ｇ
ＡＴ法および本発明方法）が、塩水噴霧試験に１５０時
間以上耐えるものを云う。
本発明によれば、マグネシウムまたはマグネシウム合金
表面に、密着性および耐食性のすくれためっき被膜を形
成することができる。本発明の最終工程に使用する無電
解ニッケルめっき液は、ｐｌ＋がアルカリ側であるため
、析出物のＰ含有量が酸性浴を用いたばあいにくらべて
小さい。このため、本発明方法により得られるめっき被
膜は、次に施すめっき被膜との密着性がずくれている。
表面に、密着性および耐食性のすくれためっき被膜を形
成することができる。本発明の最終工程に使用する無電
解ニッケルめっき液は、ｐｌ＋がアルカリ側であるため
、析出物のＰ含有量が酸性浴を用いたばあいにくらべて
小さい。このため、本発明方法により得られるめっき被
膜は、次に施すめっき被膜との密着性がずくれている。
本発明方法は、電解工程を含んでいないので、被処理部
材の裏面、ネジ穴、引掛部などにも均一に、被覆力の強
いめっき被膜を形成することができ、特に、ダイカスト
鋳物上に、直接めっきを施すことができる。
材の裏面、ネジ穴、引掛部などにも均一に、被覆力の強
いめっき被膜を形成することができ、特に、ダイカスト
鋳物上に、直接めっきを施すことができる。
本発明方法により得られるめっき被膜を、他の酸性無電
解めっき、電気めっきの下地として、使用目的に応して
、密着性、耐食性、耐磨耗性にずくれた各種めっき被膜
を得ることができる。
解めっき、電気めっきの下地として、使用目的に応して
、密着性、耐食性、耐磨耗性にずくれた各種めっき被膜
を得ることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 マグネシウムまたはマグネシウム合金を化学エッチング
し、フッ化物で処理し、アルカリで中和し、次いで無電
解ニッケルめっきを行う工程を含むマグネシウムまたは
マグネシウム合金のめっき法において、 化学エッチング液が、ピロリン酸塩、硝酸塩および硫酸
塩を含み、クロム酸イオンを含まず、アルカリ中和液が
、次亜リン酸塩およびアンモニア水を含み、 無電解ニッケルめっき液が、オキシカルボン酸ニッケル
、ピロリン酸塩、次亜リン酸塩およびフッ化物を含み、
硫酸イオンおよび塩化物イオンを含まないこと、 を特徴とする、マグネシウムまたはマグネシウム合金の
めっき法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18775884A JPS6167770A (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | マグネシウムおよびマグネシウム合金のめつき法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP18775884A JPS6167770A (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | マグネシウムおよびマグネシウム合金のめつき法 |
Publications (2)
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| JPS6167770A true JPS6167770A (ja) | 1986-04-07 |
| JPH0225430B2 JPH0225430B2 (ja) | 1990-06-04 |
Family
ID=16211684
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP18775884A Granted JPS6167770A (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | マグネシウムおよびマグネシウム合金のめつき法 |
Country Status (1)
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| JP (1) | JPS6167770A (ja) |
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