JPS6167930A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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Publication number
JPS6167930A
JPS6167930A JP59188915A JP18891584A JPS6167930A JP S6167930 A JPS6167930 A JP S6167930A JP 59188915 A JP59188915 A JP 59188915A JP 18891584 A JP18891584 A JP 18891584A JP S6167930 A JPS6167930 A JP S6167930A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
integrated circuit
semiconductor integrated
observation
transistor
pad
Prior art date
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Pending
Application number
JP59188915A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Doi
俊雄 土井
Takehisa Hayashi
剛久 林
Hironori Tanaka
田中 広紀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
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Publication of JPS6167930A publication Critical patent/JPS6167930A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P74/00Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、チップ内の動作波形を観測する手段を設けた
半導体集積回路に係り、特にトランジスタ特性のばらつ
きが大きい場合に好適な半導体集積回路に関する。
〔発明の背景〕
半導体集積回路内の動作波形を回路動作に影響を与えず
に測定する方法として、観測用トランジスタが使われて
いる(例えば特公昭54−6173号公報)。しかし従
来の観測用トランジスタでは、トランジスタ特性にばら
つきが存在すると観測される波形も変化してしまい、例
えばGa Asの様にチップ内の特性ばらつきが大きい
場合には不適である。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、特性ばらつきが大きい波形観測トラン
ジスタを用いた場合にも、チップ内の動作波形を正確に
観測できる半導体集積回路を提供することにある。
〔発明の概要〕
上記の目的を達成するため本発明では観測用トランジス
タの3端子すべてに外部から接触可能なパッドを接続し
たことを特徴とする。
〔発明の実施例〕
以下、本発明を実施例によって説明する。第1図におい
て、チップ内の波形観測個所OBPに観測用トランジス
タQと、そのゲート、ドレイ/、ソースそれぞれに近傍
で接続され、全体のチップ面積に比して無視できるほど
小さく、かつ外部からの探針S1の針先で接触するのに
十分な程度の面積を有する金属層のパッドp、 、 p
2. p、を設ける。この様にパッドを設けることによ
り、観測用トランジスタQの各電極に直接に接触するこ
とができる。ここで、OBPの波形全観測する場合には
、外部から探針S1をパッドP1に接触し、その探針に
外部抵抗Rを接続し、Rの両端の電圧を観測する。
次に、gt図に示した方法により観測した結果を較正す
るためには、チップへの電源の供給を断ち、第2図に示
す様にパッドP3と探針S、を通して観測用トランジス
タへ電源を供給する。このときゲート電圧はパッドP2
と探針S2を通して任意に設定することができるので、
ゲート電圧とRの両端の電圧との関係を求めることがで
きる。
この測定結果から較正用グラフを作成しておくことによ
り、チップ内波形観測結果を較正し、正確に測定するこ
とができる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、観測用トランジスタによる測定結果を
較正できるので、例えばGaAs I Cの様にトラン
ジスタ特性のチップ内のばらつきが大きい場合でも、波
形を正確に観測できる。
【図面の簡単な説明】
第1図はチップ内波形観測の実施例を示す図、第2図は
観測用トランジスタ特性測定の実施例を示す図である。 符号の説明 OBP・・・観測個所、Q・・・観測用トランジスタ、
Pl、 P2. P3・・・パッド、Sl、 S2. 
S、、・、探針、R・・・外部抵抗、vDD・・・電源
電圧、vGll l vDD・・・トランジスタ特性測
定用電源。 第 71 ! 第 2 図 一曇骨φす■1 八 ン ]−γ P。 第。 :R 升 S逼 一〕 二:T−Ve6 τ−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体集積回路内の波形観測点の近傍に第1、第2
    、および第3の金属性パッドを設け、上記波形観測点お
    よび上記第1のパッドに接続された制御端子と、上記半
    導体集積回路内の所定の直流電位を有する個所および上
    記第2のパッドに接続された第1の端子と、上記第3の
    パッドに接続され上記制御端子の電圧に応答して異なる
    電圧を出力しうる第2の端子を有し、上記制御端子から
    見た入力インピーダンスが高いトランジスタを上記波形
    観測点の近傍に設けたことを特徴とする半導体集積回路
    。 2、上記トランジスタが化合物半導体集積回路内に設け
    られたシヨツトキーゲート型FETであることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の半導体集積回路。
JP59188915A 1984-09-11 1984-09-11 半導体集積回路 Pending JPS6167930A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6427126U (ja) * 1987-07-24 1989-02-16

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5743453A (en) * 1980-08-28 1982-03-11 Nec Corp Integrated circuit

Patent Citations (1)

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