JPS6174675A - 多層塗膜の形成方法 - Google Patents
多層塗膜の形成方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は多層塗膜の形成7J−法に関し、史に詳しくは
連続走行する長尺可撓1−1帯状物(以下、[つ工ヴ」
と称する。)に2層以りの非水系塗布液を11層塗布し
、層間相I丁の拡11(混合をおこさないように塗膜を
形成する方法に関する。
連続走行する長尺可撓1−1帯状物(以下、[つ工ヴ」
と称する。)に2層以りの非水系塗布液を11層塗布し
、層間相I丁の拡11(混合をおこさないように塗膜を
形成する方法に関する。
従来、水溶液系において番ン1スライトポソパ型塗布装
置ある(料Jエクストルーションポノバ型塗布装置等を
用いてゼラチンをバインターと−4るハ[1ゲン化銀乳
剤を同時多層塗布しその後冷却し、あるい41冷風によ
ってセラチンのゾル−ゲル変換特性を利用し多層11ジ
をゲル化さ・l、数万〜数十万CPSの超高粘状態にし
、層間の混合がおごりにくい状態にして、熱風乾燥等に
より、塗膜を形成する方法が知られている。
置ある(料Jエクストルーションポノバ型塗布装置等を
用いてゼラチンをバインターと−4るハ[1ゲン化銀乳
剤を同時多層塗布しその後冷却し、あるい41冷風によ
ってセラチンのゾル−ゲル変換特性を利用し多層11ジ
をゲル化さ・l、数万〜数十万CPSの超高粘状態にし
、層間の混合がおごりにくい状態にして、熱風乾燥等に
より、塗膜を形成する方法が知られている。
一方、有機溶剤系において単に多層塗布し乾燥した場合
に目、水系に佳して低表面張力のため乾燥部だげでなく
ヒート部及び々11乾燥間でも拡11シ混合がおこりや
ず(、更にゾル−リール変換工程が4fいため乾燥時に
拡散混合がおこり、各層が分離した状態での塗膜を得る
ことは極めてiff シい。
に目、水系に佳して低表面張力のため乾燥部だげでなく
ヒート部及び々11乾燥間でも拡11シ混合がおこりや
ず(、更にゾル−リール変換工程が4fいため乾燥時に
拡散混合がおこり、各層が分離した状態での塗膜を得る
ことは極めてiff シい。
また、有n、溶剤系においては、広範な溶剤で用いられ
る良好なブルーゲル変換物質はなく、また他に有効な方
法も発明されておらず、有gJ溶剤系の多層塗膜は1層
ずつ逐次塗布し乾燥する方法がとられている。
る良好なブルーゲル変換物質はなく、また他に有効な方
法も発明されておらず、有gJ溶剤系の多層塗膜は1層
ずつ逐次塗布し乾燥する方法がとられている。
逐次塗布乾燥方式としては1回の塗布乾燥ごとに巻き取
る方法、あるいは複数の塗布乾燥部を設iJて連続して
塗布乾燥する方法等があるが、前者のツノ法でLSI多
大な製造時間がかかり従って多大な製造コストかかかり
、後者の方法では層の数だit塗布部及び乾燥部が必要
となり、極めて高価な製造設備を必要とし、多大な製造
コストががかる。
る方法、あるいは複数の塗布乾燥部を設iJて連続して
塗布乾燥する方法等があるが、前者のツノ法でLSI多
大な製造時間がかかり従って多大な製造コストかかかり
、後者の方法では層の数だit塗布部及び乾燥部が必要
となり、極めて高価な製造設備を必要とし、多大な製造
コストががかる。
ところで近年、電子線照射による塗膜の硬化現象を利用
したいくつかの塗膜形成方法が提案されている。特公昭
54−19894号公報、特開昭56−38 ] 6
(l公報8.4ニ一層の塗膜についての−1−記方法で
あり、特公昭53−16403号公報、特開昭58−2
4384号公報は多層の塗膜についての上記方法である
が、多層といえども逐次に塗膜を施し、逐次に活性線を
照射するものであるから、前述の諸問題を根本的に解決
し得るものではない。
したいくつかの塗膜形成方法が提案されている。特公昭
54−19894号公報、特開昭56−38 ] 6
(l公報8.4ニ一層の塗膜についての−1−記方法で
あり、特公昭53−16403号公報、特開昭58−2
4384号公報は多層の塗膜についての上記方法である
が、多層といえども逐次に塗膜を施し、逐次に活性線を
照射するものであるから、前述の諸問題を根本的に解決
し得るものではない。
〔発明のLI的]
本発明の目的は、かかる従来方式の高コストな、非水系
の多層塗膜形成法に比し、極めて低コストの塗膜形成方
法を提供することにある。
の多層塗膜形成法に比し、極めて低コストの塗膜形成方
法を提供することにある。
本発明の他の目的は、いかなる粘度の塗布液についても
塗膜形成の可能な非水系の多層塗膜形成方法を提供する
、二とにある。
塗膜形成の可能な非水系の多層塗膜形成方法を提供する
、二とにある。
本発明の上記目的は、連続走行する可撓性支持体に、2
種以上の非水系塗布液を同時重層塗布して多層塗膜を形
成する方法において、2種J’J、 l−の非水系塗布
液の少なくとも1種に電子線硬化性化合物を含有させ、
該2種以上の非水系塗布液を同時重層塗布後、50Mr
ad/秒以下の照射速度で電子綿を照射して塗布層を硬
化あるいε:1増枯させ、次いで乾燥することを4¥徴
とする多層塗膜の形成力法により達成される。
種以上の非水系塗布液を同時重層塗布して多層塗膜を形
成する方法において、2種J’J、 l−の非水系塗布
液の少なくとも1種に電子線硬化性化合物を含有させ、
該2種以上の非水系塗布液を同時重層塗布後、50Mr
ad/秒以下の照射速度で電子綿を照射して塗布層を硬
化あるいε:1増枯させ、次いで乾燥することを4¥徴
とする多層塗膜の形成力法により達成される。
本発明において非水系塗布液に含有させることができる
電子線硬化性化合物としては、電子線照射により硬化し
電子線照射後も溶剤に可溶な公知の種々の化合物を使用
することができる。これらの化合物のう:う、特C,=
好ましい化合物は、電子線による重合が可能な不飽和結
合またはエポキシ基を有する化合物、たとえば、ビニル
ないしビニリデン炭素−炭素二重結合やエポキシ基を1
個、好ましくは2個用1−有する化合物、アクリロイル
基、アクリルアミド基、アリル基、ビニルエーテル基、
ビニルチオエーテル基等を含む化合物及び不飽和ポリエ
ステル、エポキシ樹脂等の化合物である。
電子線硬化性化合物としては、電子線照射により硬化し
電子線照射後も溶剤に可溶な公知の種々の化合物を使用
することができる。これらの化合物のう:う、特C,=
好ましい化合物は、電子線による重合が可能な不飽和結
合またはエポキシ基を有する化合物、たとえば、ビニル
ないしビニリデン炭素−炭素二重結合やエポキシ基を1
個、好ましくは2個用1−有する化合物、アクリロイル
基、アクリルアミド基、アリル基、ビニルエーテル基、
ビニルチオエーテル基等を含む化合物及び不飽和ポリエ
ステル、エポキシ樹脂等の化合物である。
特に好ましい化合物は、上記の不飽和結合を有する化合
物であって、アクリロイル、メタクリ1コイル基をII
1鎖の両末端に有する化合物であり、これらは八、Vr
ancken Patipec CongreessI
′11 19(] 972)に引用されている。例えば
、CIIz=CILCO□CIICIIO+cocuz
c++zcozcnzcnc++zo+n1
]n II
OII−COC11=[’:11□ であり、例示した化合物のポリエステル骨格がポリウレ
タン骨格、エポキシ樹脂の骨格、ポリエーテル骨格、ポ
リカポネート骨格であってもあるいはこれらの混合され
た骨格でもよい。また例示した化合物の末端がメタクリ
ロイル基でもよい。分子星は約500〜20000が好
ましい。
物であって、アクリロイル、メタクリ1コイル基をII
1鎖の両末端に有する化合物であり、これらは八、Vr
ancken Patipec CongreessI
′11 19(] 972)に引用されている。例えば
、CIIz=CILCO□CIICIIO+cocuz
c++zcozcnzcnc++zo+n1
]n II
OII−COC11=[’:11□ であり、例示した化合物のポリエステル骨格がポリウレ
タン骨格、エポキシ樹脂の骨格、ポリエーテル骨格、ポ
リカポネート骨格であってもあるいはこれらの混合され
た骨格でもよい。また例示した化合物の末端がメタクリ
ロイル基でもよい。分子星は約500〜20000が好
ましい。
これらの化合物のうら、市販されているものとしでは、
東亜合成製アロニクスM6100、M7100などがあ
る。
東亜合成製アロニクスM6100、M7100などがあ
る。
更に、炭素−炭素不飽和結合を分子内に有する千ツマ−
も好ましい。かかるモノマーとしては、例えば、アクリ
ル酸、メタクリル酸、イタコン酸、アクリル酸メチル及
びその同族体であるアクリル酸アルキルエステル、メタ
クリル酸メチル及びその同族体であるメタクリル酸アル
キルエステル、スチレン及びその同族体であるα−メチ
ルスチレン、β−クロルスチレンなど、アクリロニトリ
ル、メタクリ「にトリル ルアミド、内に酸ヒニル、プロピオン酸ヒ゛二JしtI
′と゛が挙げられる。分子内に不飽和結合が2個以十あ
ってもよい。このようtr化合物の例として6.1[感
光性樹脂データー集1(掬綜合化学研究所昭和43年1
2月刊行235〜236真に掲載されている化合物が挙
げられる。特に、ポリオールの不飽和エステル類、例え
ば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシ
エチルメタクリレ−1・、エチレングりコ1−ルジ了ク
リレ−1〜、〕゛1ギ1ギシエチルアクリレート4−ブ
タンシオールジアクリレ−1・、1.6−ヘキザンジオ
ールアクリレート、ステアリルアクリレート、2−エチ
ルへキシルアクリレ−1、テトラヒドロフルフリルメタ
クリレート ト、ジエチレングリコールジメタクリレ−1・、テ]・
ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグ
リコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、グリセロールI・リアクリレート クリレート、ペンタエリスリi・−ルトリアクリレート
、Jニチ【/ングリコールシメタクリ1ノー1〜、ペン
タエリスリ1〜−ルナ1ラメタクリレ−1・、ジペンタ
エリスリ1〜−ルヘキザアクリレートなと、及びエポキ
シ環を有するグリシジルメタクリl/−1−4ζどが好
ましい。
も好ましい。かかるモノマーとしては、例えば、アクリ
ル酸、メタクリル酸、イタコン酸、アクリル酸メチル及
びその同族体であるアクリル酸アルキルエステル、メタ
クリル酸メチル及びその同族体であるメタクリル酸アル
キルエステル、スチレン及びその同族体であるα−メチ
ルスチレン、β−クロルスチレンなど、アクリロニトリ
ル、メタクリ「にトリル ルアミド、内に酸ヒニル、プロピオン酸ヒ゛二JしtI
′と゛が挙げられる。分子内に不飽和結合が2個以十あ
ってもよい。このようtr化合物の例として6.1[感
光性樹脂データー集1(掬綜合化学研究所昭和43年1
2月刊行235〜236真に掲載されている化合物が挙
げられる。特に、ポリオールの不飽和エステル類、例え
ば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシ
エチルメタクリレ−1・、エチレングりコ1−ルジ了ク
リレ−1〜、〕゛1ギ1ギシエチルアクリレート4−ブ
タンシオールジアクリレ−1・、1.6−ヘキザンジオ
ールアクリレート、ステアリルアクリレート、2−エチ
ルへキシルアクリレ−1、テトラヒドロフルフリルメタ
クリレート ト、ジエチレングリコールジメタクリレ−1・、テ]・
ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグ
リコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、グリセロールI・リアクリレート クリレート、ペンタエリスリi・−ルトリアクリレート
、Jニチ【/ングリコールシメタクリ1ノー1〜、ペン
タエリスリ1〜−ルナ1ラメタクリレ−1・、ジペンタ
エリスリ1〜−ルヘキザアクリレートなと、及びエポキ
シ環を有するグリシジルメタクリl/−1−4ζどが好
ましい。
本発明に使用されるiiJ撓1−1支持体として番,t
、紙、プラスチックフィルム、金属、し・シンコーチイ
ソ1;紙、合成紙等が包含される。ゾラスチ・ツクフィ
ルムの伺質は、たとえば、ボリエヂし・ン、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン、ポリ耐酸ヒニル、ポリ塩化ヒ
ニル、ポリスチレン等のヒニル重合体、6、6−ナイl
二1ン、6−ナイロン等のポリアミ1、ポリコニチレン
テレフタレ−1、ポリプロピレン−2。
、紙、プラスチックフィルム、金属、し・シンコーチイ
ソ1;紙、合成紙等が包含される。ゾラスチ・ツクフィ
ルムの伺質は、たとえば、ボリエヂし・ン、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン、ポリ耐酸ヒニル、ポリ塩化ヒ
ニル、ポリスチレン等のヒニル重合体、6、6−ナイl
二1ン、6−ナイロン等のポリアミ1、ポリコニチレン
テレフタレ−1、ポリプロピレン−2。
6−ナフタレ−1・等のポリエステル、ポリカーボネー
ト、セルローストリアセテート ダイアセテーI−等のセル「J−スアセテ−1・等か使
用される。またレシンコーティソド紙に用いる樹脂とし
て6才、ポリエチレンをはしめとするポリオ【/フィン
が代表的であるか、必ずしもこれに限定されるものでロ
ーない。
ト、セルローストリアセテート ダイアセテーI−等のセル「J−スアセテ−1・等か使
用される。またレシンコーティソド紙に用いる樹脂とし
て6才、ポリエチレンをはしめとするポリオ【/フィン
が代表的であるか、必ずしもこれに限定されるものでロ
ーない。
不発明番、1゛、2種1ン1−の非水系塗布液のうち、
少なくとも1種に電子線硬化性化合物を含有さーI!、
塗布液を重層塗布後、照射速度50Mrad/秒以下で
電子線を照射することを特徴とするものである。
少なくとも1種に電子線硬化性化合物を含有さーI!、
塗布液を重層塗布後、照射速度50Mrad/秒以下で
電子線を照射することを特徴とするものである。
電子線照射速度とは、単位時間当り、被照射物が受りる
電子線照!=j量を意味し、照射強度あるいは線量率と
もいう。
電子線照!=j量を意味し、照射強度あるいは線量率と
もいう。
電子線照射速度が50Mrad/秒より大きくなると、
電子線硬化性化合物含有層の硬化または増粘化が遅くな
り、あるいは起こらなくなり、多層の塗布層間の拡散混
合が生じ、所期の塗膜が形成されなくなる。
電子線硬化性化合物含有層の硬化または増粘化が遅くな
り、あるいは起こらなくなり、多層の塗布層間の拡散混
合が生じ、所期の塗膜が形成されなくなる。
本発明方法は、第1図に示すような装置を用いて実施す
ることができる。しかし本発明は、このようなエクスト
ルージョンビー1・塗布に限られることはなく、スライ
ドビード塗布、ホンパースライド塗布、゛カーテン塗布
等によって行うことも可能である。
ることができる。しかし本発明は、このようなエクスト
ルージョンビー1・塗布に限られることはなく、スライ
ドビード塗布、ホンパースライド塗布、゛カーテン塗布
等によって行うことも可能である。
第1図において図示していない液槽より、定量送液ポン
プP+、Pg又4;l+ 、、P2 、p3等により2
種jジ1の非水系の塗布液が、塗布−・ノ11に供給さ
れ、エクストルージョンビー1部2にて連続走行するウ
ェブ3に塗布される。5 c;+塗布部バッキングロー
ラ、6、7、8、9、I O 4;Iパスロールである
。又、4は減圧室であり図示していない真空ポンプ等に
より減圧状態とすることにより、ビートの安定を[21
る。l I L;l電子8sr+ +!<!躬装置、1
2は乾燥装置である。
プP+、Pg又4;l+ 、、P2 、p3等により2
種jジ1の非水系の塗布液が、塗布−・ノ11に供給さ
れ、エクストルージョンビー1部2にて連続走行するウ
ェブ3に塗布される。5 c;+塗布部バッキングロー
ラ、6、7、8、9、I O 4;Iパスロールである
。又、4は減圧室であり図示していない真空ポンプ等に
より減圧状態とすることにより、ビートの安定を[21
る。l I L;l電子8sr+ +!<!躬装置、1
2は乾燥装置である。
本発明では、2種jソ上の非水系塗布液のうち少なくと
も1種は、電子線硬化1’l化合物を含有している。そ
の含有層ij1特に制限はないか、−形に、塗布l&の
固形分を基準として、2〜3ou<t%程度が適当であ
る。また、本発明に使用される塗布液の粘度は、特に制
限されない。
も1種は、電子線硬化1’l化合物を含有している。そ
の含有層ij1特に制限はないか、−形に、塗布l&の
固形分を基準として、2〜3ou<t%程度が適当であ
る。また、本発明に使用される塗布液の粘度は、特に制
限されない。
エクスI・ルージョンビー1部2で同+1.’1市層塗
布された多層の塗布層に、電子線照II装置11におい
て電子綿照躬を行うと、電子線硬化i’l化合物を含有
する層が硬化あるい+J増粘化され、多層の塗布層間の
拡散混合が抑圧され、次いで乾燥装置12で乾燥されて
、所jjIlの多層塗膜が形成される。
布された多層の塗布層に、電子線照II装置11におい
て電子綿照躬を行うと、電子線硬化i’l化合物を含有
する層が硬化あるい+J増粘化され、多層の塗布層間の
拡散混合が抑圧され、次いで乾燥装置12で乾燥されて
、所jjIlの多層塗膜が形成される。
本発明方法L:1、可DC性支持体上に少なくとも2層
の非水系塗布層を有する多層塗膜+A Ilの製造に利
用される。、−のような多層塗膜+A斜としては、これ
らに限定されるものではないが、種々の多層写真材料、
多層分析材料などがある。たとえば、本発明方法により
製造するのに適した、非水系塗布層を少なくとも2層有
し、そのうら少なくとも1層が感光層である平版印刷版
用感光材Hの具体例としては、特開昭50−11022
号公報、特公昭56−34858号公報に記載されてい
る0−キノンジアジド感光層と樹脂層を有するもの、特
開昭56−126836号公報に記載されているO−ギ
ノンシアジ1感光層を2層有するもの、特開昭51−4
3125号公報に記載されているO−キノンジアジ1感
光層とアシド化合物感光層を有するもの、1.+f公昭
37−11558号公報に記載されている感光材料層と
有機樹脂層を有するもの、特開昭57−90648号公
+旧こ記載されている0 −キノンジアジ1感光層と電
子写真感光層を有するものなどが挙げられる。
の非水系塗布層を有する多層塗膜+A Ilの製造に利
用される。、−のような多層塗膜+A斜としては、これ
らに限定されるものではないが、種々の多層写真材料、
多層分析材料などがある。たとえば、本発明方法により
製造するのに適した、非水系塗布層を少なくとも2層有
し、そのうら少なくとも1層が感光層である平版印刷版
用感光材Hの具体例としては、特開昭50−11022
号公報、特公昭56−34858号公報に記載されてい
る0−キノンジアジド感光層と樹脂層を有するもの、特
開昭56−126836号公報に記載されているO−ギ
ノンシアジ1感光層を2層有するもの、特開昭51−4
3125号公報に記載されているO−キノンジアジ1感
光層とアシド化合物感光層を有するもの、1.+f公昭
37−11558号公報に記載されている感光材料層と
有機樹脂層を有するもの、特開昭57−90648号公
+旧こ記載されている0 −キノンジアジ1感光層と電
子写真感光層を有するものなどが挙げられる。
実施例1
第1図に示す装置蝉て、第1表に示す組成及び物性の塗
布液を、] 500 mm1l /fQp m厚のポリ
エチレンテレフタシー1フイルムに十IW25cc/m
2、下層15cc/m2の塗布層で重層塗布し、塗4j
後、1秒経過点で、加速電圧250kV、照射量4Mr
ad、1(θ射速度30Mrad/秒となる、Lう電子
線照射装置11において電子線照射を行なった後、乾燥
装置12にて、90°Cで加熱乾燥した。
布液を、] 500 mm1l /fQp m厚のポリ
エチレンテレフタシー1フイルムに十IW25cc/m
2、下層15cc/m2の塗布層で重層塗布し、塗4j
後、1秒経過点で、加速電圧250kV、照射量4Mr
ad、1(θ射速度30Mrad/秒となる、Lう電子
線照射装置11において電子線照射を行なった後、乾燥
装置12にて、90°Cで加熱乾燥した。
比較例1
実施例1において、電子線照射速度を75Mrad/秒
としたほかは、全く同様の操作を行った。
としたほかは、全く同様の操作を行った。
実施例1及び比較例1で得られた乾膜をESCA(旧e
ctron 5pectroscopy for
Chemical 八nalysis)を用いて、
膜を削りながら上層中に検出されるクレゾール樹脂中の
塩素を分析した。その検出呈の分布を第2図に示す。第
2図において、実線は実施例1のザンプルWlll定結
果11巻線は比較例1のサンプル測定結果を示す。この
結果より、実施例1では、電子線照射速度が50Mra
d/秒以下であったために、得られたサンプルは第2図
実線の如く、クレゾール樹脂が偏在したままであったこ
とが判明し、比較例1では、電子線照射速度が50Mr
ad/秒を超えていたために、得られたサンプルは点線
の如く、拡散混合により、クレゾール樹脂が、全層に亘
って分布したことが判明した。
ctron 5pectroscopy for
Chemical 八nalysis)を用いて、
膜を削りながら上層中に検出されるクレゾール樹脂中の
塩素を分析した。その検出呈の分布を第2図に示す。第
2図において、実線は実施例1のザンプルWlll定結
果11巻線は比較例1のサンプル測定結果を示す。この
結果より、実施例1では、電子線照射速度が50Mra
d/秒以下であったために、得られたサンプルは第2図
実線の如く、クレゾール樹脂が偏在したままであったこ
とが判明し、比較例1では、電子線照射速度が50Mr
ad/秒を超えていたために、得られたサンプルは点線
の如く、拡散混合により、クレゾール樹脂が、全層に亘
って分布したことが判明した。
第1表
実施例2
第1図に示す装置にて、第2表に示す組成及び物性の塗
布液を1200mm巾、180pm厚のポリエチレンテ
レフタレートフィルムに最上層・中間層・最下層の塗布
量がそれぞれ15cc/m2.15cc/m2.5cc
/m”となるように重層塗布し、塗布後3秒経過点で加
速電圧200にν、照射量3Mrad、照射速度20M
rad/秒となるよう電子線照射装置11において電子
線照射を行なった後、乾燥装置I2にて、加熱乾燥した
。
布液を1200mm巾、180pm厚のポリエチレンテ
レフタレートフィルムに最上層・中間層・最下層の塗布
量がそれぞれ15cc/m2.15cc/m2.5cc
/m”となるように重層塗布し、塗布後3秒経過点で加
速電圧200にν、照射量3Mrad、照射速度20M
rad/秒となるよう電子線照射装置11において電子
線照射を行なった後、乾燥装置I2にて、加熱乾燥した
。
比較例2
実施例2において、電子線照射速度を60Mrad/秒
としたほかは、全く同様の操作を行った。
としたほかは、全く同様の操作を行った。
実施例2及び比較例2で得られた軟膜の層内のクレゾー
ル樹脂と顔料の分布を、ESCAを用いて、それぞれの
分子中の塩素と銅について検出した。実施例2で得られ
たサンプルの分析結果を第3図実線で、また、比較例2
で得られたサンプルの分析結果を第3図点線でそれぞれ
示す。
ル樹脂と顔料の分布を、ESCAを用いて、それぞれの
分子中の塩素と銅について検出した。実施例2で得られ
たサンプルの分析結果を第3図実線で、また、比較例2
で得られたサンプルの分析結果を第3図点線でそれぞれ
示す。
第2表
第3図から明らかなように、比較例2のように電子線照
射速度が50Mrad/秒を超えると、軟膜でのクレゾ
ール樹脂あるいは顔料の分布がほぼ均一に全層にわたっ
てしまうのに対し、本発明の方法では、両者とも、もと
もとの層に偏在すること。
射速度が50Mrad/秒を超えると、軟膜でのクレゾ
ール樹脂あるいは顔料の分布がほぼ均一に全層にわたっ
てしまうのに対し、本発明の方法では、両者とも、もと
もとの層に偏在すること。
がわかり本発明の効果が明瞭に示されている。
本発明によれば、」二記実施例で確認された如く、非水
系塗布液の重層塗布において、層間の拡散混合が抑制さ
れて多層塗膜が、形成されるので、工程が簡素化され、
コストが低減する。更に、本発明によれば、塗布液の粘
度に対する制約がなく、いかなる粘度の非水系塗布液で
あっても、多層塗膜の形成がiiJ能である。
系塗布液の重層塗布において、層間の拡散混合が抑制さ
れて多層塗膜が、形成されるので、工程が簡素化され、
コストが低減する。更に、本発明によれば、塗布液の粘
度に対する制約がなく、いかなる粘度の非水系塗布液で
あっても、多層塗膜の形成がiiJ能である。
第1図は本発明に係る塗膜の形成方法を実施するだめの
装置の側断面図、第2図及び第3図は、本発明の効果を
示す特性図である。 ■・・・塗布ヘッド、2・・・エクストルージョンビー
1・部、3・・・ウェブ、】1・・・電子線照射装置、
12・・・乾燥装置。 手続補正書 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 3、補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 (520)富士写真フィルム株式会社4、代
理人 5、補正命令の日付 自 発 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
1、 明細書第6頁第1行の式を次のとおり訂正する。 [C11□=Cll−Co 2C112CIICI!
2O−(COC11□C112CO□clhcllcI
l□0)T−I − COC11= CII□」 2、 明細書の第5頁下から2行の“Fatipec”
を[“Fatipeclと訂正する。
装置の側断面図、第2図及び第3図は、本発明の効果を
示す特性図である。 ■・・・塗布ヘッド、2・・・エクストルージョンビー
1・部、3・・・ウェブ、】1・・・電子線照射装置、
12・・・乾燥装置。 手続補正書 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 3、補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 (520)富士写真フィルム株式会社4、代
理人 5、補正命令の日付 自 発 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
1、 明細書第6頁第1行の式を次のとおり訂正する。 [C11□=Cll−Co 2C112CIICI!
2O−(COC11□C112CO□clhcllcI
l□0)T−I − COC11= CII□」 2、 明細書の第5頁下から2行の“Fatipec”
を[“Fatipeclと訂正する。
Claims (1)
- 連続走行する可撓性支持体に、2種以上の非水系塗布液
を同時重層塗布して多層塗膜を形成する方法において、
2種以上の非水系塗布液の少なくとも1種に電子線硬化
性化合物を含有させ、該2種以上の非水系塗布液を同時
重層塗布後、50Mrad/秒以下の照射速度で電子線
を照射して塗布層を硬化あるいは増粘させ、次いで乾燥
することを特徴とする多層塗膜の形成方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19596684A JPS6174675A (ja) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | 多層塗膜の形成方法 |
| EP85107273A EP0168636A3 (en) | 1984-06-18 | 1985-06-12 | Method for making multilayer coating |
| US06/745,132 US4647475A (en) | 1984-06-18 | 1985-06-17 | Method for making multilayer light sensitive electron radiation cured coating |
| CA000484391A CA1262109A (en) | 1984-06-18 | 1985-06-18 | Method for making multilayer coating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19596684A JPS6174675A (ja) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | 多層塗膜の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6174675A true JPS6174675A (ja) | 1986-04-16 |
| JPH0222711B2 JPH0222711B2 (ja) | 1990-05-21 |
Family
ID=16349948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19596684A Granted JPS6174675A (ja) | 1984-06-18 | 1984-09-19 | 多層塗膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6174675A (ja) |
-
1984
- 1984-09-19 JP JP19596684A patent/JPS6174675A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0222711B2 (ja) | 1990-05-21 |
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