JPS6174973A - 自動作動化磁性流体シール装置及び使用方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 シャフトまわりに単一段あるいは多段の磁性流体の液体
０リングシールをもりて１回転シャフトをシールすると
きに使われる磁性流体タイプのシール装置は、公知であ
る。磁性流体シール装置は、シャフトの一側の一つの環
境をシャフトの他側の環境にある汚染物質から保護する
ための遮断シールとして、これまで用いられてきた。磁
性流体タイプの遮断シールは、コンピュータ・ディスク
・ドライブ・スピンドルに特に、有用であり、これは、
一つの環境内の汚染物質が、メモリ・ディスク領域に達
するのを防止しており、ここでは、この遮断シールは、
大きな耐圧を必要としていない。

現在、使われている標準の磁性流体遮断シールは。

シャフトを取り囲むようにされ、かつ２つの同一の磁極
片要素の間にはさまれている、環状の軸方向に極性化さ
れたリング状の永久磁石を備えており、この磁極片は、
永久磁石の一方の極端部及び他方の！＃、端部と接触す
る磁束関係に配置されている。一端部のｉｉ片要素は、
シャフトの表面と近接して、非接触関係に伸張し、それ
らの間に半径方向間隙を形成している。磁性流体は、透
磁性シャフトの挿入時に、半径方向間隙に配置されて。

かつ磁気的に保持され、シャフトまわりに１つ以上の液
体Ｏリングの段部を形成し、これは、遮断Ｖ−ルな形成
するのに役立つ。

典型的には１例えば、コンピュータ・ドライブ・シャフ
トに使用される磁性流体シール装置については、磁性流
体がシール装置と共に、別に出荷される。顧客は、それ
から、磁性流体シール装置紮取り付け、そしてシャフト
を挿入し、それから、ソールを作動化するために、かつ
シール装置内に挿入されたシャフト要素まわりに液体の
０リングシールを形成するために、取り付けられたシー
ルｌの内側に磁性流体を注入する。遮断シールを形成す
るこの方法は１時間を浪費するし、特に適切な量の磁性
流体を磁性流体シール装置へ適用するときに操作者によ
る間違いを受けやすい。このシール装置に用いられる磁
性流体の量は、磁性流体シールの寿命と耐圧を決定する
。それ故、すでに適切な量の磁性流体を含んでおり、か
つ透磁性シャフトをシール装置に挿入したときに、適切
なＯリングシールを与えるように半径方向間隙を自動的
に充填する磁性流体を有している、したがって実際、自
動作動化シニルである。磁性流体シール装置を顧客に供
給することが非常に望ましい。

自動作動化磁性流体シール装置は、米国特許第４２５＆
３２８号及び米国特許第４２５２．３５３号に開示され
ており、両方とも１９８１年２月２４日に公告されてい
る。記載されているこの自動作動化磁性流体シール装置
は、自動作動化、つまり、透磁性シャフトの挿入時に、
非作動シール位置から半径方向間隙内の作動シール位置
へと磁性流体を移動させている。そのような自動作動化
磁性流体シール装置は、完全に満足するものではない。

というのは、そのよつな自動作動化シール装置の製造コ
ストは、標準の遮断シールに対するよりも一層高くなる
傾向があるからである。

さらに、１９８２年１１月２日に公告された米国特許第
４３５７．０２４号を文、磁性流体シールの寿命を伸ば
すようにされた磁性流体シール装置を記載しており、特
に、フンピユータ・ディスク・ドライブ・シャフトに遮
断シールとして用いるようにされた磁性流体シール装置
を記載している。この磁性流体シール装置は、中間段階
の間隙および半径方向間隙を形成するために、同じ幅あ
るいは異なる幅の一般的にＬ字形状の磁極片を備えてい
る。

作動において、この磁性流体シール装置は、単一段シー
ル、後に、ａ性流体の蒸発を伴なって、各半径方向間隙
の下に２段のｏりングシール、その後、シールの損傷ま
で１つの半径方向間隙の下に単一段シールとして連続的
に作動し、これによりて、シール寿命の延びた磁性流体
シール装置を与えている。

それ故、゛製造しやすく、かつ組立てやすく、さらに作
動化しやすく、そしてシール寿命が延びた特徴を有する
、新規で、低コストのコンパクトな構造の自動作動化シ
ールを提供することが望まれている。

本発明は、磁性流体シール装置、及びそのようなシール
装置の製造方法ならびに使用に関する。

特に、本発明は、使用期間が延びたようなコンピュータ
・ディスクφドライブ嗜シャフトースピンドルをシール
するときに特に、有用である、低コストで、自動作動化
９、寿命が延びたコンパクトな磁性流体遮断シール装置
に関する。

本発明の自動作動化の磁性流体シール装置は、一端部の
磁極片の内表面の間に１５乃至２５ミルの厚さの中間段
階間隙を画成するために、非常に薄い軸方向に極性化さ
れた磁石、典型的には、厚さが約２５ミルよりも大きく
なく、一般的には、約１５から２５ミルの均一な厚さの
磁石を用いている磁性流体シールを備えている。用いら
れている永久磁石は、約１，０００ガウス以上の磁束密
度が、一端部の磁極片の内表面間の空気中間段階間隙に
生じるような高いエネルギ積の磁石であり、その結果、
磁性流体は出荷中に空気間隙内に保持され。

例えば、約１．８×１０６ガウス・エルステッド以上の
エネルギ積な持ち得る。さらに、この自動作動化の磁性
流体シール装置は、約２００ガウス以上の磁化を一般的
に有し、例えば、２００乃至４００ガウスであり、かつ
２７℃で約５０から４００　ｃｐｓまでの範囲の粘性を
有する。低揮発性の、高い磁化の磁性流体を使用してい
る。かくして、この磁性流体シール装置は、約２からＩ
Ｏミルまでの範囲の、例えば４乃至８ミルである。磁極
片の１つの非接触端部の下に半径方向間隙を画成し、か
つ一端部で、１５から２５ミルまでの範囲の磁極片間に
中間段階の空気間隙を画成している。典型的には、この
磁性流体シール装置に用いられている透磁性磁極片は、
厚さが均一的に等しくても良く、あるいは等しくなくて
も良いが、一般的には、厚さが約２５から６０ミルまで
の範囲の磁極片である。

この磁性流体シール装置は、一般的に、磁極片の他端部
にアルミニウムあるいはプラスチ、りの環状の非磁性ハ
ウジングを備えている。

本発明の磁性流体シール装置は、標準の磁性流体シール
よりも、はるかに小さい厚さの永久磁石を有しており、
その際、この厚さは、透磁性磁極片要素が、約１０乃至
２５ミルの範囲の間ｖＫよって分離されるところで減少
されており、一方、この永久磁石のエネルギ積は、高い
磁束密度がこの間隙に生じて、非作動状態で、その中に
磁性流体を保持するようなものである。作動において、
スピンドルシャフトのような透磁性シャフト要素が、磁
性流体シール装置内に挿入されると、シャフトと磁極片
の一端部との間の半径方向間隙は中間段階の間隙よりも
少さくなり１例えば、４乃至８ミルの範囲であり、磁石
の磁束線は、今や、シャフトを通る磁気回路を完成する
ために、それらの磁束路を変える。その結果、磁性流体
は、２つの磁極片要素の間の中間段階の空気間隙から、
一端側の磁極片要素の間の半径方向間隙へ引き出されて
、米国特許第４，３５７，０２４号に記載されているよ
うな方法で、一般的に断面、逆Ｔ字形状を有する磁性流
体シールを持つ単一段シールを与える。

本発明の磁性流体シールは、かくして、シールの軸方向
長さにおいて、大きな減少を与え、これは、コンピュー
タ・ディスク・ドライブの使用については、もつとも望
ましく、製造及び組立てが容易である。一方、このシー
ルは、使用される永久磁石の厚さを減じたので、先行技
術の自動作動化のシールよりも少ない費用ですみ、さら
に、一層長いシール寿命が得られる。

用いられている透磁性の磁極片要素は、典型的には、均
一な厚さのまり直ぐな面を持った要素であり、これは、
それらの間に空気キャビティを画成し、この空気キャビ
ティに、磁性流体が、透磁性のシャフトの挿入前に１例
えば、非作動のシール位置で、ａ極片間及びその一端部
に保持される。

この磁性流体は、空気キャビティから外側へわずかな膨
らみがあるように保持され、この空気キャビティでは、
磁性流体は磁束線に従う。しかし、内径にそのように保
持される磁性流体は、一般的に、シールの梱包あるいは
出荷の材料と接触しない＠この磁性流体シールの他の利
点は１作動化前に空気空間に、そのように保持される磁
性流体が。

また、磁極片間の空気間隙を効果的にシールし、かつ空
気空間の解放された極微粒子のメモリ・ディスク領域あ
るいは作動化前に遮断シールによって保護されるべき環
境への侵入を防止しているということである。特にコン
ピュータ・ディスクの分野におけ、るある顧客は、磁極
片間の空気キャビ−ティ内にある極微粒子に関心があり
、その結果。

本発明は、空気キ、ヤビティにこれらの粒子をシールす
るために非作動状態の磁性流体を与え、簡単で効果的な
低コストの磁性流体シールを与えている。

さらに、そして選択的に、磁性流体は、外側ハウジング
及び磁極片要素の他端部な取り囲むエラストマのＯリン
グシールによりて生じるシールではなく、静的な磁性流
体シールを与えるために。

磁極片要素の他端部の空気キャビティ内に、また、保持
され得る。この磁性流体は、また、効果的な磁性流体の
静的な遮断シールを形成するために。

環状の外表面に保持され得る。

本発明は、特定の実施例に関連してだけ、図示のために
記載されるが、しかし、当業者が１本発明の精神と範囲
から離れることなく、記載された実施例に１種々の変形
、付加及び改良をなしうるということが理解されるであ
ろう。

第１図は、アルミニウムのような非磁性ハウジング１２
および環状の軸方向へ極性化された永久磁石１８の両側
にある透磁性磁極片１４ならびに１６で構成されている
。標準の従来技術の磁性流体遮断シール装置１０を示し
ている。ハウジングは、０リングシールな使用すること
によって、ｌａ極片１４および１６の外側あるいは他端
部のまわりに、静止的にシールされており、一方、この
ハウジング１２と磁石１８との間にリング状の空気キャ
ビティ２０がある。このシール装置１０は、介在する空
気空間２６を持つシャフト２２の表面のまわりに一対の
磁性流体Ｏリングシール２４を有する作動化された形で
示されている。

示されているシール装置１０では、透磁性磁極片は１通
常、均−的に等しくて、厚さが約２５ミルから６０ミル
、までの範囲であり、一方、永久磁石は、一般的に、厚
さが約４０ミルから１５０ミルまでの範囲である。永久
磁石１８は、例えば、プラスティフオーム、セラミ、り
あるいは金属材料のような広範囲の種類の材料で形成さ
れ得るが、一般的に、１．８Ｘ１Ｇ’ガウス−エルステ
ッドよりも少ないエネルギ積を有している。

磁性流体２４は、典型的には、約１００乃至４００の磁
気ガウスを有する低蒸気圧の合成ハイドロカーボンある
いはエステルタイプの磁性流体でアリ、これは、約１０
０乃至４００ガウスの磁気飽和を有し、かつ２７℃で約
５０から４００　ｃｐｓまでの範囲の粘性を有している
。用いられているシャフト２２は、典型的には１例えば
、コンピュータのシャフトのような１回転の透磁性スピ
ンドルシャフトであり、その際、約２から１０ミルまで
の半径方向間隙を有し、透磁性シャフトの挿入後、顧客
によって、半径方向間隙へ挿入される磁性流体を有して
いる。この磁性流体は、シャフト２２の表面のまわりに
１点線で示される２つの別々の０リングシールを形成し
、一方、空気キャビティ２６が磁極片の間に形成されて
いる。

第２図は、非作動化状態における本発明による、低コス
トの自動作動化磁性流体シール装置３０を示しており、
これは、例えば、アルミニウムあるいはプラスチックの
ような非磁性ハウジング３２と１通常、厚さが約２５か
ら６０ミルまでの範囲である環状の透磁性磁極片３４お
よび３６と、約１０乃至２５ミルの厚さを有し、かつ約
１．８Ｘ１０’ガウス−エルステ、ドよりも大きいエネ
ルギ檀を有する。薄い軸方向に極性化された環状の永久
磁石３８を備えている。典型的には、この磁石は。

エラストマー的な材料のようを、プラスティ７オーム材
料（３Ｍ社製）、あるいは成型された材料で形成され、
これは、磁性流体シール装置に必要とされる薄い厚さに
機械加工されるか、さもなくば成形される。例えば、セ
ラミ、りあるいは金属もしくはナイロンのような重合体
の磁石のような他の永久磁石材料を使用することができ
るが、これらおよび他の磁石材料は１本発明によって必
要とされる薄い厚さの形に調製したり、機械加工したり
、あるいは製造することが困難である。

さらに、磁性流体を捕捉するために、使用される永久磁
石材料が多孔性の傾向があるところでは、選択的に、こ
の磁石材料は、磁性流体に対する磁石材料の多孔性を減
少して磁石の外表面をシールするために、例えばポリウ
レタンあるいはポリ塩化ビニルのようなプラスチ、り材
料のような非磁性材料の瑣゛い外側コーティングで＋Ｌ
覆されるべきである。

磁極片３４および３６の一端部で、そしてそれらの間に
設けられている中間段階の空気間隙で、磁性流体４６は
、磁石の磁束線によって非シール位置に保持されている
。この磁性流体は、各磁極片３４および３６の端部から
外側へ、わずかにカーブしており、一方、この磁性流体
の他の内側端部は、図示のように、わずかにメニスカス
形であり、その結果、この磁性流体は、一般的に、永久
磁石３Ｂの磁束線に合致する。磁性流体シール３０の他
端部には、リング状空気キャビティ４Ｂがあリ、これは
、効果的な静的シールを与えるために、外側キャビティ
の一端部に示されている磁性流体４０の使用によりで、
そして非磁性ハウジング３２に対して一定の割合で作ら
れている。所定位置にある静的シー、ル内のこの磁性流
体は、他端部でのシャフトの挿入によっては、大きくは
動かない。

というのは磁束線の変化が、はとんどないか、あるいは
あったとしても、わずかな変化にすぎないからである。

図示の如く、非作動の磁性流体４６と環状永久磁石３８
の内側表面との間の空気キャビティ５０内にある何らか
の極微粒子は、シールの作動時に、大気中へ放出されな
い。というのは。

磁性流体が非作動状態および作動状態で空気キャビティ
をシールするからである。

第３図は１作動状態における本発明の低コスト、自動作
動化シールを示しており、ここでは、透磁性シャフト４
２が挿入されており、かつ、ここでは１作動状態におけ
る磁性流体４６は、今や、約４乃至８ミルの半径方向間
隙４４へ移動して、一般的に断面Ｔ字形状の単一段の磁
性流体シールな形成する。第３図のこの遮断シールは、
空気キャビティ５０内の極微粒子を放出させることなく
。

５インチの水深よりも大きい充分な耐圧を有するという
ことが見い出され、かつこのシールの軸方向長さは、一
層フンバクトな形状を作るために減少されるいうことが
見い出された。均一を、なめ−堂 らかな面を持った磁極片要素の使用、および厚さが減少
した磁石の使用は、低コストの製造、簡単な組立て、な
らびにシ、−ルの簡単な作動化を可能にする。丁字形状
の磁性流体遮断シールの購造は、単一段から単一段形に
対する２゛重シールへ、シールの進行運動によって、一
層長いシール寿命を与える。用いられている磁性流体は
、約２００乃至４００ガウスの磁気飽和および２７℃で
約５０乃至４ＱＱｃｐａの粘性を有する低蒸気圧の合成
ハイドロカーボンあるいはエステルの磁性流体である。

磁極片３４および３６の一端部の透磁性シャフトの半径
方向間隙は、約４乃至８ミルであり、一方、磁極片間の
空気間隙は、約１５から２５ミルまでの範囲であり、そ
の結果、この半径方向間隙は、中間段階の間隙よりも小
さく、この中間段階の間隙は、典型的には、半径方向間
隙よりも２倍乃至３倍あるいはそれ以上である。外側キ
ャビティ４Ｂにある磁石の外側端部の他端部における磁
性流体４０の使用は、静的Ｏリングシールの使用をなく
し、磁性流体シールの外径からの、およびハウジングを
通る磁束の漏れを防止するのに役立つ。

【図面の簡単な説明】

第１図は、従来技術の２段の磁性流体遮断シールの概略
部分断面図、 第２図は１本発明による自動作動化磁性流体シールの非
作動状態における概略部分断面図。 第３図は、透磁性シャフトの挿入によって作動化され、
かつ作動化されたシール状態に配置されている。第２図
の自動作動化シールの概略部分断面図である。 １０・・・磁性流体遮断シール装置 １２．３２・・・ハウジング １４、ｉｆｆ、３４．３６・・・磁極片１８．３８・・
・永久磁石 ２０．４８．５０・・・空気キャビティ２２　、４２・
・・シャフト ２４．４０．４６・・・磁性流体 ２６・・・空気空間 ３０・・・磁性流体シール装置

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）磁性流体シール装置において、 ａ）透磁性シャフト要素の表面がシールされる、そのシ
   ャフト要素を取り囲むようにされた環状の永久磁石と、 ｂ）第１及び第２の環状の透磁性の離間された磁極片要
   素で、それぞれは、一端部及び他端部を有し、その際、
   それぞれ上記第１及び第２の磁極片要素の一端部は、シ
   ールされるべきシャフト要素の表面と近接して、非接触
   関係に伸張するようにされて、それと第１及び第２の半
   径方向間隙を形成し、上記第１及び第２の磁極片の他端
   部は、前記永久磁石と磁束関係に配置されるようにされ
   て、前記第１の磁極片と前記第２の磁極片との間に空気
   キャビティを形成する、第１及び第２の環状の透磁性の
   離間された磁極片要素と、 ｃ）前記シャフト要素のシール装置への挿入時に、前記
   シャフト要素の表面まわりに磁性流体の液体Ｏリングシ
   ールを形成するために、前記第１及び第２の半径方向間
   隙に保持されるようにされた磁性流体で、この磁性流体
   は、前記永久磁石の磁束によって、前記半径方向間隙に
   保持される、磁性流体と、 を備えるシール装置であって、 ｉ）前記永久磁石は、厚さが約２５ミルまでの厚さを有
   し、かつ前記第１及び第２の半径方向間隙の厚さよりも
   大きい厚さを有して、前記第１の磁極片の一端部と前記
   第２の磁極片の一端部との間に中間段階の空気間隙を形
   成し、 ｉｉ）前記永久磁石は、少なくとも約１．８×１０＾６
   ガウス・エルステッド以上のエネルギ積を特徴とし、 ｉｉｉ）前記磁性流体は、少なくとも２００ガウスの磁
   気飽和を有し、 ｉｖ）前記磁性流体は、非作動状態で、前記第１の磁極
   片と前記第２の磁極片との間の前記中間段階の空気間隙
   に保持され、かつ透磁性シャフト要素の磁性流体シール
   装置への挿入時に、前記磁性流体が、前記シャフト要素
   の表面まわりに単一段の磁性流体シールを形成するため
   に移動することを特徴とする磁性流体シール装置。 ２）前記第１及び第２の半径方向間隙は、約４から８ミ
   ルまでの範囲であり、かつ前記中間段階の空気間隙は、
   約１５から２５ミルまでの範囲である、特許請求の範囲
   第１項に記載のシール装置。 ３）前記永久磁石は、約１５から２５ミルまでの範囲の
   厚さを有する、特許請求の範囲第１項に記載のシール装
   置。 ４）前記中間段階の空気間隙の磁束密度は、約１，００
   ０ガウス以上である、特許請求の範囲第１項に記載のシ
   ール装置。 ５）前記第１及び第２の磁極片は、約２５から６０ミル
   までの厚さを有する、特許請求の範囲第１項に記載のシ
   ール装置。 ６）前記永久磁石は、重合体の機械加工できる永久磁石
   材料で構成されている、特許請求の範囲第１項に記載の
   シール装置。 ７）前記永久磁石は、薄い、非磁性の被覆を、その上に
   有して、前記永久磁石材料の多孔性を減じている、特許
   請求の範囲第１項に記載のシール装置。 ８）前記磁性流体は、約２００乃至４００ガウスの磁気
   飽和を有し、かつ２７℃で約５０から４００ｃｐｓまで
   の範囲の粘性を有する、特許請求の範囲第１項に記載の
   シール装置。 ９）前記第１及び第２の磁極片は、実質的に等しく、か
   つ均一な厚さである、特許請求の範囲第１項に記載のシ
   ール装置。 １０）前記磁極片の他端部のまわりに非透磁性のハウジ
   ングを備えている、特許請求の範囲第１項に記載のシー
   ル装置。 １１）前記ハウジングと前記第１及び前記第２の磁極片
   の他端部の間に形成される第２の環状空気間隙があり、
   かつ前記第２の空気間隙内に磁性流体を備え、所定位置
   に保持して前記ハウジングと共に磁性流体の静的シール
   を形成する、特許請求の範囲第１０項に記載のシール装
   置。 １２）前記シール装置内に透磁性のシャフト要素を備え
   、前記磁性流体が単一段の磁性流体の液体Ｏリングシー
   ルを、前記シャフト要素の表面まわりに形成する、特許
   請求の範囲第１項に記載の磁性流体シール装置を備える
   、磁性流体の遮断シール装置。 １３）前記透磁性シャフトが、コンピュータ・ディスク
   ・ドライブ・シャフトを備え、ここで前記遮断シールが
   、汚染領域の環境からメモリ・ディスク領域を分離して
   いる、特許請求の範囲第１２項に記載の装置。 １４）磁性流体シール装置において、 ａ）透磁性シャフト要素の表面がシールされる、そのシ
   ャフト要素を取り囲むようにされた環状の永久磁石と、 ｂ）第１及び第２の環状の透磁性の離間された磁極片要
   素で、それぞれは、一端部及び他端部を有し、その際、
   それぞれ上記第１及び第２の磁極片要素の一端部は、シ
   ールされるべきシャフト要素の表面と近接して、非接触
   関係に伸張するようにされて、それと第１及び第２の半
   径方向間隙を形成し、上記第１及び第２の磁極片の他端
   部は、前記永久磁石と磁束関係に配置されるようにされ
   て、前記第１の磁極片と前記第２の磁極片との間に空気
   キャビティを形成する、第１及び第２の環状の透磁性の
   離間された磁極片要素と、 ｃ）前記シャフト要素のシール装置への挿入時に、前記
   シャフト要素の表面まわりに磁性流体の液体Ｏリングシ
   ールを形成するために、前記第１及び第２の半径方向間
   隙に保持されるようにされた磁性流体で、この磁性流体
   は、前記永久磁石の磁束によって、前記半径方向間隙に
   保持される、磁性流体と、 を備えるシール装置であって、 ｉ）前記永久磁石は、約１５から２５ミルまでの範囲の
   厚さを有して、一端部で、前記第１の磁極片の一端部と
   前記第２の磁極片の一端部との間に約１５乃至２５ミル
   の中間段階の空気間隙を形成し、 ｉｉ）前記永久磁石は、約１．８×１０＾６ガウス・エ
   ルステッド以上のエネルギ積を特徴とし、 ｉｉｉ）前記永久磁石は、重合体の、フレキシブルな機
   械加工できる材料で構成されており、ｉｖ）前記第１及
   び第２の半径方向間隙は、約４から８ミルまでの範囲で
   あり、 ｖ）前記磁性流体は、２００乃至４００ガウスの範囲の
   磁気飽和を有し、かつ２７℃で約５０乃至４００ｃｐｓ
   の範囲の粘性を有し、 ｖｉ）前記磁性流体は、作動化段階で前記第１の磁極片
   と第２の磁極片との間の前記中間段階の空気間隙に保持
   され、かつ透磁性シャフト要素の前記磁性流体シール装
   置への挿入時に、磁性流体が前記シャフト要素の表面ま
   わりに単一段の磁性流体Ｏリングシールを形成ために移
   動することを特徴とする磁性流体シール装置。 ５）特許請求の範囲第１項に記載の磁性流体シール装置
   を備え、かつこのシール装置内に透磁性シャフト要素を
   具備し、前記磁性流体は、単一段の断面、Ｔ字形状のＯ
   リングシールを形成する、磁性流体遮断シール装置。 ６）透磁性シャフトのまわりに自動作動化の磁性流体遮
   断シールを与える方法であって、 ａ）一般的に均一な側面を有する一対の離間された環状
   の磁極片の一端部及びその間の中間段階の空気間隙に限
   定された量の磁性流体を保持することと、その際、上記
   磁極片の他端部は環状の永久磁石と磁束関係にあり、上
   記磁性流体は、上記永久磁石の磁束によって上記中間段
   階の間隙に保持され、かつ上記磁性流体は、上記磁極片
   の端部の外側へわずかに伸張して、上記中間段階の間隙
   内の所定位置に保持される磁性流体を持って、出荷でき
   る非作動の磁性流体シールを形成し、 ｂ）一対の環状の磁極片内にシャフトを挿入することに
   よって、透磁性シャフトの表面のまわりに磁性流体のＯ
   リングシールを形成することと、そのとき、上記シャフ
   トは、上記磁極片の一端部に、上記中間段階の空気間隙
   よりも小さい封止間隙を画成し、上記磁性流体は、シャ
   フトへの挿入時に、非作動シール乃至作動シールを形成
   することができ、ここで、上記磁性流体は、前記中間段
   階の間隙及び封止間隙のシャフトの表面まわりに、一般
   的にＴ字形の断面形状の磁性流体Ｏリングシールを形成
   している、透磁性シャフトのまわりに自動作動化の磁性
   流体遮断シールを与える方法。 １７）約１５乃至２５ミルの中間段階の間隙及び４乃至
   ８ミルの半径方向間隙を形成することを備える、特許請
   求の範囲第１６項に記載 の方法。 １８）前記磁性流体は、この磁性流体がわずかに弓状の
   端部を持つ、一般的に円筒形の断面形状を有する非作動
   のシールから、この磁性流体が一般的にＴ字形の断面形
   状を有する作動シールへ、移動する、特許請求の範囲第
   １６項に記載の方法。