JPS6177154A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■　発明の背景 技術分野 本発明は、レーザー光等の熱及び光を用いて情報の記録
、再生を行なう光磁気記録媒体に関する。

従来技術 光（ａ　′）ｊ、メモリ用の記録媒体としては。

ＭｎＢ１　、ＭｎＡｌＧｅ　、ＧｄＦｅ　。

ＴｂＦｅ、ＧｄＣｏ、ＰｔＣｏ、ＴｂＦｅ３　　。

Ｇｄ１Ｇ、ＧｄＴｂＦｅ　、ＣｒＯ２等の材料が知られ
ている。　これらは真空蒸着法やスパッタリング法等の
方法で、ガラスやシリコヌエハー等の基板上に薄膜とし
て作られる。　　これらの光磁気記録媒体に共通してい
る特性としては、 （１）磁化容易磁気が８２面に垂直方向にある。

（２）キュリ一温度や磁気補償温瓜、が比較的低い。

の２点をあげることができる。

この性質を利用して、光磁気記録媒体の方法としては１
例えば次の方法がある。　まず膜全体を°゛０°′すな
わち下向く磁化にしておいて。

°１°゛を記録したい部分にレーザービームを照射する
。　　レーザービームが照射されたところは温度が」−
昇し、そのため保持力Ｈｅが小さくなる。　従って、レ
ーザービームを照射の際微弱な外部磁場を“１”方向に
′ｊ−えておくと、照射部分は保持力Ｈｃが小さくなっ
たため磁化反転して°°１°°すなわち磁化が上向きに
なる。

”　ｏ　”の記録は、初期状態がＯ°゛であるからレー
ザービームを照射しない部分は°゛０″のまま残る。

記録された光磁気メモリの読み取りは、通常、同じよう
にレーザービームを用いて、このレーザービーム照射光
の磁化の方向による反射光の偏光面の回転を利用して行
われる。

このような光磁気記録媒体においては、磁気記録層は大
気に接したまま保存されると、大気中のＭ　、Ｎや木の
気体分子により腐食あるいは酸化されて、しまいには情
報の記録、再生が不可能となる。　そこで一般には第１
図に示すように、磁気記録層１２の表面や基板側に、を
保護膜１３．１４を設けた構成を有するものが多く使用
されている。

従来このような防湿性の保護層としては、アクリル等の
高分子材料や、−酸化ケイ素、二酸化ケイ素等のコーテ
ィングまたは真空蒸着膜を１没ける試み（特開昭５８−
８０１４２号等）が開示されている。

しかしこれらでは、＃久性のある防湿効果の高い保護膜
かえられず、光磁気記録媒体として−）きこみ読み出し
感度の経時劣化が大きい。

＋１　　発明の目的 本発明の目的は、磁気記録層を湿度的′＃響から守り耐
久性のよい光磁気記録媒体を提供することにある。

このようなＩＪ的は以下の本発明によって達成される。

すなわち本発明は基板上に、磁気記録層を有し、この磁
気記録層の上方および／または下方に保護層を有する光
記録媒体において、保護層がケイ素系縮合物のコロイド
粒子分散液の塗膜からなることを特徴とする光記録媒体
である。

■発明の具体的構成 本発明の光磁気記録媒体は、第１図に１例を示すように
、ガラスや樹脂等の基板１１の上に光磁気記録用の磁気
記録層１２として。

ＭｎＢ１　、ＭｎＡｕＧｅ　、ＧｄＦｅ　。

ＴｂＦｅ、ＧｄＣｏ、ＰｔＣｏ。

ＴｂＦｅＯ３、ＧｄＩＧ、ＧｄＴｂＦｅ。

ＣｒＯ２等の合金をスパッタ法等により通常の厚さに形
成する。

本発明は第１図に示すように形成してもよいし、第２図
に示すように磁気記録層１２゜１２′を内側にして対向
せしめ、接着剤等を用いてはりあわせて基板１１．１１
’の裏面側からの１込みを行ってもよい。

磁気記録層１２の上方および／または下方には保護層１
３．１３’、１４．１４′を有する。

保護層は、基板側に対する防湿性のため、特に樹脂製基
板の場合に磁気記録層の下方に。

また、磁気記録層が露出する場合の防湿性のためには磁
気記録層の上方に設けることがｔＩＩましい。

未発明の保護層はケイ素系縮合物のコロイド粒子分散液
の塗膜からなる。

ケイ素系縮合物のコロイド粒子は、ハロゲン化ケイ素、
特に四塩化ケイ素、ないしアルキルケイ酸、特に四低級
アルキル（メチル、エチル）ケイ酸の加水分解縮合物が
好適である。

そして、コロイド粒子径は、３０〜１００人、特に５０
〜８０人程度とされる。

また１分数奴としては、アルコール、特に１個の脂肪族
アルコール、あるいは酢酸アルキル、あるいはこれらと
芳香族炭化水素との混合溶媒等が用いられる。

また、加水分解のためには、必要に応じ鉱酸か添加され
る。

そして、必要に応じエチレングリコール等の安定剤や界
面活性剤等が添加される。

このようなコロイド粒子分散液の１例としては、特公昭
３１−６５３３号に記載された四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ
２）と１価の脂肪族アルコールとを酢酸アルキルエステ
ル中に溶解させたものがある。

また、特公昭３Ｂ−４７４０号に記載された四アルキル
ケイ酸と１価の脂肪族アルコール、酢酸アルキルおよび
鉱酸よりなる溶液に、１〜２０ｗｔ％のエチレングリコ
ールを添加したものでもよい。

さらには、特公昭４５−３　ｓ　４　：ｌ　５　＋＋に
記載された四低級アルキルケイ酸のアルコール溶液でも
よい。

このような場合、使用する１価の脂肪族アルコールとし
ては、メチルアルコール、エチルアルコール、変性アル
コール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコールあ
るいはそれらの混合物、 酢酸アルキルとしては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
アミル、酢酸ブチルあるいはこれらの混合物を用い。

Ｗ、酸としては、塩酸、硫酸の水溶液等で。

普通１窒的に用いられているものを用いればよい。

なお、これらの分散液の塗布は、常法に従い、スピンナ
ーコート等の塗布によればよ６ｔ　。

なお、希釈溶媒としては１例えば炭化水素系とアルコー
ル系の混合物が好ましい。

そして、乾燥は、４０〜８０℃にて、２０分〜２時間程
度行えばよい。

このようにして形成される塗膜は、ＯＨを含む酸化ケイ
素塗膜である。

以上の保護層の厚さは、０．０５〜３ｇｍである。　特
に好ましくは、０．０８〜０．２トｍであることが好ま
しい。

保１．〜層が、０．０５ルｍ未満であれば、光磁記録媒
体としての安定性向上の効果が得られない。

保護層が０．０３ｇｍを越えると、光磁記録媒体として
の書き込み読み出しの感度は、低下してしまう、　　ま
た、保護層にクラッキングを生じ、劣化の原因となる。

■発明の効果 本発明の光磁気記録媒体は、ケイ素系縮合物のコロイド
粒子分散液の塗膜からなる保護層を磁気記録層の上方お
よび／または下方に有するので、防湿性が向上し、高温
高湿で長時間使用しても経時劣化が少なく耐久性がよい
。

■　発明の具体的実施例 以下、本発明の実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に説
明する。

実施例 基体直径２０ｃｍのＰＭＭＡ 裁板上に、 ＧｄＴｂＦｅからなる合金薄膜をスパッタリングにより
厚さ０．１ｇｍに設層し光磁気記録層とした この場合、記録層の上下には、 四エチルケイ酸　　　　　４．２部 エチルアルコール　　　４３　　部 酢酸エチル　　　　　　４２　　部 層塩酸　　　　　　　　　５．４部 エチレングリコール　　　５．４部 を混合し、５０〜８０人のコロイド分散液とし、ｎ−プ
ロパツールで希釈して塗布液とした。

これをスピンナーコートしたのち、６０℃、３０分間処
理し、保護層を設層した。ｌ！２厚は０．０１体山とし
た。

比較例として、ＰＭＭＡ基板上の同一磁気記録層の上ド
に保護層として５ｉ０２蒸着脱をそれぞれ０．０１ルｍ
に設層したものを作製した・ 以トの試料および比較例について初期と。

８０℃、６０％ＲＨにて３００時間保存後のＣ／Ｎ比を
測定した。

結果を表１に示す。

表　　　　１ 本発明　　　　　　４５　　　　　４３比　　較　　　
　　　　　　　　４５　　　　　　　　　　４０表１に
示される結果から、本発明の効果があきらかである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の１例を示す光磁気記録媒体の斜面図
である。 第２図は、本発明の光磁気記録媒体の他の１例を示す斜
面図である。 １１．１１′川基板。 １２．１２’・・・磁気記録層。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上に、磁気記録層を有し、この磁気記録層の
   上方および／または下方に保護層を有する光記録媒体に
   おいて、 保護層がケイ素系縮合物のコロイド粒子分散液の塗膜か
   らなることを特徴とする光磁気記録媒体。