JPS6177334A - 電子ビ−ム装置 - Google Patents
電子ビ−ム装置Info
- Publication number
- JPS6177334A JPS6177334A JP59198814A JP19881484A JPS6177334A JP S6177334 A JPS6177334 A JP S6177334A JP 59198814 A JP59198814 A JP 59198814A JP 19881484 A JP19881484 A JP 19881484A JP S6177334 A JPS6177334 A JP S6177334A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- sample
- unit amount
- control circuit
- transfer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P74/00—Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子ビーム装置に係り、特に、試料上に特定箇
所を迅速に発見することのできる試料ステージの移動方
式に関する。
所を迅速に発見することのできる試料ステージの移動方
式に関する。
電子ビーム装置は、半導体の検査１診断等に広く利用さ
れている。その主な動作は、試料であるＩＣ（以下、試
料ＩＣと呼ぶ）に電子ビームを照射しつつ、各照射位置
から放射される２次電子信号を検出し、それに基づいて
画像表示装置上に濃淡画像として表示するものである。
れている。その主な動作は、試料であるＩＣ（以下、試
料ＩＣと呼ぶ）に電子ビームを照射しつつ、各照射位置
から放射される２次電子信号を検出し、それに基づいて
画像表示装置上に濃淡画像として表示するものである。
この場合、１画面に表示される試料ＩＣの視野は狭いた
め、試料ＩＣはＸＹ方向に任意に移動させることのでき
る試料ステージの上に載せられ。
め、試料ＩＣはＸＹ方向に任意に移動させることのでき
る試料ステージの上に載せられ。
これによって試料ＩＣを移動させながら、所望の観測位
置を視野内に導くという方式が従来採用されている。
置を視野内に導くという方式が従来採用されている。
しかし、上記のままの方式では、たとえば試料Ｔ（Ｊ＜
ｌ似パターン列からなっているような場合。
ｌ似パターン列からなっているような場合。
特定箇所を見つけるためには、少しずつ前記試料ステー
ジを移動させながら、注意深く観察しなければならない
という問題点があった。
ジを移動させながら、注意深く観察しなければならない
という問題点があった。
本発明ば」二記問題点を除くために、試料上の特。
定箇所を迅速に発見することのできる試料ステージの移
動方式に基づく電子ビーム装置を提供することを目的と
する。
動方式に基づく電子ビーム装置を提供することを目的と
する。
〔問題を解決するための１段〕
本発明は上記目的を達成するために、試料の移動を行う
試料ステージと、カーソル機能を有する画像表示手段と
を有する電子ビーム装置において。
試料ステージと、カーソル機能を有する画像表示手段と
を有する電子ビーム装置において。
前記カーソル機能を用いて、前記画像表示手段における
表示画像上で、前記試料ステージの単位ステージ移動量
を指示する指示手段と、該指示手段によって指示された
前記単位ステージ移動量に基づいて、前記試料ステージ
のステージ移動制御を行う制御手段とを有するものであ
る。
表示画像上で、前記試料ステージの単位ステージ移動量
を指示する指示手段と、該指示手段によって指示された
前記単位ステージ移動量に基づいて、前記試料ステージ
のステージ移動制御を行う制御手段とを有するものであ
る。
上記手段によって、まず、試料ＩＣの類似パターン列の
１列分を単位ステージ移動量として１画像表示手段にお
ける表示画像上でカーソルを用いて指示する。それによ
って試料ステージによるステージ移動は、その制御手段
を介して上記単位ステージ移動量を一単位として行われ
る。これによって、試料ＩＣのステージ移動が上記繰り
返しパターン毎に迅速に行われる。
１列分を単位ステージ移動量として１画像表示手段にお
ける表示画像上でカーソルを用いて指示する。それによ
って試料ステージによるステージ移動は、その制御手段
を介して上記単位ステージ移動量を一単位として行われ
る。これによって、試料ＩＣのステージ移動が上記繰り
返しパターン毎に迅速に行われる。
以下１本発明の実施例につき詳細に説明を行う。
第１図は本発明による電子ビーム装置の構成図である。
電子光学系１は、内部にプランカー２゜偏向器３．ＸＹ
ステージ５．および２次電子検出器６を有する。ＸＹス
テージ５の上には試料ＩＣ４が載せられ、プランカー２
．および偏向Ｂ３にはフレーム走査制御回路７の２つの
出力が接続され、２次電子検出器６．および計算機１０
の一方の出力は、同じく、フレーム走査制御回路７に接
続される。また、フレーム走査制御回路７の出力は画像
表示装置８に接続され、同じく１画像表示装置８にはカ
ーソル制御回路９の一方の出力が接続される。また、カ
ーソル制御回路９の他方の出力は計算機１０に接続され
る。計算機１０の他方の出力はステージ制御回路１１に
接続され、ステージ制御回路１１の出力はステージ駆動
回路１２に接続され、ステージ駆動回路１２の２つの出
力はＸＹステージ５のＸ入力、およびＹ入力に接続され
る。
ステージ５．および２次電子検出器６を有する。ＸＹス
テージ５の上には試料ＩＣ４が載せられ、プランカー２
．および偏向Ｂ３にはフレーム走査制御回路７の２つの
出力が接続され、２次電子検出器６．および計算機１０
の一方の出力は、同じく、フレーム走査制御回路７に接
続される。また、フレーム走査制御回路７の出力は画像
表示装置８に接続され、同じく１画像表示装置８にはカ
ーソル制御回路９の一方の出力が接続される。また、カ
ーソル制御回路９の他方の出力は計算機１０に接続され
る。計算機１０の他方の出力はステージ制御回路１１に
接続され、ステージ制御回路１１の出力はステージ駆動
回路１２に接続され、ステージ駆動回路１２の２つの出
力はＸＹステージ５のＸ入力、およびＹ入力に接続され
る。
以」二のような構成の電子ビーム装置において。
電子光学系１内で発射された電子ビームは、計算機１０
によって設定された値に基づいて、フレーム走査制御回
路７によって制御されるプランカー２によって照射タイ
ミングがとられ、同様に偏向器３によって照射方向が決
定されて、ＸＹステージ５の上の試料ＩＣ４上に照射さ
れつつ、フレーム走査される。これにより、試料Ｔｅ３
上の各照射部分から放射される２次電子は、２次電子検
出器６によって２次電子信号として検出され、フレ−ム
走査制御回路７内のＡＤ変換器によってディジタル信、
号に変換され３画像表示装置８に出力され濃淡画像とし
て表示される。
によって設定された値に基づいて、フレーム走査制御回
路７によって制御されるプランカー２によって照射タイ
ミングがとられ、同様に偏向器３によって照射方向が決
定されて、ＸＹステージ５の上の試料ＩＣ４上に照射さ
れつつ、フレーム走査される。これにより、試料Ｔｅ３
上の各照射部分から放射される２次電子は、２次電子検
出器６によって２次電子信号として検出され、フレ−ム
走査制御回路７内のＡＤ変換器によってディジタル信、
号に変換され３画像表示装置８に出力され濃淡画像とし
て表示される。
このようにして画像表示装置８によって表示される１画
面分の画像は、電子ビームが試料ＩＣｄ上の特定範囲し
か照射できないため、第２図に示すように上記特定範囲
の部分の配線画像となる。
面分の画像は、電子ビームが試料ＩＣｄ上の特定範囲し
か照射できないため、第２図に示すように上記特定範囲
の部分の配線画像となる。
図中斜線部は配線パターンであり、第２図は同じような
配線パターンが繰り返している半導体ＩＣの表示画面の
例である。
配線パターンが繰り返している半導体ＩＣの表示画面の
例である。
このような表示画面の場合、試料ＩＣ４の他の特定部分
を探したい場合、従来のようにＸＹステージ５を少しず
つ動かしたのでは表示画面上のパターンは少しずつしか
移動せず、目的部分がどの辺にあるのかわかりにくい。
を探したい場合、従来のようにＸＹステージ５を少しず
つ動かしたのでは表示画面上のパターンは少しずつしか
移動せず、目的部分がどの辺にあるのかわかりにくい。
そこで、１度に配線パターンの１繰り返し分の距離だけ
ステージ移動ができるようにしてやれば、繰り返し移動
の回数を数えるだけで目的部分を簡単に探すことができ
る。
ステージ移動ができるようにしてやれば、繰り返し移動
の回数を数えるだけで目的部分を簡単に探すことができ
る。
その動作を説明したのが第３図である。まず。
画像表示装置上に１画面分の配線パターンが表示された
ら、カーソル制御回路９における制御キーによりカーソ
ルを動かし、第３図の１３及び１４で示した位置を指定
する。これにより、同図１５で示した距離が上下方向の
単位ステージ移動量として指示され、計算機１０に送ら
れる。計算機１０においては、フレーム走査座標系とＸ
Ｙステージ５の回転角、及びｌフレームの視野の倍率な
どに基づいて、上記単位ステージ移動量がＸＹステージ
５上における実際の単位ステージ移動量に換算されて記
憶される。
ら、カーソル制御回路９における制御キーによりカーソ
ルを動かし、第３図の１３及び１４で示した位置を指定
する。これにより、同図１５で示した距離が上下方向の
単位ステージ移動量として指示され、計算機１０に送ら
れる。計算機１０においては、フレーム走査座標系とＸ
Ｙステージ５の回転角、及びｌフレームの視野の倍率な
どに基づいて、上記単位ステージ移動量がＸＹステージ
５上における実際の単位ステージ移動量に換算されて記
憶される。
次にステージ制御回路１１には、（十Ｘ）。
（−Ｘ）、 （＋Ｙ）、 （−Ｙ）のキーが設けら
れており、このキーにより１単位ステージ移動量の方向
が与えられると、計算機」０に記憶されている上記単位
ステージ移動量が読み出され、ステージ駆動回路１２を
介してステージ移動が行われる。
れており、このキーにより１単位ステージ移動量の方向
が与えられると、計算機」０に記憶されている上記単位
ステージ移動量が読み出され、ステージ駆動回路１２を
介してステージ移動が行われる。
例えば、 （＋Ｘ）のキーを押せば、右方向に１単位
ずつ移動し、 （−Ｘ）なら左方向、 （＋Ｙ）な
ら上方向、 （−Ｙ）なら下方向に移動する。第４図
は、第３図で指示された上下方向の単位ステージ移動量
に基づいて、＋Ｙ方向（上方向）にステージ移動を行っ
た場合の例である。第４図において、１６は中央を示す
ラインである。今、第４図＋ａ）に示すようにＣという
配線パターンが画面の中心にあった場合、第３図の単位
ステージ移動量に基づいて、ステージ制御回路１１の（
＋Ｙ） キーを１回押すと、第４図（ｂｌに示すように
Ａという配線パターンが画面の中心に移動する。
ずつ移動し、 （−Ｘ）なら左方向、 （＋Ｙ）な
ら上方向、 （−Ｙ）なら下方向に移動する。第４図
は、第３図で指示された上下方向の単位ステージ移動量
に基づいて、＋Ｙ方向（上方向）にステージ移動を行っ
た場合の例である。第４図において、１６は中央を示す
ラインである。今、第４図＋ａ）に示すようにＣという
配線パターンが画面の中心にあった場合、第３図の単位
ステージ移動量に基づいて、ステージ制御回路１１の（
＋Ｙ） キーを１回押すと、第４図（ｂｌに示すように
Ａという配線パターンが画面の中心に移動する。
このように、１度にステージ移動を行う単位ステージ移
動量をカーソル制御回路９によって設定でき、それに基
づいてステージ移動を行えるため。
動量をカーソル制御回路９によって設定でき、それに基
づいてステージ移動を行えるため。
目的の特定部分を探したい時には、上記ステージ移動の
回数を覚えておくだけで、迅速に行うことができる。
回数を覚えておくだけで、迅速に行うことができる。
なお、第３図及び第４図は＋Ｙ方向、または−Ｙ方向（
上下方向）にステージ移動を行う場合の例であるが、当
然カーソル制御回路によって→−Ｘ方向、または−Ｘ方
向（左右方向）の単位ステージ移動量を設定することも
可能であり、その場合は、ステージ制御回路１１の（＋
Ｘ）、または〔−Ｘ〕キーによってステージ移動が行わ
れる。
上下方向）にステージ移動を行う場合の例であるが、当
然カーソル制御回路によって→−Ｘ方向、または−Ｘ方
向（左右方向）の単位ステージ移動量を設定することも
可能であり、その場合は、ステージ制御回路１１の（＋
Ｘ）、または〔−Ｘ〕キーによってステージ移動が行わ
れる。
次に１画像表示装置８は、カーソル制御回路９によって
第３図のように学位ステージ移動量が指示された後、該
移動量を単位とした格子を、移動前に画像に重ねて表示
する機能を有する。それを示したのが第５図である。１
７が単位ステージ移動量を示す格子であり、これにより
移動してゆ（目やすをつけることができる。
第３図のように学位ステージ移動量が指示された後、該
移動量を単位とした格子を、移動前に画像に重ねて表示
する機能を有する。それを示したのが第５図である。１
７が単位ステージ移動量を示す格子であり、これにより
移動してゆ（目やすをつけることができる。
なお１以上の実施例においては、単位ステージ移動量の
指示を、１画面上で指示する方式としたが、実際には、
ステージの回転角や、視野の倍率などの誤差により、ス
テージ移動誤差が生じる場合がある。そのような場合を
考慮して、実際にステージ移動を数回繰り返して、単位
ステージ移動量を平均値として指示するような方式にす
ることも可能である。
指示を、１画面上で指示する方式としたが、実際には、
ステージの回転角や、視野の倍率などの誤差により、ス
テージ移動誤差が生じる場合がある。そのような場合を
考慮して、実際にステージ移動を数回繰り返して、単位
ステージ移動量を平均値として指示するような方式にす
ることも可能である。
本発明によれば、メモリ、ゲートアレイなど周期性パタ
ーンの多い試料ＩＣの所望の位置を、バターンの番号を
数えながらステージ移動を繰り返すだけで、迅速に求め
ることができる。また１本発明によれば、比較的小規模
のシステムでも、試料ＩＣ全体の位置把握を容易に行う
ことが可能となる。
ーンの多い試料ＩＣの所望の位置を、バターンの番号を
数えながらステージ移動を繰り返すだけで、迅速に求め
ることができる。また１本発明によれば、比較的小規模
のシステムでも、試料ＩＣ全体の位置把握を容易に行う
ことが可能となる。
第１図は本発明による電子ビーム装置の構成図。
第２図は半導体ＩＣの周期性パターンの表示画面の例を
示した図、第３図は学位ステージ移動量指示の説明図、
第４図（ａｌ、 （ｂ）はステージ移動による表示画面
の変化の説明図、第５図は単位ステージ移動量の格子表
示機能の説明図である。 ４・・・試料ＩＣ，，５・・・ＸＹステージ、
７・・・フレーム走査制御回路。 ８・・・画像表示装置、 ９・・・カーソル制御
回路、 １０・・・計算機。 １１・・・ステージ制御回路、 １２・・・ステ
ージ駆動回路。 第２図 第３図 第４図 （ａ） （ｂ） 第５図
示した図、第３図は学位ステージ移動量指示の説明図、
第４図（ａｌ、 （ｂ）はステージ移動による表示画面
の変化の説明図、第５図は単位ステージ移動量の格子表
示機能の説明図である。 ４・・・試料ＩＣ，，５・・・ＸＹステージ、
７・・・フレーム走査制御回路。 ８・・・画像表示装置、 ９・・・カーソル制御
回路、 １０・・・計算機。 １１・・・ステージ制御回路、 １２・・・ステ
ージ駆動回路。 第２図 第３図 第４図 （ａ） （ｂ） 第５図
Claims (3)
- （１）試料の移動を行う試料ステージと、カーソル機能
を有する画像表示手段とを有する電子ビーム装置におい
て、前記カーソル機能を用いて、前記画像表示手段にお
ける表示画像上で、前記試料ステージの単位ステージ移
動量を指示する指示手段と、該指示手段によって指示さ
れた前記単位ステージ移動量に基づいて、前記試料ステ
ージのステージ移動制御を行う制御手段とを有すること
を特徴とする電子ビーム装置。 - （２）前記指示手段によって指示される単位ステージ移
動量は、前記表示画像上において互いに直交する２方向
に対して独立に指示されることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の電子ビーム装置。 - （３）前記画像表示手段は、表示画像に重ねて、前記指
示手段よって指示された単位ステージ移動量を示すパタ
ーンを同時に表示する単位ステージ移動量表示手段を有
することを特徴とする特許請求の範囲第１項及び第２項
記載の電子ビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59198814A JPS6177334A (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | 電子ビ−ム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59198814A JPS6177334A (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | 電子ビ−ム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6177334A true JPS6177334A (ja) | 1986-04-19 |
Family
ID=16397353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59198814A Pending JPS6177334A (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | 電子ビ−ム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6177334A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01144552A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-06 | Shimadzu Corp | 薄膜断面分析装置 |
| JP2007086066A (ja) * | 2005-09-19 | 2007-04-05 | Fei Co | ツール構成要素の動作領域を所定の要素に調節する方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5249770A (en) * | 1975-10-20 | 1977-04-21 | Toshiba Corp | Pattern inspection device |
| JPS59148254A (ja) * | 1983-02-10 | 1984-08-24 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡等の試料移動装置 |
-
1984
- 1984-09-21 JP JP59198814A patent/JPS6177334A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5249770A (en) * | 1975-10-20 | 1977-04-21 | Toshiba Corp | Pattern inspection device |
| JPS59148254A (ja) * | 1983-02-10 | 1984-08-24 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡等の試料移動装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01144552A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-06 | Shimadzu Corp | 薄膜断面分析装置 |
| JP2007086066A (ja) * | 2005-09-19 | 2007-04-05 | Fei Co | ツール構成要素の動作領域を所定の要素に調節する方法 |
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