JPS6182305A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS6182305A JPS6182305A JP20524384A JP20524384A JPS6182305A JP S6182305 A JPS6182305 A JP S6182305A JP 20524384 A JP20524384 A JP 20524384A JP 20524384 A JP20524384 A JP 20524384A JP S6182305 A JPS6182305 A JP S6182305A
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- glass
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 11
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/193—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features the pole pieces being ferrite or other magnetic particles
-
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/133—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores composed of particles, e.g. with dust cores, with ferrite cores with cores composed of isolated magnetic particles
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-
- G—PHYSICS
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- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気ヘッドの製造方法の改良に係わり、特に
、高精度かつ高信頼性を付与したギャップ形成を可能と
する磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
、高精度かつ高信頼性を付与したギャップ形成を可能と
する磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
磁気ヘッドのギャップを形成する方法として、２個のフ
ェライトコアーのフロントギャップ構成面にガラス材を
スパッタリングにより膜厚の合計が所定のギヤツブ巾に
等しくなるように付着せしめ、前記両コアーをそのフロ
ントギャップ構成面が前記ガラス層を介して対向する様
に圧接せしめた後、前記ガラスの軟化温度と溶融温度範
囲内にてギャップを形成する方法が、特公昭４７−２６
３３６号公報に開示されている。しかしながら、この場
合には、ガラスの軟化温度と溶融温度範囲内にて行々う
熱処理により、２つのコアーのフロントギャップ構成面
間において、全部のガラスが軟化してしまう為に、全面
均一密着が雛かしく、又、ギャップ精度バラツキを少な
く出来力いという欠点があり、又、高速スパッタ法（マ
グネトロン・スパッタ法等）によってガラス層を形成し
た場合には、ガラス層内、又は表面に気泡が発生し、強
度上の問題或いは、磁気ヘッドとして使用中に磁気記録
媒体の破片が気泡内に侵入し、特性劣化の原因と外るな
どの問題が発生した。
ェライトコアーのフロントギャップ構成面にガラス材を
スパッタリングにより膜厚の合計が所定のギヤツブ巾に
等しくなるように付着せしめ、前記両コアーをそのフロ
ントギャップ構成面が前記ガラス層を介して対向する様
に圧接せしめた後、前記ガラスの軟化温度と溶融温度範
囲内にてギャップを形成する方法が、特公昭４７−２６
３３６号公報に開示されている。しかしながら、この場
合には、ガラスの軟化温度と溶融温度範囲内にて行々う
熱処理により、２つのコアーのフロントギャップ構成面
間において、全部のガラスが軟化してしまう為に、全面
均一密着が雛かしく、又、ギャップ精度バラツキを少な
く出来力いという欠点があり、又、高速スパッタ法（マ
グネトロン・スパッタ法等）によってガラス層を形成し
た場合には、ガラス層内、又は表面に気泡が発生し、強
度上の問題或いは、磁気ヘッドとして使用中に磁気記録
媒体の破片が気泡内に侵入し、特性劣化の原因と外るな
どの問題が発生した。
後者の問題は、特に、ビデオヘッドに比較してギャップ
長の広いフロッピーディスク或いはハードディスク用ヘ
ッドの製造には、生産性の面から考えて、高速スパッタ
法の適用が不可欠であり、それに伴ないガラス層内、又
は表面に気泡が発生する卯１合が急激に多くなるために
、実用上解決をしなければならない重要問題であると考
え、発明者等は、鉛量検討を重ね、本発明に至ったもの
である。
長の広いフロッピーディスク或いはハードディスク用ヘ
ッドの製造には、生産性の面から考えて、高速スパッタ
法の適用が不可欠であり、それに伴ないガラス層内、又
は表面に気泡が発生する卯１合が急激に多くなるために
、実用上解決をしなければならない重要問題であると考
え、発明者等は、鉛量検討を重ね、本発明に至ったもの
である。
本発明者等は、上記気泡が、高速スパッタ時のガラス層
内に吸蔵されたＡｒがガラス層同志の熱圧着接合の為の
熱処理の際に、接合後ガラス層内、又は表面の気泡を形
成することによるものであることを確認し、本発明をな
すに至ったものである。
内に吸蔵されたＡｒがガラス層同志の熱圧着接合の為の
熱処理の際に、接合後ガラス層内、又は表面の気泡を形
成することによるものであることを確認し、本発明をな
すに至ったものである。
本発明は、接合後ギャップ部に気泡がなく、高精度かつ
高信頼性を付与したギャップ形成を可能にした磁気ヘッ
ドの製造方法を提供するものである０ 〔問題点を解決するための手段〕 本発明においては、磁気ヘッドのギャップを構成する２
個の組立片のギャップ構成面に第１層として、Ｓｔ Ｏ
ｘ膜を、第２層として、ガラス膜を高速スパッタ法によ
りｌ１ｆｆ１次形成し、この後、脱Ａｒのだめの熱処理
を第２層ガラスの軟化温度乃至９５０℃の間の温度で１
５分乃至１時間桁々りた後に、前記組立片の互いに組合
せられるべきギャップ構成面同志を対向させて重ね合わ
せ、加圧しながら加熱する事により、２個の組立片の第
２層とじて、６ のガラス膜同志を接合すると共に、ギャップ部の磁気記
録媒体と対向する面の反対側部分に補強ガラスを接合す
る。
高信頼性を付与したギャップ形成を可能にした磁気ヘッ
ドの製造方法を提供するものである０ 〔問題点を解決するための手段〕 本発明においては、磁気ヘッドのギャップを構成する２
個の組立片のギャップ構成面に第１層として、Ｓｔ Ｏ
ｘ膜を、第２層として、ガラス膜を高速スパッタ法によ
りｌ１ｆｆ１次形成し、この後、脱Ａｒのだめの熱処理
を第２層ガラスの軟化温度乃至９５０℃の間の温度で１
５分乃至１時間桁々りた後に、前記組立片の互いに組合
せられるべきギャップ構成面同志を対向させて重ね合わ
せ、加圧しながら加熱する事により、２個の組立片の第
２層とじて、６ のガラス膜同志を接合すると共に、ギャップ部の磁気記
録媒体と対向する面の反対側部分に補強ガラスを接合す
る。
Ｓｔ ０２膜とガラス膜との膜厚比は１０：１乃至１０
：４が適当である。
：４が適当である。
本発明者等の検討に依れば、高速スパッタ時にガラス膜
、或いはＳｔ Ｃｈ膜に取り込まれるＡｒは、ガラス膜
＋ ＳＩ Ｏ２膜を加熱することにより放出されるが、
磁気ヘッドとして実用上差しつかえがない程度まで放出
させるためには、スパッタ後、ガラス膜同志の接合工程
前に、第２層のガラス軟化温度乃至９５０℃の間、好オ
しくは、第２層ガラスの軟化温度より１００℃高い温度
乃至８７０℃の間で、１５分乃至１時間、加熱すれば良
いことが判かった。
、或いはＳｔ Ｃｈ膜に取り込まれるＡｒは、ガラス膜
＋ ＳＩ Ｏ２膜を加熱することにより放出されるが、
磁気ヘッドとして実用上差しつかえがない程度まで放出
させるためには、スパッタ後、ガラス膜同志の接合工程
前に、第２層のガラス軟化温度乃至９５０℃の間、好オ
しくは、第２層ガラスの軟化温度より１００℃高い温度
乃至８７０℃の間で、１５分乃至１時間、加熱すれば良
いことが判かった。
スパッタ膜をＳｔ Ｏｘ膜である第１層と、ガラス膜で
ある第２層との複合層とした理由は、次の通りである。
ある第２層との複合層とした理由は、次の通りである。
即ち、スパッタ膜をガラス膜のみとした場合に、４ 。
は、前記脱Ａｒ熱処理の際に、ガラス膜が軟化し、ガラ
ス膜接合熱処理の前に既に膜厚の均一性が失なわれて、
ガラス膜接合後のギャップ長目標値に対する実際製品の
ギャップ長バラツキが多くなってしまうことから、８１
０２膜とガラス膜の２層構造にする必要があるからであ
る。又、この様な２層構造にすることにより、ガラス膜
同志の接合熱処理の際に、ギャップ長が目標値通りであ
り、バラツキが少なく、又、ギャップ部分の接合強度が
大きくなる。
ス膜接合熱処理の前に既に膜厚の均一性が失なわれて、
ガラス膜接合後のギャップ長目標値に対する実際製品の
ギャップ長バラツキが多くなってしまうことから、８１
０２膜とガラス膜の２層構造にする必要があるからであ
る。又、この様な２層構造にすることにより、ガラス膜
同志の接合熱処理の際に、ギャップ長が目標値通りであ
り、バラツキが少なく、又、ギャップ部分の接合強度が
大きくなる。
次に、本発明の実施例について説明する。
第１図に示すように、フェライトコア１１，１２に、各
々ＳｉＯｇ膜４．およびガラス膜５を順次マグネトロン
・スパッタ法により形成する。２μｍのギャップ長に対
して、５ｉ０２膜は８０００Ａ 、ガラス膜は２００Ｏ
Ａの厚さに形成した。これらフェライトコア１１，１２
を互いにつきあわせ、補強ガラス６をセットして、８５
０℃においてフェライトコア１１゜１２を圧着しながら
加熱することによって、磁気ヘッドのギャップを形成し
た。第２図に、接着に用いたガラス膜５のガラスと、補
強ガラス６との粘性特性を示した。このように粘性の違
うガラスを用いることに依り、特に、補強ガラス６とし
て、ガラス膜５よりも圧着加熱温度において、粘度の高
いガラスを用いることにより、エイペックス部分のガラ
スの反応を抑えるのに有効であった○第６図に従来法、
即ち、ガラス膜５と補強ガラス６とに同一のガラスを用
いた場合のエイペックス部分のギャップ形成後の図を（
ｂ）として、又、本実施例によるものを（ａ）として部
分概略図を示しだ。
々ＳｉＯｇ膜４．およびガラス膜５を順次マグネトロン
・スパッタ法により形成する。２μｍのギャップ長に対
して、５ｉ０２膜は８０００Ａ 、ガラス膜は２００Ｏ
Ａの厚さに形成した。これらフェライトコア１１，１２
を互いにつきあわせ、補強ガラス６をセットして、８５
０℃においてフェライトコア１１゜１２を圧着しながら
加熱することによって、磁気ヘッドのギャップを形成し
た。第２図に、接着に用いたガラス膜５のガラスと、補
強ガラス６との粘性特性を示した。このように粘性の違
うガラスを用いることに依り、特に、補強ガラス６とし
て、ガラス膜５よりも圧着加熱温度において、粘度の高
いガラスを用いることにより、エイペックス部分のガラ
スの反応を抑えるのに有効であった○第６図に従来法、
即ち、ガラス膜５と補強ガラス６とに同一のガラスを用
いた場合のエイペックス部分のギャップ形成後の図を（
ｂ）として、又、本実施例によるものを（ａ）として部
分概略図を示しだ。
第４図は、８１０２膜４とガラス膜６との膜厚の和に対
するガラス膜６の比率ｔｇｌａｓｓ ／ （ｔｇｌａｓ
ｓ ＋ｔｓｉｏ２）に対して、目標ギャップ長に対する
ギャップ長不良の比率がどの様に依存するかを示した図
である。
するガラス膜６の比率ｔｇｌａｓｓ ／ （ｔｇｌａｓ
ｓ ＋ｔｓｉｏ２）に対して、目標ギャップ長に対する
ギャップ長不良の比率がどの様に依存するかを示した図
である。
ｔｇｌａｓｓ／ ｔｇｌａｓｓ ＋ ｔｓｉｏ２が、約
０．４までの所でバラツキ少なくギャップ形成が出来る
。
０．４までの所でバラツキ少なくギャップ形成が出来る
。
第５図は、ｔｇｌａｓｓ／１ｇ１ａｓｓ ＋ ｔｓｉｏ
２に対して、ギャップ強度がどのように依存するかを示
したものである。ｔｇｌａｓｓ ７１ｇ１ａｓｓ ＋
ｔｓｉｏ２が約０．１以上の所で、従来方法によるより
も、強度の大きいギャップ形成をなし得る。
２に対して、ギャップ強度がどのように依存するかを示
したものである。ｔｇｌａｓｓ ７１ｇ１ａｓｓ ＋
ｔｓｉｏ２が約０．１以上の所で、従来方法によるより
も、強度の大きいギャップ形成をなし得る。
以上から分かる様に、ｔｇｌａｓｓ／１ｇ１ａｓｓ ＋
ｔｓｉｏ２が０．１〜０．４の範囲で、精度９強度と
もに従来よりも秀れたギャップ形成が可能である。表１
は、光学ギャップ長と、実効ギャップ長との差が従来法
に比較して、いかに改善されるかを比較したものであ〔
発明の効果〕 以上、説明した様に、本発明に依れば、従来法よりも高
強度、高精度のギャップ形成がノ（ラツキ少なく得られ
るという効果がある。
ｔｓｉｏ２が０．１〜０．４の範囲で、精度９強度と
もに従来よりも秀れたギャップ形成が可能である。表１
は、光学ギャップ長と、実効ギャップ長との差が従来法
に比較して、いかに改善されるかを比較したものであ〔
発明の効果〕 以上、説明した様に、本発明に依れば、従来法よりも高
強度、高精度のギャップ形成がノ（ラツキ少なく得られ
るという効果がある。
第１図は、本発明によるギャップ形成工程図。
第２図は、接着ガラスと補強ガラスの粘性特性を、７
。 示す図、第６図は、エアペックス部概略図、第４図、第
５図は、各々第２ガラス層厚さと不良率。 強度の関係を示す図である。 １１ 、１２−：フエライトコア、 ４ ： Ｓｔ ０
２膜。 ５ニガラス膜、６：補強ガラス。 、８ 。 第 ｌ 図 →Ｔ
。 示す図、第６図は、エアペックス部概略図、第４図、第
５図は、各々第２ガラス層厚さと不良率。 強度の関係を示す図である。 １１ 、１２−：フエライトコア、 ４ ： Ｓｔ ０
２膜。 ５ニガラス膜、６：補強ガラス。 、８ 。 第 ｌ 図 →Ｔ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、磁気ヘッドのギャップを構成する組立片のギャップ
構成面の各々に、第１層としてＳｉＯ＿２膜を、第２層
としてガラス膜を高速スパッタ法により順次形成し、前
記組立片の互いに組合せられるべきギャップ構成面同志
を対向させて重ね合わせ、加圧しながら加熱することに
より、前記２個の組立片の第２層であるガラス膜同志を
接合すると共に、ギャップ部の磁気記録媒体と対向する
面の反対側部分に補強ガラスを接合するものにおいて、
スパッタ後、ガラス膜同志の接合工程の前に、該第２層
ガラスの軟化温度乃至９５０℃の間の温度で、１５分乃
至１時間スパッタによりＳｉＯ＿２膜及びガラス膜中に
入りこんだＡｒを放出させる熱処理を施こすことを特徴
とする磁気ヘッドの製造方法。 ２、Ａｒを放出させる熱処理が、ガラス膜の軟化温度よ
り１００℃高い温度乃至８７０℃であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造方法。 ３、第１層と第２層の膜厚の比が、１０：１乃至１０：
４であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20524384A JPS6182305A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20524384A JPS6182305A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6182305A true JPS6182305A (ja) | 1986-04-25 |
| JPH0250524B2 JPH0250524B2 (ja) | 1990-11-02 |
Family
ID=16503765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20524384A Granted JPS6182305A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6182305A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5208971A (en) * | 1990-05-17 | 1993-05-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Process of manufacturing a magnetic head |
-
1984
- 1984-09-29 JP JP20524384A patent/JPS6182305A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5208971A (en) * | 1990-05-17 | 1993-05-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Process of manufacturing a magnetic head |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0250524B2 (ja) | 1990-11-02 |
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