JPS6292107A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS6292107A JPS6292107A JP23000085A JP23000085A JPS6292107A JP S6292107 A JPS6292107 A JP S6292107A JP 23000085 A JP23000085 A JP 23000085A JP 23000085 A JP23000085 A JP 23000085A JP S6292107 A JPS6292107 A JP S6292107A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- cores
- thin film
- core
- magnetic thin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 5
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 abstract description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 abstract description 3
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 abstract 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- 229910020018 Nb Zr Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気ヘッド特にフロッピーディスク装置用な
どの磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
どの磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
従来の70ツピーデイスク装置用磁気へ・7ドとしては
、主として7エライトヘツドが用いられていたが、近年
の磁気記録の高密度化にイ1゛ない媒体の保磁力(He
)が大きくなる方向に進んでいる。これに伴なって磁
気ヘッドは高飽和磁束密度化が要求されている。
、主として7エライトヘツドが用いられていたが、近年
の磁気記録の高密度化にイ1゛ない媒体の保磁力(He
)が大きくなる方向に進んでいる。これに伴なって磁
気ヘッドは高飽和磁束密度化が要求されている。
このため、磁気ヘッドの材料としてセンダストやCo系
7モル77ス材と71ライトとの複合したものの検討が
進められている。
7モル77ス材と71ライトとの複合したものの検討が
進められている。
このような複合ヘッドを製造するにあたって、従来は第
2図(a)に示すように、巻線を施すための溝1aを含
めて所定の形状に形成したフェライトよりなる一方のコ
ア(Cコア)担体1と他方のコア(■コア)担体2の突
き合わせ面の全面にCo−Nb−Zrの金属磁性薄膜3
.3をスパッタにより形成し、さらに前記コア担体1、
2上にギャップ形成用の非磁性酸化物膜(例えば5iO
z)4.4をスパッタにより蒸着する。
2図(a)に示すように、巻線を施すための溝1aを含
めて所定の形状に形成したフェライトよりなる一方のコ
ア(Cコア)担体1と他方のコア(■コア)担体2の突
き合わせ面の全面にCo−Nb−Zrの金属磁性薄膜3
.3をスパッタにより形成し、さらに前記コア担体1、
2上にギャップ形成用の非磁性酸化物膜(例えば5iO
z)4.4をスパッタにより蒸着する。
その後、第2図(b)に示すようにコア担体1.2を突
き合わせて組み立て、Cコア1の溝1a内にガラス棒(
図示せず)を挿入して熱処理を行ない、ガラス棒を溶融
してコア担体1.2を接合し、ガラス5により補強する
。
き合わせて組み立て、Cコア1の溝1a内にガラス棒(
図示せず)を挿入して熱処理を行ない、ガラス棒を溶融
してコア担体1.2を接合し、ガラス5により補強する
。
接合したコア担体1.2は高さ方向の加工や溝入れ等の
後加工を行ない、さらにチップスライスした後最後に仕
上げラッピングを行なうことにより磁気へラドチップの
形状とするのである。
後加工を行ない、さらにチップスライスした後最後に仕
上げラッピングを行なうことにより磁気へラドチップの
形状とするのである。
しかしながら、このような工程により製造した複合ヘッ
ドは、接合後の加工時に接合したコアが接合部(ギャッ
プ部)より剥離するという問題点が発生する。
ドは、接合後の加工時に接合したコアが接合部(ギャッ
プ部)より剥離するという問題点が発生する。
これは、ガラスによる補強が十分でないためである。
本発明は、上記問題点を解決し、接合後の加工において
も剥離が発生することのない磁気ヘッドの製造方法を提
供することを目的とするものである。
も剥離が発生することのない磁気ヘッドの製造方法を提
供することを目的とするものである。
本発明者らは、上記問題点の原因が、接合用ガラスと金
属磁性薄膜との開のぬれ性が悪いためではないかと考え
、以下に示す方法により上記問題点を解決した。
属磁性薄膜との開のぬれ性が悪いためではないかと考え
、以下に示す方法により上記問題点を解決した。
すなわち、第1図(a) 、(b)に示すように、磁性
体コア1.2に金属磁性薄膜3を形成する工程において
、ギャップ形成部以外をマスクした状態で金属磁性材を
スパ2りし、ギャップ部のみに金属磁性WiM3を形成
する。
体コア1.2に金属磁性薄膜3を形成する工程において
、ギャップ形成部以外をマスクした状態で金属磁性材を
スパ2りし、ギャップ部のみに金属磁性WiM3を形成
する。
以後、前記従来方法と同様に、突き合わせ面にギャップ
形成ガラス4をスパッタにより蒸着し、コア1.2を突
き合わた後溝1a内にガラス棒を挿入し、熱処理してガ
ラス棒を溶融し、ガラス5を充填して接合と補強とを行
ない、さらに加工を行なうのである。
形成ガラス4をスパッタにより蒸着し、コア1.2を突
き合わた後溝1a内にガラス棒を挿入し、熱処理してガ
ラス棒を溶融し、ガラス5を充填して接合と補強とを行
ない、さらに加工を行なうのである。
コア1.2は金属磁性薄膜の影響を受けることなく、ガ
ラス5を介して直接補強されるので、従来のものに比し
てより高い接合強度が得られ、後加工においても剥離の
発生が少ない。
ラス5を介して直接補強されるので、従来のものに比し
てより高い接合強度が得られ、後加工においても剥離の
発生が少ない。
なお、金属磁性薄膜はギャップ部のみでなく、ギャップ
部より突き合わせ面の奥側に若干はみ出しても、補強ガ
ラス材の充填部分の半分以下であれば、剥離防止に効果
を有するものである。
部より突き合わせ面の奥側に若干はみ出しても、補強ガ
ラス材の充填部分の半分以下であれば、剥離防止に効果
を有するものである。
本発明における具体的実施例を以下1:示す。
(実施例1)
まず、r53図に示すように、ギャップ対向面を鏡面仕
上げしたM n Z r 7エライトコア1.2の表面
にCo系非晶質磁性薄膜3を形成する。
上げしたM n Z r 7エライトコア1.2の表面
にCo系非晶質磁性薄膜3を形成する。
この例においては、この膜形成にスパッタ法を適用した
。すなわち、所定のコア1.2をスパッタ装置内に配置
しlXl0−5Paまで真空に引き、その後、コア1.
2の表面清浄のためにI×10°P11*でArffス
を導入してスパッタエツチングを5分程度行なった。
。すなわち、所定のコア1.2をスパッタ装置内に配置
しlXl0−5Paまで真空に引き、その後、コア1.
2の表面清浄のためにI×10°P11*でArffス
を導入してスパッタエツチングを5分程度行なった。
次に2X10−’PaまでArffス圧を減圧し、形成
する磁性薄膜3の組成とほぼ同等の組成を有するターデ
ッドを用いスパッタを行なった。
する磁性薄膜3の組成とほぼ同等の組成を有するターデ
ッドを用いスパッタを行なった。
本実施例においては、磁性薄膜3の形成形状と加工時の
歩留まりを比較するために、マスクスパッタを行ない、
a)ギャップ対向面のみに膜付けしたもの、b)補強の
ためのガラスを充填したときにその充填部約半分程度ま
で膜が付着するようにしたもの、C)マスクスパッタを
行なわず全面に膜形成したものの3種類の方法で磁性薄
wX3の形成を行なった。
歩留まりを比較するために、マスクスパッタを行ない、
a)ギャップ対向面のみに膜付けしたもの、b)補強の
ためのガラスを充填したときにその充填部約半分程度ま
で膜が付着するようにしたもの、C)マスクスパッタを
行なわず全面に膜形成したものの3種類の方法で磁性薄
wX3の形成を行なった。
また、ここで使用した磁性体コア1.2は、あらかじめ
トラック幅Tl1lの両わきに溝6を配置しガラス5に
よる補強を容易にした型のものを用いた。
トラック幅Tl1lの両わきに溝6を配置しガラス5に
よる補強を容易にした型のものを用いた。
磁性薄膜3の形成が完了したコア1.2は、同様のスパ
ッタ装置を用いギャップ部を5i02等のキャップ成形
材4で形成した後、互いのコア1.2を突き合わせて組
み立て、さらに巻線のための溝部にガラス棒を配置して
熱処理を行ない、ガラス5を充填し接合した。
ッタ装置を用いギャップ部を5i02等のキャップ成形
材4で形成した後、互いのコア1.2を突き合わせて組
み立て、さらに巻線のための溝部にガラス棒を配置して
熱処理を行ない、ガラス5を充填し接合した。
この接合においてヘッドが非晶質磁性薄膜を用いている
ため、その磁気特性を保持するため、軟化点350℃で
熱膨張係数が7エライトコアとほぼ等しい値のガラスを
用い、約450℃で30分の保持を行ない接合を行なっ
た。
ため、その磁気特性を保持するため、軟化点350℃で
熱膨張係数が7エライトコアとほぼ等しい値のガラスを
用い、約450℃で30分の保持を行ない接合を行なっ
た。
その後、これらの接合コアを加工しヘッドチップの形状
にしたが、その歩留まりは第1表のようになった。
にしたが、その歩留まりは第1表のようになった。
第1表
(実施例2)
同様の工程にて、第4図に示すヘッドチップの製造を行
なった結果は第2表のようになった。
なった結果は第2表のようになった。
第 2 表
〔発明の効果〕
上述のように本発明によれば、コアの接合強度が向上し
て加工時の剥離不良の発生が減少し、歩留まりが者しく
向上する等の効果を奏するものである。
て加工時の剥離不良の発生が減少し、歩留まりが者しく
向上する等の効果を奏するものである。
第1図(a) 、(b)は本発明の一実施例を示す側面
図、第2図(a) 、(b)は従来方法を示す側面図で
、いずれも (a)はコア接合前を、(b)はコア接合
後を示す、第3図、第4図はともに本発明方法によって
製造した磁気ヘッドの例を示す斜視図である。 1:Cコア、 1a :溝、 2 : I:17.
3 :金属磁性薄膜、 4 :非磁性酸化物膜(ガラ
ス膜)、 5 ニガラス 代理人 弁理士 本 間 崇v−1図 1:Cコア 3:金属磁性薄膜 ノ。: 溝 4:非磁性筒Uヒ@膜(がラス服)
2、Iコア 6:カ゛う人 ′#−2図 第 3 @ 第 4 図手続補正書(自
制 昭和6Q年12月27日
図、第2図(a) 、(b)は従来方法を示す側面図で
、いずれも (a)はコア接合前を、(b)はコア接合
後を示す、第3図、第4図はともに本発明方法によって
製造した磁気ヘッドの例を示す斜視図である。 1:Cコア、 1a :溝、 2 : I:17.
3 :金属磁性薄膜、 4 :非磁性酸化物膜(ガラ
ス膜)、 5 ニガラス 代理人 弁理士 本 間 崇v−1図 1:Cコア 3:金属磁性薄膜 ノ。: 溝 4:非磁性筒Uヒ@膜(がラス服)
2、Iコア 6:カ゛う人 ′#−2図 第 3 @ 第 4 図手続補正書(自
制 昭和6Q年12月27日
Claims (2)
- (1)一組のコアを突き合わせて接合する段階において
、少なくとも一方のコアの突き合わせ面のうちの磁気ギ
ャップ部または該磁気ギャップ部とその近傍に金属磁性
薄膜を形成した後、前記突き合わせ面間および少なくと
も一方のコアに形成した溝内にガラス材を充填し、前記
一組のコアを接合することを特徴とする磁気ヘッドの製
造方法。 - (2)磁気ギャップ部と、コアの溝内のガラス材充填部
の半分以下の前記磁気ギャップ部に連なる部分に金属磁
性薄膜を形成することを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23000085A JPS6292107A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23000085A JPS6292107A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6292107A true JPS6292107A (ja) | 1987-04-27 |
Family
ID=16901028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23000085A Pending JPS6292107A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6292107A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0294006A (ja) * | 1988-09-29 | 1990-04-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッドの製造方法 |
-
1985
- 1985-10-17 JP JP23000085A patent/JPS6292107A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0294006A (ja) * | 1988-09-29 | 1990-04-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッドの製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0258714A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS6292107A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS62102407A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS62209705A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0656645B2 (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS6161212A (ja) | 磁気ヘツドコアの製造方法 | |
| JPS6231009A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JP2974372B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0191311A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0354704A (ja) | 磁気ヘッドとその製造方法 | |
| JPH0349126B2 (ja) | ||
| JPH05151516A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH03222109A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS63306505A (ja) | 複合型磁気ヘッド用コアの製造法 | |
| JPH0448416A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS6050608A (ja) | 磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JPH0340205A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS62102403A (ja) | 磁気ヘツドコア | |
| JPS62273614A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS6251009A (ja) | 磁気コアおよびその製造方法 | |
| JPH0383207A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0476168B2 (ja) | ||
| JPH0883406A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH03238605A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS62243105A (ja) | 磁気ヘツドチツプ |