JPS6184370A - スパツタ源用シヤツタ板開閉位置検出付シヤツタ機構 - Google Patents
スパツタ源用シヤツタ板開閉位置検出付シヤツタ機構Info
- Publication number
- JPS6184370A JPS6184370A JP20529984A JP20529984A JPS6184370A JP S6184370 A JPS6184370 A JP S6184370A JP 20529984 A JP20529984 A JP 20529984A JP 20529984 A JP20529984 A JP 20529984A JP S6184370 A JPS6184370 A JP S6184370A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- open
- shutter plate
- source
- plate
- shutter mechanism
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- Pending
Links
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
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- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明はス・e7タ源用シャ、り板の開閉位置検出付シ
ャッタ機構に関するものである。
ャッタ機構に関するものである。
(従来の技術)
従来のス・ぞ、タ源用ンヤッタ板開閉位置検出付ンヤッ
タ機構は第2図に示す様に、PL空槽の一壁面1aのT
h’ ?−41111にス・eワタ源2を有し、該ス・
ぐツタ源にノリコン・ウエノ・−3が真空槽内のシリコ
ン・ウニ・・−保持部4によって対向させられ、大気側
からの位置検出機能付駆動部5が真空に影響ヲ与工ない
マグネット・フィード・スルー6を通して/ヤッタ板7
に連結され、駆動部5にでマダイ・ット・フィード・ス
ルー6の軸を回転の中心にしてシャッタ板7を開閉する
ようになっていた。
タ機構は第2図に示す様に、PL空槽の一壁面1aのT
h’ ?−41111にス・eワタ源2を有し、該ス・
ぐツタ源にノリコン・ウエノ・−3が真空槽内のシリコ
ン・ウニ・・−保持部4によって対向させられ、大気側
からの位置検出機能付駆動部5が真空に影響ヲ与工ない
マグネット・フィード・スルー6を通して/ヤッタ板7
に連結され、駆動部5にでマダイ・ット・フィード・ス
ルー6の軸を回転の中心にしてシャッタ板7を開閉する
ようになっていた。
(発明が解決しようとする問題点)
/ヤッタ板閉の状態で7ヤツタ板のス・eツタ源側の面
に多量に成膜された場合に1d、シャッタ板の開閉位置
と位置検出機能付駆動部5の開閉の位置がマグネット・
フィード・スル一部で相対的にずれを生じ、あたかも正
常なンヤ、り板の開閉を行なっているような状況が生じ
る場合があった。
に多量に成膜された場合に1d、シャッタ板の開閉位置
と位置検出機能付駆動部5の開閉の位置がマグネット・
フィード・スル一部で相対的にずれを生じ、あたかも正
常なンヤ、り板の開閉を行なっているような状況が生じ
る場合があった。
この場合、シャッタ板が完全に開かない等により目標と
している成膜の分布が得られなくなシ、成膜径測定して
みないと判断出来ないという欠点があった。
している成膜の分布が得られなくなシ、成膜径測定して
みないと判断出来ないという欠点があった。
本発明は上記欠点を解消し、/ヤッタ板の開閉状態を直
接検出して即時的に知ることが出来ろス・ぞツタ源用ン
ヤッタ板開閉位置検出付/ヤッタ機構を提供するもので
あて、。
接検出して即時的に知ることが出来ろス・ぞツタ源用ン
ヤッタ板開閉位置検出付/ヤッタ機構を提供するもので
あて、。
(問題点を解決するだめの手段)
本発明は、真空槽に取付けたス・ぞツタ源と、該ス・ぞ
ツタ源に向き合うシリコン・ウエノ・−との間で開閉す
るシャッタ板を有するス・P7タ装置において、シャッ
タ板の開閉の両位置に、/ヤッタ板の有無を検出する各
々】幻の発光、受光フォト・センサの光路を設けたこと
を特徴とするス・七ツタ源用ンヤッタ板開閉位置検出付
ツヤツタ機構である。
ツタ源に向き合うシリコン・ウエノ・−との間で開閉す
るシャッタ板を有するス・P7タ装置において、シャッ
タ板の開閉の両位置に、/ヤッタ板の有無を検出する各
々】幻の発光、受光フォト・センサの光路を設けたこと
を特徴とするス・七ツタ源用ンヤッタ板開閉位置検出付
ツヤツタ機構である。
(実施例)
本発明の一実施例を図を用いて説明する。第1図におい
て、ンヤッタ板7が開の位置にきたとき同時にフォト・
センサの光路をさえぎる様に一対の開フォト・センサ発
光部】0及び開フォト・センサ受光部8を対向している
真空槽1a 、lbに各々真空を保てる様に固定し、同
様にンヤノタ板7が閉の位置にきたとき同時にフォト・
センサの光路をさえき゛る様に一対の閉フォト十ンヤ発
光部11及び閉フォト・セン→夕受光部9を月面してい
る真空槽Ia、lbに各々貫空を保てる様に16“1定
し、開閉位置のフォ1センザに1す/ヤッタ板の開閉状
態を重接検出する。その他の構成は従来と同じであイ)
。
て、ンヤッタ板7が開の位置にきたとき同時にフォト・
センサの光路をさえぎる様に一対の開フォト・センサ発
光部】0及び開フォト・センサ受光部8を対向している
真空槽1a 、lbに各々真空を保てる様に固定し、同
様にンヤノタ板7が閉の位置にきたとき同時にフォト・
センサの光路をさえき゛る様に一対の閉フォト十ンヤ発
光部11及び閉フォト・セン→夕受光部9を月面してい
る真空槽Ia、lbに各々貫空を保てる様に16“1定
し、開閉位置のフォ1センザに1す/ヤッタ板の開閉状
態を重接検出する。その他の構成は従来と同じであイ)
。
(発明の効果)
本発明は1ソ、」二説明したように、/ヤッタ板の開閉
状態をフメトセンザにて検出するようにしたので、/ヤ
、り板が不完全に開閉している状態でシリコン・ウェハ
にス・P7タが11なわれるのを防d=でき、シャッタ
板開閉による正常な成膜を行なうことができ4ン効果を
有するものである。
状態をフメトセンザにて検出するようにしたので、/ヤ
、り板が不完全に開閉している状態でシリコン・ウェハ
にス・P7タが11なわれるのを防d=でき、シャッタ
板開閉による正常な成膜を行なうことができ4ン効果を
有するものである。
第1図は本発明の一実施例を示す斜視図、第2図は従来
の/ヤ、り板開閉を示す8−1祝図である。 la・・・直空槽壁、lb・・・直空槽壁、2・・・ス
・Pワタ源、:+・ シリコン・ウェハー、4・・・シ
リコン・ウェー・−保持部、5・・・位置検出機能付駆
動部、6・・・マグネット・フィード・スルー、7・・
/ヤ、り板、8・・開フォト士ンサ受光部、9・・・閉
フォトセンサ受光部、 10・・・開フォトセンサ発
光部、11・・・閉フォトセンサ発光部。
の/ヤ、り板開閉を示す8−1祝図である。 la・・・直空槽壁、lb・・・直空槽壁、2・・・ス
・Pワタ源、:+・ シリコン・ウェハー、4・・・シ
リコン・ウェー・−保持部、5・・・位置検出機能付駆
動部、6・・・マグネット・フィード・スルー、7・・
/ヤ、り板、8・・開フォト士ンサ受光部、9・・・閉
フォトセンサ受光部、 10・・・開フォトセンサ発
光部、11・・・閉フォトセンサ発光部。
Claims (1)
- (1)真空槽内に取付けたスパッタ源と、該スパッタ源
に対向して保持されるシリコン・ウェハーとの間で成膜
の妨げにならない開位置と成膜の妨げになる閉位置とに
可動するシャッタ板を有するスパッタ装置において、該
シャッタ板開閉の両位置に、シャッタ板の有無を検出す
る各々1対の発光、受光フォトセンサの光路を設けたこ
とを特徴とするスパッタ源用シャッタ板開閉位置検出付
シャッタ機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20529984A JPS6184370A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | スパツタ源用シヤツタ板開閉位置検出付シヤツタ機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20529984A JPS6184370A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | スパツタ源用シヤツタ板開閉位置検出付シヤツタ機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6184370A true JPS6184370A (ja) | 1986-04-28 |
Family
ID=16504662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20529984A Pending JPS6184370A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | スパツタ源用シヤツタ板開閉位置検出付シヤツタ機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6184370A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6333562A (ja) * | 1986-07-24 | 1988-02-13 | Tokyo Electron Ltd | スパツタ装置 |
| US4942063A (en) * | 1989-04-20 | 1990-07-17 | North American Philips Corporation | Method for controlling the thickness distribution of an interference filter |
| US4982695A (en) * | 1989-04-20 | 1991-01-08 | North American Philips Corporation | Method and apparatus for controlling the thickness distribution of an interference filter |
| US6827825B2 (en) * | 2002-02-20 | 2004-12-07 | Applied Materials, Inc. | Method for detecting the position of a shutter disk in a physical vapor deposition chamber |
| CN104746034A (zh) * | 2013-12-31 | 2015-07-01 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | Pvd腔室遮挡盘检测装置和pvd腔室 |
-
1984
- 1984-09-29 JP JP20529984A patent/JPS6184370A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6333562A (ja) * | 1986-07-24 | 1988-02-13 | Tokyo Electron Ltd | スパツタ装置 |
| US4942063A (en) * | 1989-04-20 | 1990-07-17 | North American Philips Corporation | Method for controlling the thickness distribution of an interference filter |
| US4982695A (en) * | 1989-04-20 | 1991-01-08 | North American Philips Corporation | Method and apparatus for controlling the thickness distribution of an interference filter |
| US6827825B2 (en) * | 2002-02-20 | 2004-12-07 | Applied Materials, Inc. | Method for detecting the position of a shutter disk in a physical vapor deposition chamber |
| CN104746034A (zh) * | 2013-12-31 | 2015-07-01 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | Pvd腔室遮挡盘检测装置和pvd腔室 |
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