JPH0723899Y2 - 基板検出装置 - Google Patents
基板検出装置Info
- Publication number
- JPH0723899Y2 JPH0723899Y2 JP1986073417U JP7341786U JPH0723899Y2 JP H0723899 Y2 JPH0723899 Y2 JP H0723899Y2 JP 1986073417 U JP1986073417 U JP 1986073417U JP 7341786 U JP7341786 U JP 7341786U JP H0723899 Y2 JPH0723899 Y2 JP H0723899Y2
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Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 69
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims description 9
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 5
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、例えばイオン注入装置等に用いられて、基
板を保持するホルダ上の基板の有無を検出する基板検出
装置に関する。
板を保持するホルダ上の基板の有無を検出する基板検出
装置に関する。
第3図はイオン注入装置のホルダ回りの一例を部分的に
示す平面図であり、第4図は第3図の線IV−IVに沿う概
略断面図である。例えばイオン注入装置のエンドステー
ションに設けられた真空容器(図示省略)内に、回転軸
4に取り付けられたホルダ(この場合はプラテンとも呼
ぶ)6が設けられており、回転軸4の矢印Aのような回
転によって当該ホルダ6は、例えば第4図の実線で示す
ような基板着脱位置(例えば水平位置)と、2点鎖線で
示すような基板処理位置(例えば起立位置)とに回転さ
せられる。またホルダ6の上面には、保持する基板(例
えばウエハ)2にほぼ対応する大きさの開口8aを有して
いて上下動可能な押え板(クランパーとも呼ぶ)8が設
けられており、これによって基板2はホルダ6上に押圧
保持される。10は基板2着脱用の搬送ベルトである。
示す平面図であり、第4図は第3図の線IV−IVに沿う概
略断面図である。例えばイオン注入装置のエンドステー
ションに設けられた真空容器(図示省略)内に、回転軸
4に取り付けられたホルダ(この場合はプラテンとも呼
ぶ)6が設けられており、回転軸4の矢印Aのような回
転によって当該ホルダ6は、例えば第4図の実線で示す
ような基板着脱位置(例えば水平位置)と、2点鎖線で
示すような基板処理位置(例えば起立位置)とに回転さ
せられる。またホルダ6の上面には、保持する基板(例
えばウエハ)2にほぼ対応する大きさの開口8aを有して
いて上下動可能な押え板(クランパーとも呼ぶ)8が設
けられており、これによって基板2はホルダ6上に押圧
保持される。10は基板2着脱用の搬送ベルトである。
そして、基板着脱位置においてホルダ6に対する基板2
の着脱、即ち例えば第3図矢印Bのような基板2の搬出
入が行われ、基板処理位置においてホルダ6上の基板2
に対してイオンビーム12が照射されてイオン注入が行わ
れる。
の着脱、即ち例えば第3図矢印Bのような基板2の搬出
入が行われ、基板処理位置においてホルダ6上の基板2
に対してイオンビーム12が照射されてイオン注入が行わ
れる。
その場合、上記のような制御等を行うに当っては、従来
は、ホルダ6の手前側に設けられた反射式の光センサ14
aによって基板2の搬入を、ホルダ6の向う側に設けら
れた反射式の光センサ14bによって基板2の搬出を検出
し、これに基づいてシーケンス制御を行っていた。
は、ホルダ6の手前側に設けられた反射式の光センサ14
aによって基板2の搬入を、ホルダ6の向う側に設けら
れた反射式の光センサ14bによって基板2の搬出を検出
し、これに基づいてシーケンス制御を行っていた。
しかしながら、上記光センサ14a、14bはホルダ6上に基
板2が有るか否かを検出していないめ、当該センサ14
a、14b等の誤動作時に基板2の搬送エラーをする恐れが
あった。また、初期状態の時になんらかの理由でホルダ
6上に既に基板2が保持されている場合、それを検出す
ることができないため当該ホルダ6に対して更に基板2
のは行われ、その結果基板2の2枚重ねが起こる恐れも
あった。
板2が有るか否かを検出していないめ、当該センサ14
a、14b等の誤動作時に基板2の搬送エラーをする恐れが
あった。また、初期状態の時になんらかの理由でホルダ
6上に既に基板2が保持されている場合、それを検出す
ることができないため当該ホルダ6に対して更に基板2
のは行われ、その結果基板2の2枚重ねが起こる恐れも
あった。
そこでこの考案は、ホルダ上の基板の有無を検出するこ
とができる基板検出装置を提供することを主たる目的と
する。
とができる基板検出装置を提供することを主たる目的と
する。
この考案の基板検出装置は、ホルダの基板保持部分に設
けられた貫通穴であってイオンビームが当該貫通穴を通
してホルダの裏面側へ通過しないように傾斜して設けら
れたものと、発光器と受光器の組み合わせから成る光セ
ンサであって発光器からの光がホルダの貫通穴を通過し
て受光器に入射可能なように配置されたものとを備える
ことを特徴とする。
けられた貫通穴であってイオンビームが当該貫通穴を通
してホルダの裏面側へ通過しないように傾斜して設けら
れたものと、発光器と受光器の組み合わせから成る光セ
ンサであって発光器からの光がホルダの貫通穴を通過し
て受光器に入射可能なように配置されたものとを備える
ことを特徴とする。
ホルダ上に基板が搬入されると、当該基板の存在によっ
て、発光器からの光が受光器に入射する状態が変化し、
それによって基板の有無が検出される。
て、発光器からの光が受光器に入射する状態が変化し、
それによって基板の有無が検出される。
第1図は、この考案の一実施例に係る基板検出装置を示
す概略断面図である。第2図は、第1図の線II−IIに沿
う概略断面図であり、押え板の図示は省略している。第
3図および第4図と同一または同等部分には同一符号を
付してその説明を省略する。
す概略断面図である。第2図は、第1図の線II−IIに沿
う概略断面図であり、押え板の図示は省略している。第
3図および第4図と同一または同等部分には同一符号を
付してその説明を省略する。
この実施例の基板検出装置は、前述したようなホルダ6
の基板2保持部分に設けられた貫通穴16であって、イオ
ンビーム12が当該貫通穴16を通してホルダ6の裏面側へ
通過しないように角度θだけ傾斜して設けられたもの
と、発光器18aと受光器18bの組み合わせから成る光セン
サ18とを備えており、発光器18aを基板着脱位置にある
ホルダ6の下側であってその貫通穴16の延長線上に、受
光器18bを同ホルダ6の上部側方であってその貫通穴16
の延長線上であり、しかもホルダ6が起立するのに邪魔
にならない位置に設けて、発光器18aからの光20が貫通
穴16を通過して受光器18bに入射可能なように両者を対
向させている。
の基板2保持部分に設けられた貫通穴16であって、イオ
ンビーム12が当該貫通穴16を通してホルダ6の裏面側へ
通過しないように角度θだけ傾斜して設けられたもの
と、発光器18aと受光器18bの組み合わせから成る光セン
サ18とを備えており、発光器18aを基板着脱位置にある
ホルダ6の下側であってその貫通穴16の延長線上に、受
光器18bを同ホルダ6の上部側方であってその貫通穴16
の延長線上であり、しかもホルダ6が起立するのに邪魔
にならない位置に設けて、発光器18aからの光20が貫通
穴16を通過して受光器18bに入射可能なように両者を対
向させている。
従って、基板着脱位置にあるホルダ6上に基板2が搬入
されると、当該基板2の存在によって、発光器18aから
の光20が受光器18bに入射する状態が変化する。例え
ば、半導体基板(ウエハ)は一般的に不透明であるた
め、その場合は受光器18bに入射する光は遮られ、それ
によって基板2の有無が検出される。そして受光器18b
は、例えば、入射する光20が遮られた時は基板有の信号
を、光20が入射する時は基板無の信号を出力する。また
基板2が半透明の場合も、光センサ18の感度等をそれに
合わせて調節することにより、上記の場合とほぼ同様に
基板2の有無を検出することも可能である。
されると、当該基板2の存在によって、発光器18aから
の光20が受光器18bに入射する状態が変化する。例え
ば、半導体基板(ウエハ)は一般的に不透明であるた
め、その場合は受光器18bに入射する光は遮られ、それ
によって基板2の有無が検出される。そして受光器18b
は、例えば、入射する光20が遮られた時は基板有の信号
を、光20が入射する時は基板無の信号を出力する。また
基板2が半透明の場合も、光センサ18の感度等をそれに
合わせて調節することにより、上記の場合とほぼ同様に
基板2の有無を検出することも可能である。
従って上記のような基板検出装置によれば、ホルダ6上
の基板2の有無を直接検出することができるため、従来
の場合と違って検出の信頼性が高く搬送エラーを防止す
ることができる。また初期状態で既にホルダ6上に基板
2が保持されていたとしても、従来の場合と違ってそれ
の検出が可能であるため、2枚重ねが起こるのを防止す
ることもできる。
の基板2の有無を直接検出することができるため、従来
の場合と違って検出の信頼性が高く搬送エラーを防止す
ることができる。また初期状態で既にホルダ6上に基板
2が保持されていたとしても、従来の場合と違ってそれ
の検出が可能であるため、2枚重ねが起こるのを防止す
ることもできる。
しかも、ホルダ6の貫通穴16が傾斜しているため、ホル
ダ6が基板処理位置(第1図中の2点鎖線参照)にある
ときに何らかの原因で基板無しでイオンビーム12が照射
されても、イオンビーム12は傾斜している貫通穴16の内
壁で阻止されてホルダ6の裏面側へは通過しないので、
ホルダ6の裏面側に設けられている他の機器への悪影響
が及ぶのを防止することができる。
ダ6が基板処理位置(第1図中の2点鎖線参照)にある
ときに何らかの原因で基板無しでイオンビーム12が照射
されても、イオンビーム12は傾斜している貫通穴16の内
壁で阻止されてホルダ6の裏面側へは通過しないので、
ホルダ6の裏面側に設けられている他の機器への悪影響
が及ぶのを防止することができる。
更に、角度θを基板2の厚みに応じたものとすれば、基
板2が透明の場合でもその有無を検出することができる
という効果も得られる。これは、光センサ18の光20が基
板2を透過するときは、屈折によって受光器18bに入射
する状態が基板2が無い場合から変化するためである。
しかもこの場合の光20としては、一般的な赤外、あるい
は赤色波長のものを用いることができる。例えば、基板
2が石英ガラスで厚さ0.5〜1.0mmの場合、角度θを0°
<θ<30°の範囲とすれば、当該基板2の有無が検出可
能であることが確かめられた。ちなみに、この角度θは
基板2の厚みが厚くなれば大きくても良い傾向にある。
板2が透明の場合でもその有無を検出することができる
という効果も得られる。これは、光センサ18の光20が基
板2を透過するときは、屈折によって受光器18bに入射
する状態が基板2が無い場合から変化するためである。
しかもこの場合の光20としては、一般的な赤外、あるい
は赤色波長のものを用いることができる。例えば、基板
2が石英ガラスで厚さ0.5〜1.0mmの場合、角度θを0°
<θ<30°の範囲とすれば、当該基板2の有無が検出可
能であることが確かめられた。ちなみに、この角度θは
基板2の厚みが厚くなれば大きくても良い傾向にある。
なお、上記発光器18aおよび受光器18bの配置は上記実施
例とは上下逆でも良いけれども、一般的に外光は上方か
ら来る場合が多いため、上記のような配置とする方が外
光による誤動作を防止することができるので好ましい。
例とは上下逆でも良いけれども、一般的に外光は上方か
ら来る場合が多いため、上記のような配置とする方が外
光による誤動作を防止することができるので好ましい。
以上のようにこの考案によれば、ホルダ上の基板の有無
を直接検出することができ、従って当該基板検出装置を
用いれば、基板搬送の信頼性を向上させることができ
る。
を直接検出することができ、従って当該基板検出装置を
用いれば、基板搬送の信頼性を向上させることができ
る。
しかも、ホルダの貫通穴が傾斜しているため、何らかの
原因で基板無しでイオンビームが照射されても、イオン
ビームは傾斜している貫通穴の内壁で阻止されてホルダ
の裏面側へは通過しないので、ホルダの裏面側に設けら
れている他の機器へ悪影響が及ぶのを防止することがで
きる。
原因で基板無しでイオンビームが照射されても、イオン
ビームは傾斜している貫通穴の内壁で阻止されてホルダ
の裏面側へは通過しないので、ホルダの裏面側に設けら
れている他の機器へ悪影響が及ぶのを防止することがで
きる。
また、基板に対して光センサの光が傾斜して入射するた
め、その光が透明な基板を透過するとき、屈折によって
受光器に入射する状態が基板が無い場合から変化するの
で、基板が透明であってもその有無を検出することがで
きる。
め、その光が透明な基板を透過するとき、屈折によって
受光器に入射する状態が基板が無い場合から変化するの
で、基板が透明であってもその有無を検出することがで
きる。
【図面の簡単な説明】 第1図は、この考案の一実施例に係る基板検出装置を示
す概略断面図である。第2図は、第1図の線II−IIに沿
う概略断面図であり、押え板の図示は省略している。第
3図は、イオン注入装置のホルダ回りの一例を部分的に
示す平面図である。第4図は、第3図の線IV−IVに沿う
概略断面図である。 2……基板、6……ホルダ、16……貫通穴、18……光セ
ンサ、18a……発光器、18b……受光器、20……光。
す概略断面図である。第2図は、第1図の線II−IIに沿
う概略断面図であり、押え板の図示は省略している。第
3図は、イオン注入装置のホルダ回りの一例を部分的に
示す平面図である。第4図は、第3図の線IV−IVに沿う
概略断面図である。 2……基板、6……ホルダ、16……貫通穴、18……光セ
ンサ、18a……発光器、18b……受光器、20……光。
Claims (1)
- 【請求項1】ホルダの表面側に保持された基板にイオン
ビームを照射する装置に用いられる基板検出装置におい
て、ホルダの基板保持部分に設けられた貫通穴であって
イオンビームが当該貫通穴を通してホルダの裏面側へ通
過しないように傾斜して設けられたものと、発光器と受
光器の組み合わせから成る光センサであって発光器から
の光がホルダの貫通穴を通過して受光器に入射可能なよ
うに配置されたものとを備えることを特徴とする基板検
出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986073417U JPH0723899Y2 (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 基板検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986073417U JPH0723899Y2 (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 基板検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62184667U JPS62184667U (ja) | 1987-11-24 |
| JPH0723899Y2 true JPH0723899Y2 (ja) | 1995-05-31 |
Family
ID=30917730
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986073417U Expired - Lifetime JPH0723899Y2 (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 基板検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0723899Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60193250A (ja) * | 1984-03-15 | 1985-10-01 | Toshiba Corp | イオン注入装置 |
-
1986
- 1986-05-15 JP JP1986073417U patent/JPH0723899Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62184667U (ja) | 1987-11-24 |
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