JPS6187637A - ステロイド合成中間体の製造法 - Google Patents
ステロイド合成中間体の製造法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ステロイドの合成中間体の製造法に関するも
のである。
のである。
ステロイドは、天然物から単離されるほか、近年種々の
全合成法が開発され、とりわけ〉517.] O′ − を経由する方法は有望な方法として注目されているが[
ドクラデイ、アカデミ−ナウク、ニスニスニスアール(
ソ連科学アカデミー雑誌)17■巻880頁1966年
]、この中間体(1)の合成に多数工程を要し、あるい
は出発原料が高価てあり、さらには比較的収率の悪い工
程を含む等の欠点かあり、十分とはいえない。
全合成法が開発され、とりわけ〉517.] O′ − を経由する方法は有望な方法として注目されているが[
ドクラデイ、アカデミ−ナウク、ニスニスニスアール(
ソ連科学アカデミー雑誌)17■巻880頁1966年
]、この中間体(1)の合成に多数工程を要し、あるい
は出発原料が高価てあり、さらには比較的収率の悪い工
程を含む等の欠点かあり、十分とはいえない。
本発明者は、これらの点に鑑み種々検討の結果、ブタジ
ェンから容易に得られる1、7−オクタジエン−3−オ
ン(II) C1ly = Cll C(C)IJ−CI士CI、
(II)と一般式 (式中、R1は低級アルキル基を、R3は水素または低
級アルキル基を、Xはメチレンまたはエチレン基を示す
)で表わされる化合物を反応させ、一般式 で表わされる化合物を得、これを脱水閉環反応に付して
、一般式 で表わされろ化合物を得、要すればオキソ括の選択的還
元反応に付し、さらに要すれば生成した水酸基を保護し
た後、パラジウムおよび銅触媒および水、酸素の存在下
末端オレフィンをメチルケトンに酸化4゛ることにより
、一般式 (式中、Yはオキソ基または水素および保護されていて
もよい水酸基を示し、他は前記と同意a)で表わされる
化合物が得られることを見出し、これらの知見に基づき
本発明を完成した。
ェンから容易に得られる1、7−オクタジエン−3−オ
ン(II) C1ly = Cll C(C)IJ−CI士CI、
(II)と一般式 (式中、R1は低級アルキル基を、R3は水素または低
級アルキル基を、Xはメチレンまたはエチレン基を示す
)で表わされる化合物を反応させ、一般式 で表わされる化合物を得、これを脱水閉環反応に付して
、一般式 で表わされろ化合物を得、要すればオキソ括の選択的還
元反応に付し、さらに要すれば生成した水酸基を保護し
た後、パラジウムおよび銅触媒および水、酸素の存在下
末端オレフィンをメチルケトンに酸化4゛ることにより
、一般式 (式中、Yはオキソ基または水素および保護されていて
もよい水酸基を示し、他は前記と同意a)で表わされる
化合物が得られることを見出し、これらの知見に基づき
本発明を完成した。
すなわち、本発明は、一般式(V)で表わされる化合物
を、パラジウムおよび銅触媒および水5酸楽の存在下酸
化するこれを特徴とする一般式(Vl)で表わされる化
合物の製造法である。
を、パラジウムおよび銅触媒および水5酸楽の存在下酸
化するこれを特徴とする一般式(Vl)で表わされる化
合物の製造法である。
上記一般式におい、て、R1,R*における低級アルキ
ルとは、たとえばメチル、エチル、n−プロピル、i−
プロピル等の炭素数1〜3のものを意味する。また、Y
で示される保護された水酸基における保護基としては、
比較的緩和な条件、たとえば塩酸、硫酸等の酸性条件あ
るいは接触還元等により除去しうるちのならどのような
ものでもよく、たとえば第3級ブチル、テトラヒドロピ
ラニル、ベンジル、アセチルなどがあり、Yがケトンの
場合は保護基として1.3−ジオキソラン等を用いるこ
とができる。
ルとは、たとえばメチル、エチル、n−プロピル、i−
プロピル等の炭素数1〜3のものを意味する。また、Y
で示される保護された水酸基における保護基としては、
比較的緩和な条件、たとえば塩酸、硫酸等の酸性条件あ
るいは接触還元等により除去しうるちのならどのような
ものでもよく、たとえば第3級ブチル、テトラヒドロピ
ラニル、ベンジル、アセチルなどがあり、Yがケトンの
場合は保護基として1.3−ジオキソラン等を用いるこ
とができる。
このような一般式(V)で表わされる化合物としては、
下記のものがある。
下記のものがある。
(+) 7.7a−ジヒドa−7a−メチル−4−(
3−ブテニル)−1−t−ブトキシ−5(6H)−イン
ダノン (2) ?、7a−ジヒドロー2−メチルー7a−メ
チル−4−(3−ブテニル)−1−L−ブトキシ−5(
6H)−インダノン (3)(±)−7,7a−ジヒドロ−7a−エチル−4
−(3−ブテニル)−1,5(6H)−インダンジオン (4)(±)−7,7a−ジヒドロ−2−エチル−7a
−メチル−4−(3−ブテニル)−1−ヒドロキン−5
(611)−インダノン (5)(±)−7,7a−ジヒドロ−7a−イソプロピ
ル−4−(3−ブテニル)−1−ヒドロキノ−5(61
t)−インダノン (6)(±)−7,7a−ジヒドロ−7a−メチル−4
−(3−ブテニル)−1,5(6H)−インダンジオン (7)(±)−7,7a−ジヒドロ−7a−メチル−4
−(3−ブテニル)−1−ヒドロキシ−5(6H)−イ
ンダノン (8) 3.4.8.8a−テトラヒドロ−5−(3
−ブテニル)−8aβ−メチル−1,6(2H,7H)
ナフタレンジオン (9)5−t−ブトキシ−4aβ−メチル−1−(3−
ブテニル)−2,3,4,4a、5.6.7.8オクタ
ヒドロナフタレン−2−オン 。
3−ブテニル)−1−t−ブトキシ−5(6H)−イン
ダノン (2) ?、7a−ジヒドロー2−メチルー7a−メ
チル−4−(3−ブテニル)−1−L−ブトキシ−5(
6H)−インダノン (3)(±)−7,7a−ジヒドロ−7a−エチル−4
−(3−ブテニル)−1,5(6H)−インダンジオン (4)(±)−7,7a−ジヒドロ−2−エチル−7a
−メチル−4−(3−ブテニル)−1−ヒドロキン−5
(611)−インダノン (5)(±)−7,7a−ジヒドロ−7a−イソプロピ
ル−4−(3−ブテニル)−1−ヒドロキノ−5(61
t)−インダノン (6)(±)−7,7a−ジヒドロ−7a−メチル−4
−(3−ブテニル)−1,5(6H)−インダンジオン (7)(±)−7,7a−ジヒドロ−7a−メチル−4
−(3−ブテニル)−1−ヒドロキシ−5(6H)−イ
ンダノン (8) 3.4.8.8a−テトラヒドロ−5−(3
−ブテニル)−8aβ−メチル−1,6(2H,7H)
ナフタレンジオン (9)5−t−ブトキシ−4aβ−メチル−1−(3−
ブテニル)−2,3,4,4a、5.6.7.8オクタ
ヒドロナフタレン−2−オン 。
(1G) 3,4.8.8a−テトラヒトo−5−(
3−ブテニル)−8aβ−エチル−1,6(2H,7H
)ナフタレンジオン なお、上記の1.7−オクタシエンー3−オン(II)
は、酢酸の存在下でブタジェンを二m化して3−アセト
キン−1,7−ジエンを得、これを加水分解して1.7
−オクタシエンー3−オールとしくテトラヘドロン・レ
タース 1967年、2巻451)、ついで無水クロム
酸、無水クロム酸とピリジン等の錯体、2.3−ジクロ
ロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン(DDQ
)、二酸化マンガン、炭酸銀、酸化銅などの酸化剤を用
いて酸化することによって製造することができる。
3−ブテニル)−8aβ−エチル−1,6(2H,7H
)ナフタレンジオン なお、上記の1.7−オクタシエンー3−オン(II)
は、酢酸の存在下でブタジェンを二m化して3−アセト
キン−1,7−ジエンを得、これを加水分解して1.7
−オクタシエンー3−オールとしくテトラヘドロン・レ
タース 1967年、2巻451)、ついで無水クロム
酸、無水クロム酸とピリジン等の錯体、2.3−ジクロ
ロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン(DDQ
)、二酸化マンガン、炭酸銀、酸化銅などの酸化剤を用
いて酸化することによって製造することができる。
また、一般式(I[[)で表わされるシクロベンタンノ
オン誘導体は、たとえばジャーナル・オン・ジ・アメリ
カン・ケミカル・ソサイエティ 65@562頁(+9
43)、ジャーナル・オン・オーガニック・ケミストリ
ー 32巻 1236頁(1967)、ブレかン・デ・
う・ソシエテ・ギミク・デ・フランス 1955年 1
036頁等に記載されている方法によって製造すること
ができる。
オン誘導体は、たとえばジャーナル・オン・ジ・アメリ
カン・ケミカル・ソサイエティ 65@562頁(+9
43)、ジャーナル・オン・オーガニック・ケミストリ
ー 32巻 1236頁(1967)、ブレかン・デ・
う・ソシエテ・ギミク・デ・フランス 1955年 1
036頁等に記載されている方法によって製造すること
ができる。
本発明方法において、(U)と([[I)の縮合反応は
、通常水素化ナトリウム、トリエチルアミン、トリブチ
ルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム。
、通常水素化ナトリウム、トリエチルアミン、トリブチ
ルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム。
ピリジンのごとき塩基性化合物の存在下に行なうのがよ
い。反応は、望ましくは原料化合物を溶解しうるたとえ
ばベンゼン、酢酸エチル、エタノール。
い。反応は、望ましくは原料化合物を溶解しうるたとえ
ばベンゼン、酢酸エチル、エタノール。
メタノール、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミ
ド、ノメトギノエタン、ジオキサン等のごとき不活性溶
媒中で行なうのがよく、室温以下0℃〜IO℃程度でも
十分進行するが、必要に応じ加、ユまたは冷却してらよ
い。
ド、ノメトギノエタン、ジオキサン等のごとき不活性溶
媒中で行なうのがよく、室温以下0℃〜IO℃程度でも
十分進行するが、必要に応じ加、ユまたは冷却してらよ
い。
かくして得られる化合物(IV)は、選択的還元反応に
付して、ノクロペンタン環上の一方のオキソ基を還元し
、次工程の閉環反応に際してR1がβ配位になるように
しておくのが望ましい。このような選択的還元反応には
、たとえばキャンシダ属。
付して、ノクロペンタン環上の一方のオキソ基を還元し
、次工程の閉環反応に際してR1がβ配位になるように
しておくのが望ましい。このような選択的還元反応には
、たとえばキャンシダ属。
デバリオミセス属、ピチア属、シゾサツカロミセス属、
ペタソスボラ属、ハンセニスラ属、トルロプシス属、サ
ツカロミコデス属等に属し、化合物(IV)を還元して
R1がβ配位である一般式 て表わされる化合物に導きうる能力を有する微生物もし
くは微生物の培養物を、化合物(IV)に作用させるこ
とによって行なわれる。使用しうる微生物を具体的に示
せば、たとえばキャンシダ・ソラニ、キャンシダ・ロブ
スタ、キャンシダ・クルセイ、キャンシダ・ユチリス、
キャンノダ・ファビアニ。
ペタソスボラ属、ハンセニスラ属、トルロプシス属、サ
ツカロミコデス属等に属し、化合物(IV)を還元して
R1がβ配位である一般式 て表わされる化合物に導きうる能力を有する微生物もし
くは微生物の培養物を、化合物(IV)に作用させるこ
とによって行なわれる。使用しうる微生物を具体的に示
せば、たとえばキャンシダ・ソラニ、キャンシダ・ロブ
スタ、キャンシダ・クルセイ、キャンシダ・ユチリス、
キャンノダ・ファビアニ。
キャンシダ・テヌイス、キャンシダ・スコッチイ。
デバリオミセス・ニコチアナエ、デバリオミセス・ビニ
、デバリオミセス・バンリジ、デバリオミセス・グロボ
ズス、デバリオミセス・ファツフイイ。
、デバリオミセス・バンリジ、デバリオミセス・グロボ
ズス、デバリオミセス・ファツフイイ。
ピチア・ウィッカーハミイ、ビチア・エチェルノイ、ピ
ヂア・ビイペリ、ピチア・クエルクウム、ベタソスボラ
・ヂャンバルノ、サツカロミコデス・ルトウイギイ、ト
ルロプシス・アエリア、トルロプシス・コリクロサ、ト
ルロプシス・キャンシダ、トルロプンス・グロボサ、ト
ルロプシス・ビナセア。
ヂア・ビイペリ、ピチア・クエルクウム、ベタソスボラ
・ヂャンバルノ、サツカロミコデス・ルトウイギイ、ト
ルロプシス・アエリア、トルロプシス・コリクロサ、ト
ルロプシス・キャンシダ、トルロプンス・グロボサ、ト
ルロプシス・ビナセア。
トルロプンス・ンユーダエリア、ハンセニスラ・ウィン
ゲイ、ハンセニスラφホルスチイ、ハンセニュラ・バイ
ニリンキイ、ハンセニスラ・カブスラタハンセニスラ・
サーターヌス等があげられる。
ゲイ、ハンセニスラφホルスチイ、ハンセニュラ・バイ
ニリンキイ、ハンセニスラ・カブスラタハンセニスラ・
サーターヌス等があげられる。
このような微生物または微生物の培養物に原料化合物(
IV)を作用させて目的化合物(■′)に導ひく。ここ
に、微生物の培養物とは、微生物を含む培養物、菌体心
砕物これらから抽出した酵素系等を示す。たとえば通常
の方法で微生物を培養したのち、培養物から微生物を分
離しまたは分離仕ずに、原料化合物と微生物を接触させ
ることにより行なわれる。また、原料化合物を含む培地
中で微生物を培養することにより微生物の培養と原料化
合物の還元とを同時に行なわせることも、普通に行なわ
れる方法である。
IV)を作用させて目的化合物(■′)に導ひく。ここ
に、微生物の培養物とは、微生物を含む培養物、菌体心
砕物これらから抽出した酵素系等を示す。たとえば通常
の方法で微生物を培養したのち、培養物から微生物を分
離しまたは分離仕ずに、原料化合物と微生物を接触させ
ることにより行なわれる。また、原料化合物を含む培地
中で微生物を培養することにより微生物の培養と原料化
合物の還元とを同時に行なわせることも、普通に行なわ
れる方法である。
微生物の成育に適当な栄養培地としては、微生物か資化
しうる炭素源、窒素源および生育に必要な無機塩類、各
種ヒダミノ類1アミノ酸類などを含rイしたものが用い
られる。すなわち、炭素源としては、たとえばブドウ糖
、ソヨ糖、デキストリノ。
しうる炭素源、窒素源および生育に必要な無機塩類、各
種ヒダミノ類1アミノ酸類などを含rイしたものが用い
られる。すなわち、炭素源としては、たとえばブドウ糖
、ソヨ糖、デキストリノ。
殿粉、グリセリンのように菌の資化しうるしの、窒素源
としては、たとえばペブトノ、肉エキス、カゼイノ、エ
ダミン、コーンスチーブリカー、酵母あるいは酵母エキ
スなどのような含窒素有機物およびたとえば、硝酸アン
モニウム、リン酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝
酸ナトリウムなどのような無機窒素化合物、さらに無機
塩類としては、たとえばリン酸カリウム、塩化ナトリウ
ム、硫酸マグネシウムなど菌の生育に必要な栄養を適当
に配合して培地とする。
としては、たとえばペブトノ、肉エキス、カゼイノ、エ
ダミン、コーンスチーブリカー、酵母あるいは酵母エキ
スなどのような含窒素有機物およびたとえば、硝酸アン
モニウム、リン酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝
酸ナトリウムなどのような無機窒素化合物、さらに無機
塩類としては、たとえばリン酸カリウム、塩化ナトリウ
ム、硫酸マグネシウムなど菌の生育に必要な栄養を適当
に配合して培地とする。
微生物の培養法としては、静置培養法、振盪培養法ある
いは攪拌と通気を伴う深部培養法などのいずれを用いて
もよい。原料化合物(IV)の添加時期は、培谷間始期
あるいは培養途上の適当な時期が選ばれる。原料化合物
(IV)は、微粉末状としそのまま、あるいは、たとえ
ばアセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコ
ール、プロピレノグリコール2ツメデルポルムアミド、
ノオキザノなと適当な溶〜1に溶かした溶液または懸濁
液として、あるいはそれらに界面活性剤0分散剤なとを
加えた溶液ま1こは懸濁液として、一時にあるいは一定
の時間にわたって連続的にまたは間欠的添加される。
いは攪拌と通気を伴う深部培養法などのいずれを用いて
もよい。原料化合物(IV)の添加時期は、培谷間始期
あるいは培養途上の適当な時期が選ばれる。原料化合物
(IV)は、微粉末状としそのまま、あるいは、たとえ
ばアセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコ
ール、プロピレノグリコール2ツメデルポルムアミド、
ノオキザノなと適当な溶〜1に溶かした溶液または懸濁
液として、あるいはそれらに界面活性剤0分散剤なとを
加えた溶液ま1こは懸濁液として、一時にあるいは一定
の時間にわたって連続的にまたは間欠的添加される。
また、培養によって得られる微生物菌体あるいは目的と
する還元反応に関与する還元酵素を培養液あるいは菌体
から分離した後、適当なpH,イオン強度の緩衝液また
は水に懸濁または溶解させ、これらに原料化合物と水X
供与体とを接触させて、曲名゛を還元さU゛る手段によ
っても行なわれる。
する還元反応に関与する還元酵素を培養液あるいは菌体
から分離した後、適当なpH,イオン強度の緩衝液また
は水に懸濁または溶解させ、これらに原料化合物と水X
供与体とを接触させて、曲名゛を還元さU゛る手段によ
っても行なわれる。
上述の(IV)を基質とした還元反応における酸性度、
温度あるいは反応時間その他の条件は、添加する原料化
合物の種類、使用する微生物の種類などによって一定し
ないので、最も適当な条件をおのおの選択して実施する
のが望ましい。
温度あるいは反応時間その他の条件は、添加する原料化
合物の種類、使用する微生物の種類などによって一定し
ないので、最も適当な条件をおのおの選択して実施する
のが望ましい。
このようにして生成蓄積された化合物(■′)は、種々
の手段によって分別採取することができる。
の手段によって分別採取することができる。
たとえば、目的物質をアルミナ、活性炭など適当な吸も
剤に吸着させたのちメタノール、エタノールなど適当な
溶剤で溶出する吸着法とか、クロロホルム、メチレンク
ロリド、エチレンクロリドなどのハロゲン化炭化水素ま
たは酢酸エステル類など水と二液用を形成しうる有機溶
剤を用いて直接抽出するとか向流分配させる二液相間の
分配率の差を利用する方法とか、あるいはアルミナ、シ
リカケル、セルローズ・パルプなど適当な担体を用いろ
クロマトグラフ法、そのほか溶解度の差を利用する方法
、などの諸種の分離手段を所望により選択して用いるこ
とができる。得られた化合物(■′)は、必要に応じて
常法により前述の保護基を導入してらよい。
剤に吸着させたのちメタノール、エタノールなど適当な
溶剤で溶出する吸着法とか、クロロホルム、メチレンク
ロリド、エチレンクロリドなどのハロゲン化炭化水素ま
たは酢酸エステル類など水と二液用を形成しうる有機溶
剤を用いて直接抽出するとか向流分配させる二液相間の
分配率の差を利用する方法とか、あるいはアルミナ、シ
リカケル、セルローズ・パルプなど適当な担体を用いろ
クロマトグラフ法、そのほか溶解度の差を利用する方法
、などの諸種の分離手段を所望により選択して用いるこ
とができる。得られた化合物(■′)は、必要に応じて
常法により前述の保護基を導入してらよい。
化合物(IV)の閉環反応は、たとえばβ−アラニノ、
ブロリノ、フェニルアラニンのごとき弱塩基性化合物の
存在下で容易に進行する。微量の強酸、例えば過塩素酸
の存在が好ましい結果をあたえろ。
ブロリノ、フェニルアラニンのごとき弱塩基性化合物の
存在下で容易に進行する。微量の強酸、例えば過塩素酸
の存在が好ましい結果をあたえろ。
反応は、水、メタノール、エタノール、プロパツール、
アセトニトリル、塩化メチレン、ベンゼン、テトラヒド
ロフラン等の溶媒中で行なうのがよく、室温ないし加温
下(たとえば還流下)で進行させることができる。
アセトニトリル、塩化メチレン、ベンゼン、テトラヒド
ロフラン等の溶媒中で行なうのがよく、室温ないし加温
下(たとえば還流下)で進行させることができる。
化合物(V)の酸化反応は、たとえば塩化バラノウム触
媒に、再酸化剤としてたとえば塩化第一銅。
媒に、再酸化剤としてたとえば塩化第一銅。
素雰囲気下に行なうことができる。反応は、ツメチルホ
ルムアミド、メタノール、エタノール、プロパツール、
スルホラノ、ノメトキノエタン、ノオキザノ等の不活性
溶媒の存在下に行なうことかでき、反応温度は室温で十
分であるが必要に応じ加、11上たは冷却4−る。反応
は常圧または加圧の酸素下で、効率よくかくはん、また
は振とうしながら行なう。
ルムアミド、メタノール、エタノール、プロパツール、
スルホラノ、ノメトキノエタン、ノオキザノ等の不活性
溶媒の存在下に行なうことかでき、反応温度は室温で十
分であるが必要に応じ加、11上たは冷却4−る。反応
は常圧または加圧の酸素下で、効率よくかくはん、また
は振とうしながら行なう。
かくして得られる化合物(Vl)は、アンゲバノデ・ヘ
ミ−72巻(+960)725〜730頁同108巻(
+975)2673〜2679頁等に記載されている方
法によって、+9−ツルーテストステロン型ステロイド
、エストロン系ステロイド、9.11−デヒドローテス
トステロノ系ステロイド、アノトロステロン系ステロイ
ド、コーチジノ系ステロイド等に導びくことかでき、各
種ステロイドの合成中間体としてきわめて有用である。
ミ−72巻(+960)725〜730頁同108巻(
+975)2673〜2679頁等に記載されている方
法によって、+9−ツルーテストステロン型ステロイド
、エストロン系ステロイド、9.11−デヒドローテス
トステロノ系ステロイド、アノトロステロン系ステロイ
ド、コーチジノ系ステロイド等に導びくことかでき、各
種ステロイドの合成中間体としてきわめて有用である。
参考例1
1.7−オクタレニン−3−オールの3.1gを四塩化
炭素100ccに溶かし、活性二酸化マンガン10gを
加え、室温で4日間かくはんする。ろ過後、溶媒を20
〜30mmHgの減圧下で留去し、30〜b ノニン−3−オン 2gを得る。
炭素100ccに溶かし、活性二酸化マンガン10gを
加え、室温で4日間かくはんする。ろ過後、溶媒を20
〜30mmHgの減圧下で留去し、30〜b ノニン−3−オン 2gを得る。
上記留分が1.7−オクタノニン−3−オンであること
は下記の分析結果から確認される。
は下記の分析結果から確認される。
赤外スペクトル分析
1695cm”−’ 、 1680cm−’ 、 16
40cm−’ 、 910cm−’NMR(CC1,)
スペクトル分析 609〜1.8(411,メチレン) 2.49(21+、三重線、−C旦、 −C0)47〜
63(611,オレフィン) 参考例2 (+)実施例3(2)で得られたトリケトノ(+、cu
ug)の接2永メタノール溶液(メタノールIO+d)
に、オルトギ酸メヂルエステル(0,924d)とp−
トルエンスルボッ酸のメタノール溶液(0,5w[%、
p−1−ルエノスル71;ン酸)0.5rnflを加え
、15分間室温でa拌する。反応液をノリ力ゲルのカラ
ムを通し、溶媒を除去すると(+)−7,7a−ノヒド
ロー7aS−メチル−4−(3,3−ノメトキノブチル
)−1゜5(6H)−インダンジオ7の粗製品を得る。
40cm−’ 、 910cm−’NMR(CC1,)
スペクトル分析 609〜1.8(411,メチレン) 2.49(21+、三重線、−C旦、 −C0)47〜
63(611,オレフィン) 参考例2 (+)実施例3(2)で得られたトリケトノ(+、cu
ug)の接2永メタノール溶液(メタノールIO+d)
に、オルトギ酸メヂルエステル(0,924d)とp−
トルエンスルボッ酸のメタノール溶液(0,5w[%、
p−1−ルエノスル71;ン酸)0.5rnflを加え
、15分間室温でa拌する。反応液をノリ力ゲルのカラ
ムを通し、溶媒を除去すると(+)−7,7a−ノヒド
ロー7aS−メチル−4−(3,3−ノメトキノブチル
)−1゜5(6H)−インダンジオ7の粗製品を得る。
NMR(ヘノゼノ、外部標孕トリメチルノラン)δ値(
ppm) 0.48(3H,s、アンギュラ−・メチル)Q、38
(311,s、末端メチル) 2.68(611,3,OCI+、) l R: 1660cm−’ 、1750cm−’(2
)」二足(1)で得られるケタール化物(1,32g)
を乾燥ベンゼンに溶かし、ベンゼンの沸点温度まで加熱
したのち、マロン酸(5mg)を加え、蒸留するように
273体積ぐらいの溶媒を除去する(約20分かけて)
。反応後室温にもどし、炭酸氷水ナトリウム飽和水溶液
により塩基性としてベンゼンで抽出する。抽出液を飽和
食塩水で洗ったのち、Mg5O,で乾燥し、溶媒を留去
して、(−)−3−メトキノ−3,6aS−ツメチル−
1,2,3,5,6゜6a、7.8−オクタヒドロシク
ロペンタ[f][1]ベノゾヒラノ−7−オンの粗製品
(t、tag)を得る。
ppm) 0.48(3H,s、アンギュラ−・メチル)Q、38
(311,s、末端メチル) 2.68(611,3,OCI+、) l R: 1660cm−’ 、1750cm−’(2
)」二足(1)で得られるケタール化物(1,32g)
を乾燥ベンゼンに溶かし、ベンゼンの沸点温度まで加熱
したのち、マロン酸(5mg)を加え、蒸留するように
273体積ぐらいの溶媒を除去する(約20分かけて)
。反応後室温にもどし、炭酸氷水ナトリウム飽和水溶液
により塩基性としてベンゼンで抽出する。抽出液を飽和
食塩水で洗ったのち、Mg5O,で乾燥し、溶媒を留去
して、(−)−3−メトキノ−3,6aS−ツメチル−
1,2,3,5,6゜6a、7.8−オクタヒドロシク
ロペンタ[f][1]ベノゾヒラノ−7−オンの粗製品
(t、tag)を得る。
NMR(CC1,)δ値(Ppm):1.08(311
,s、アンギュラ−メチル)、138(311,s、末
端メチル)、3.20(311,s、 −1It :1
740cm−’、1640cm−’(3ン上記(2)で
得られる粗製品(1,16g)を20dの乾燥テトラヒ
ドロフランに溶かし、水冷する。
,s、アンギュラ−メチル)、138(311,s、末
端メチル)、3.20(311,s、 −1It :1
740cm−’、1640cm−’(3ン上記(2)で
得られる粗製品(1,16g)を20dの乾燥テトラヒ
ドロフランに溶かし、水冷する。
3/4当量のし1八il+、を10−の乾燥テトラヒド
ロフランに慧澗しかつ水冷したものに、上記溶液を攪拌
下に滴下する。滴下完了後15分してから、水0.1F
W、15%Na0I−1水溶液0.1Wおよび水0.4
5dを水冷下に徐々に加える。反応後固形物をろ去した
のら、エーテル抽出し、MgSO4で乾燥した後、溶媒
を留去して(−)−3−メトキノ−3゜6a−ツメチル
−1,2,3,5,13,6a、7.8−オクタヒト【
Jノクロベンタ[rコロ]ベンゾヒラノアβ−オールの
粗製品(1,olg)を得る。
ロフランに慧澗しかつ水冷したものに、上記溶液を攪拌
下に滴下する。滴下完了後15分してから、水0.1F
W、15%Na0I−1水溶液0.1Wおよび水0.4
5dを水冷下に徐々に加える。反応後固形物をろ去した
のら、エーテル抽出し、MgSO4で乾燥した後、溶媒
を留去して(−)−3−メトキノ−3゜6a−ツメチル
−1,2,3,5,13,6a、7.8−オクタヒト【
Jノクロベンタ[rコロ]ベンゾヒラノアβ−オールの
粗製品(1,olg)を得る。
N M R(ベンゼン)δ値(ppm):1.20(3
t1.s、アンギュI R:3400cm−’ 、 1
640cm−’(4)上記(3) テi’J ラレ)’
: tll 製品(1、01g ) ノ酢酸−”チル溶
液(酢酸エチル20旙)に、5%pd/cを加え、室温
、水素1気圧下で1.5時間攪拌する。反応後セライト
でpd/cを除去し、溶媒を留去して(−)−3−メト
キン−3,6a−ツメチル−1,2,3゜5.6,6a
S、7.8.9.9aα−デカヒトロノクロヘンク[f
H,Ilヘノゾピラン−7β−オールの打1製品(0,
97g)を得る。
t1.s、アンギュI R:3400cm−’ 、 1
640cm−’(4)上記(3) テi’J ラレ)’
: tll 製品(1、01g ) ノ酢酸−”チル溶
液(酢酸エチル20旙)に、5%pd/cを加え、室温
、水素1気圧下で1.5時間攪拌する。反応後セライト
でpd/cを除去し、溶媒を留去して(−)−3−メト
キン−3,6a−ツメチル−1,2,3゜5.6,6a
S、7.8.9.9aα−デカヒトロノクロヘンク[f
H,Ilヘノゾピラン−7β−オールの打1製品(0,
97g)を得る。
N M R(ベンゼン)、δ値(ppm):0.90お
よび0.95(3+1゜2s、アンギュラ−・メチル)
、1.38(311,s、末端メチル)、3.28およ
び3.22(311,2s、−0CII−)I n :
3420cm−’、1680cm−’(5)上記(4)
で得られた粗製品(0,97g)をエタノール(20滅
)に溶かし、3N塩酸(5−)を加えて5分間攪拌する
。ついで6N−水酸化ナトリウム溶液(20in1)を
加えて80℃に15分間加熱後、IN−硫酸でpl−1
4〜5とし、溶媒を減圧蒸留する。残留物をメチレンク
ロリド(6C1me)に溶解し、水洗後シリカゲルのカ
ラムクロマトグラフィ〜に付すと(−)−デスーA−!
7β−ヒドロキン−9−ニストレン−5−オン460B
を得る。
よび0.95(3+1゜2s、アンギュラ−・メチル)
、1.38(311,s、末端メチル)、3.28およ
び3.22(311,2s、−0CII−)I n :
3420cm−’、1680cm−’(5)上記(4)
で得られた粗製品(0,97g)をエタノール(20滅
)に溶かし、3N塩酸(5−)を加えて5分間攪拌する
。ついで6N−水酸化ナトリウム溶液(20in1)を
加えて80℃に15分間加熱後、IN−硫酸でpl−1
4〜5とし、溶媒を減圧蒸留する。残留物をメチレンク
ロリド(6C1me)に溶解し、水洗後シリカゲルのカ
ラムクロマトグラフィ〜に付すと(−)−デスーA−!
7β−ヒドロキン−9−ニストレン−5−オン460B
を得る。
収率((1)〜(5))50%
mp・113℃
N M n (CD CIs)δ(ppm): 0.9
2(311,s、アンギュラ−・メチル)3.78(2
H,m、 −0[1)、5.87(lH,m、エノン) I R:3400cm−’、1650cm−’実施例I (+) 2−−メチル−2−(3−オキソ−7−オク
テニル)−1,3−ノクロヘキサンジオン!、7−オク
タジニンー3−オン(o、24g)、 2−メチル−1
,3−シクロヘキサンジオン(0,5g)とトリエチル
アミン(Id)を酢酸エチル(lod)に加え、室温で
24時間攪拌する。エバポレーターでトリエチルアミン
と酢酸を除去した後、シリカゲルのカラムクロマトグラ
フィー(塩化メチレン)で精製し、標記化合物0.39
gを得る。(Ir1 1700〜1730ce−’、9
20cm−’; NMR1,10ppmUII、−重線
−C11,)、4.6〜6.OpI+1(3+1.多重
線、ビニル))(2) 3.4,8.8a−テトラヒ
ドロ−5−(3−ブテニル)−8a・−メチル−1,6
(2H17H)−ナフタレンジオン 上2(1)で得られたトリケトン(2,732g)、β
−アラニノ(3,6g)、 l N−過塩素酸(16−
)をアセトニトリル(load)に加え、7日間加、8
還流する。室温まで冷却した後、水を加え、塩化メチレ
ンで6機層を抽出、水1食塩水で洗浄、W酸マグネノウ
ムで乾燥、ろ過した後、溶媒を除去する。
2(311,s、アンギュラ−・メチル)3.78(2
H,m、 −0[1)、5.87(lH,m、エノン) I R:3400cm−’、1650cm−’実施例I (+) 2−−メチル−2−(3−オキソ−7−オク
テニル)−1,3−ノクロヘキサンジオン!、7−オク
タジニンー3−オン(o、24g)、 2−メチル−1
,3−シクロヘキサンジオン(0,5g)とトリエチル
アミン(Id)を酢酸エチル(lod)に加え、室温で
24時間攪拌する。エバポレーターでトリエチルアミン
と酢酸を除去した後、シリカゲルのカラムクロマトグラ
フィー(塩化メチレン)で精製し、標記化合物0.39
gを得る。(Ir1 1700〜1730ce−’、9
20cm−’; NMR1,10ppmUII、−重線
−C11,)、4.6〜6.OpI+1(3+1.多重
線、ビニル))(2) 3.4,8.8a−テトラヒ
ドロ−5−(3−ブテニル)−8a・−メチル−1,6
(2H17H)−ナフタレンジオン 上2(1)で得られたトリケトン(2,732g)、β
−アラニノ(3,6g)、 l N−過塩素酸(16−
)をアセトニトリル(load)に加え、7日間加、8
還流する。室温まで冷却した後、水を加え、塩化メチレ
ンで6機層を抽出、水1食塩水で洗浄、W酸マグネノウ
ムで乾燥、ろ過した後、溶媒を除去する。
シリカゲルのカラムクロマトグラフィ=(塩化メチレン
)で精製し、標記化合物1.838gを得る。
)で精製し、標記化合物1.838gを得る。
(I R,1715cm−’、1665c會−’、9
20c+e−’; NMRl、31ppm(311,
−重線、CHs)、4.6〜6.1(311,多重線、
ビ −ニル)) (3) 3.4.8.8a−テトラヒドロ−5−(3
−オキソブチル)−8a−メチル−1,6(2H,7H
)−ナフタレンジオン 塩化パラジウム(0,18g)、塩化第一銅(1,0g
)、水(2鑓)をジメチルホルムアミド(20d)に加
え、酸素雰囲気で室温で2時間攪拌する。上記(2)で
得られたオレフィンQ、761g)をその溶液に加え、
Ili!2累雰囲気下で24時間攪拌する。希塩酸を加
えた後、有機層をエーテルで抽出、水および食塩水で洗
aト、硫酸マグネノウムで乾燥、ろ過した後エバポレー
ターで溶媒を除去する。シリカゲルのカラムクロマトグ
ラフィー(ヘキサン・エーテル3:1)で精製して、標
記化合物1.40gを得る。(IR11710cm−’
、1663c鉤−’; NMR1,40pp+5(31
1,−重線。
20c+e−’; NMRl、31ppm(311,
−重線、CHs)、4.6〜6.1(311,多重線、
ビ −ニル)) (3) 3.4.8.8a−テトラヒドロ−5−(3
−オキソブチル)−8a−メチル−1,6(2H,7H
)−ナフタレンジオン 塩化パラジウム(0,18g)、塩化第一銅(1,0g
)、水(2鑓)をジメチルホルムアミド(20d)に加
え、酸素雰囲気で室温で2時間攪拌する。上記(2)で
得られたオレフィンQ、761g)をその溶液に加え、
Ili!2累雰囲気下で24時間攪拌する。希塩酸を加
えた後、有機層をエーテルで抽出、水および食塩水で洗
aト、硫酸マグネノウムで乾燥、ろ過した後エバポレー
ターで溶媒を除去する。シリカゲルのカラムクロマトグ
ラフィー(ヘキサン・エーテル3:1)で精製して、標
記化合物1.40gを得る。(IR11710cm−’
、1663c鉤−’; NMR1,40pp+5(31
1,−重線。
CIjs)、2. IOppm(311,−重線、 C
OCl15 ))実施例2 (1) 2−メチル−2−(3−オキソ−7−オクテニ
ル)−1,3−シクロペンタンジオン1.7−オクタジ
エン−3−オン(1,782g)と2−メチル−1,3
−シクロペンタンジオン(2g)とトリエチルアミン(
4d)を酢酸エチル(40mlり中に加え、室温で30
時間攪拌する。エバボレークーでトリエチルアミンと酢
酸エチルを除去した後、シリカゲルのカラムクロマトグ
ラフィー(塩化メチレン)で精製し、標記化合物2.7
44gを得る。
OCl15 ))実施例2 (1) 2−メチル−2−(3−オキソ−7−オクテニ
ル)−1,3−シクロペンタンジオン1.7−オクタジ
エン−3−オン(1,782g)と2−メチル−1,3
−シクロペンタンジオン(2g)とトリエチルアミン(
4d)を酢酸エチル(40mlり中に加え、室温で30
時間攪拌する。エバボレークーでトリエチルアミンと酢
酸エチルを除去した後、シリカゲルのカラムクロマトグ
ラフィー(塩化メチレン)で精製し、標記化合物2.7
44gを得る。
(I R,1723cm−’、1641cn−’、91
8cm−’: NMlll、02ppm(311,−重
線、−CI+3)、4.7〜6.2(311,多重線。
8cm−’: NMlll、02ppm(311,−重
線、−CI+3)、4.7〜6.2(311,多重線。
ビニル))
(2)(L)−7,7a−ジヒドロ−7a−メチル−4
−(3−ブテニル)−1,5(6H)−インダンジオン 上記(1)で得られるトリケトン(2,744g)、β
〜アラニン(2,2g)、 I N過塩素酸(5−)を
アセトニトリル(50m?、)中に加え、5日間加熱還
流する。室温まて冷却した後、水を加え、塩化メチレン
で有機層を抽出、水9食塩水で洗浄、硫酸マグネシウム
で乾燥、ろ過した後、溶媒を除去する。シリカゲルのカ
ラムクロマトグラフィー(塩化メチレン)で精製し、標
記化合物1.838gを得る。I R,1745cm−
’、1662cm−’、911cm−’; NMR1,
25ppm(311,−重線、CI+3)、4.7〜6
.1(3+1.多重線、ビニル)(3)(±)−7,7
a−ノヒドロー7a−メチル−=1−(3−オキツブチ
ル)−1,5(6H)−インダンジオン 塩化パラジウム(lOOmg)、塩化第一銅(500m
g) 、水(5d)をツメチルホルムアミド(50d)
に加え、酸素雰囲気上室温で2時間攪拌する。上記(2
)で得られたオレフィン(723+ag)をその溶液に
加え、酸素雰囲気下で5時間攪拌する。希塩酸を加えた
後、有機層をエーテルで抽出、水および食塩水で洗浄、
硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過した後、溶媒を除去する
。シリカゲルのカラムクロマトグラフィー(エーテル・
ヘキサント3)で精製して、標記化合物588mg(固
体)を得る。(I R。
−(3−ブテニル)−1,5(6H)−インダンジオン 上記(1)で得られるトリケトン(2,744g)、β
〜アラニン(2,2g)、 I N過塩素酸(5−)を
アセトニトリル(50m?、)中に加え、5日間加熱還
流する。室温まて冷却した後、水を加え、塩化メチレン
で有機層を抽出、水9食塩水で洗浄、硫酸マグネシウム
で乾燥、ろ過した後、溶媒を除去する。シリカゲルのカ
ラムクロマトグラフィー(塩化メチレン)で精製し、標
記化合物1.838gを得る。I R,1745cm−
’、1662cm−’、911cm−’; NMR1,
25ppm(311,−重線、CI+3)、4.7〜6
.1(3+1.多重線、ビニル)(3)(±)−7,7
a−ノヒドロー7a−メチル−=1−(3−オキツブチ
ル)−1,5(6H)−インダンジオン 塩化パラジウム(lOOmg)、塩化第一銅(500m
g) 、水(5d)をツメチルホルムアミド(50d)
に加え、酸素雰囲気上室温で2時間攪拌する。上記(2
)で得られたオレフィン(723+ag)をその溶液に
加え、酸素雰囲気下で5時間攪拌する。希塩酸を加えた
後、有機層をエーテルで抽出、水および食塩水で洗浄、
硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過した後、溶媒を除去する
。シリカゲルのカラムクロマトグラフィー(エーテル・
ヘキサント3)で精製して、標記化合物588mg(固
体)を得る。(I R。
1745cm−’、1715cm−’、1665cm−
’: NMR1,25I)l)m(3■、−重線、
CL、)、 2.02(3H,−重線、 COC焦、)
)実施例3 (1) 実施例2(+)で得られる2−メチル−2−
(3−オキソ−7−オクテニル)−1,3−ンクロペン
タンノオン(3,0g)、フェニルアラニン(12体)
(2,5g)、 I N−過塩素酸(5d)をアセトニ
トリル(100hf)中に加え、4日間加熱還流する。
’: NMR1,25I)l)m(3■、−重線、
CL、)、 2.02(3H,−重線、 COC焦、)
)実施例3 (1) 実施例2(+)で得られる2−メチル−2−
(3−オキソ−7−オクテニル)−1,3−ンクロペン
タンノオン(3,0g)、フェニルアラニン(12体)
(2,5g)、 I N−過塩素酸(5d)をアセトニ
トリル(100hf)中に加え、4日間加熱還流する。
室温まで冷却しf二後、析出したフェニルアラニンの大
部分をろ別し、水を加え、塩化メチレンで有機層を抽出
し、水9食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過
した後、溶媒を留去する。シリカゲルのカラムクロマト
グラフィー(ヘキサン:エーテル−3:1)でvI製す
ると、(+)−7,7a−ジヒドロ−7a−メチル−4
−(3−ブテニル)−1,5((IH)−インダンジオ
ン2.38gが得られる。
部分をろ別し、水を加え、塩化メチレンで有機層を抽出
し、水9食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過
した後、溶媒を留去する。シリカゲルのカラムクロマト
グラフィー(ヘキサン:エーテル−3:1)でvI製す
ると、(+)−7,7a−ジヒドロ−7a−メチル−4
−(3−ブテニル)−1,5((IH)−インダンジオ
ン2.38gが得られる。
[α] 2+4’(クロロポルム)(2)塩化パラ
ジウム(177mg)、塩化第1銅(990mg)、水
(ld)をジメチルホルムアミド(15Ml)に加え、
酸素雰囲気上室温で2時間攪拌する。上記(1)で得ら
れるオレフィン(2,38g)をその溶液に加え、酸素
雰囲気下で12時間攪拌する。希塩酸を加えた後、有機
層をエーテルで抽出、水および食塩水で洗浄、硫酸マグ
ネシウムで乾燥、ろ過しに後、溶媒を除去する。シリカ
ゲルのカラムクロマトグラフィー(エーテル:ヘキサン
=1・3)で精製して、(+)−7,7a−ジヒドロ−
7aS−メヂルー4−(3−オキソブチル)−1,5(
61−υ−インダンノオン2.0gが得られる。
ジウム(177mg)、塩化第1銅(990mg)、水
(ld)をジメチルホルムアミド(15Ml)に加え、
酸素雰囲気上室温で2時間攪拌する。上記(1)で得ら
れるオレフィン(2,38g)をその溶液に加え、酸素
雰囲気下で12時間攪拌する。希塩酸を加えた後、有機
層をエーテルで抽出、水および食塩水で洗浄、硫酸マグ
ネシウムで乾燥、ろ過しに後、溶媒を除去する。シリカ
ゲルのカラムクロマトグラフィー(エーテル:ヘキサン
=1・3)で精製して、(+)−7,7a−ジヒドロ−
7aS−メヂルー4−(3−オキソブチル)−1,5(
61−υ−インダンノオン2.0gが得られる。
エーテルから再結晶して下記恒例のものを得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は低級アルキル基を、R^2は水素また
は低級アルキル基を、Yはオキソ基または水素および保
護されていてもよい水酸基を、Xはメチレンまたはエチ
レン基を示す)で表わされる化合物を、パラジウムおよ
び銅触媒および水の存在下酸化することを特徴とする一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中の記号は前記と同意義)で表わされる化合物の製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60195216A JPS6187637A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | ステロイド合成中間体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60195216A JPS6187637A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | ステロイド合成中間体の製造法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11109278A Division JPS5538315A (en) | 1978-09-08 | 1978-09-08 | Intermediate for synthesis of steroids and its preparation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6187637A true JPS6187637A (ja) | 1986-05-06 |
| JPS6362502B2 JPS6362502B2 (ja) | 1988-12-02 |
Family
ID=16337393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60195216A Granted JPS6187637A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | ステロイド合成中間体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6187637A (ja) |
-
1985
- 1985-09-03 JP JP60195216A patent/JPS6187637A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6362502B2 (ja) | 1988-12-02 |
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