JPS619468A - 透明電極形成用インキ - Google Patents
透明電極形成用インキInfo
- Publication number
- JPS619468A JPS619468A JP59131311A JP13131184A JPS619468A JP S619468 A JPS619468 A JP S619468A JP 59131311 A JP59131311 A JP 59131311A JP 13131184 A JP13131184 A JP 13131184A JP S619468 A JPS619468 A JP S619468A
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- JP
- Japan
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- ink
- transparent electrodes
- forming transparent
- transparent electrode
- indium
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- Pending
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- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、スクリーン印刷によって基体上にパターン状
印刷をした後、これを焼成して透明電極を得ることので
きる透明電極形成用インキに関するものであり、主とし
てエレクトロニクス産業において利用できるものである
。
印刷をした後、これを焼成して透明電極を得ることので
きる透明電極形成用インキに関するものであり、主とし
てエレクトロニクス産業において利用できるものである
。
従来例の構成とその問題点
透明基板上に形成したインジウム、スズなどの酸化物薄
膜は、透明電極として優れた性能を有している。このよ
うな金属酸化物からなる透明電極は、表示素子、太陽電
池などの重要力構成材料の一つとして、近年その需要は
拡大してきている。
膜は、透明電極として優れた性能を有している。このよ
うな金属酸化物からなる透明電極は、表示素子、太陽電
池などの重要力構成材料の一つとして、近年その需要は
拡大してきている。
このものの主流としては、スズをドープした酸化インジ
ウム膜であるが、その形成方法として、真空蒸着法、ス
プレー法、ＣＶＤ法、スクリーン印刷法などがあるが、
製造工程の繁雑さや量産性などの点から、これらの中で
も特にスクリーン印刷法は有利な形成方法である。
ウム膜であるが、その形成方法として、真空蒸着法、ス
プレー法、ＣＶＤ法、スクリーン印刷法などがあるが、
製造工程の繁雑さや量産性などの点から、これらの中で
も特にスクリーン印刷法は有利な形成方法である。
すなわち、スクリーン印刷法では、インジウムとスズの
化合物を含有するインキを、基体にパターン状形成でき
るため、他法によるようなエソチング工程が不要であり
、さらに焼成によって製造できるため、連続的な量産ラ
インによる製造が可能で、量産性に富むという利点があ
る。また、製造設備として、スクリーン印刷機と焼成炉
が必要なだけであるため、設備費の点でも真空系を用い
る方法に比べて有利である。
化合物を含有するインキを、基体にパターン状形成でき
るため、他法によるようなエソチング工程が不要であり
、さらに焼成によって製造できるため、連続的な量産ラ
インによる製造が可能で、量産性に富むという利点があ
る。また、製造設備として、スクリーン印刷機と焼成炉
が必要なだけであるため、設備費の点でも真空系を用い
る方法に比べて有利である。
しかしながら、従来のこの種のインキは、化学的安定性
の点で問題が多く、このため印刷作業時の作業性が悪い
、インキ自体のポットライフが短かいなどの欠点があっ
た。また、印刷膜面の平滑性や、パターンエツジの盛り
上がりゃにじみに難点のあるものが多く、焼成して仕上
がった透明電極の表面に、膜厚のバラツキによるムラが
生じゃすいものであった。このため電極の見栄えが悪く
、表面抵抗のバラツキが大きいという欠点も有していた
。
の点で問題が多く、このため印刷作業時の作業性が悪い
、インキ自体のポットライフが短かいなどの欠点があっ
た。また、印刷膜面の平滑性や、パターンエツジの盛り
上がりゃにじみに難点のあるものが多く、焼成して仕上
がった透明電極の表面に、膜厚のバラツキによるムラが
生じゃすいものであった。このため電極の見栄えが悪く
、表面抵抗のバラツキが大きいという欠点も有していた
。
一方、増粘剤トシてエチルセルロースやニトロセルロー
スを用いる方法では、比較的好結果が得られているよう
であるが、これらのものは熱安定性などの点で、焼成後
にも透明電極中に残留物を生じ、表面抵抗を上昇させる
という欠点を有していた。
スを用いる方法では、比較的好結果が得られているよう
であるが、これらのものは熱安定性などの点で、焼成後
にも透明電極中に残留物を生じ、表面抵抗を上昇させる
という欠点を有していた。
発明の目的
本発明の目的は上記の欠点をなくし、印刷作業性が良く
、形成した膜面が良好な透明電極形成用インキを提供す
ることにある。
、形成した膜面が良好な透明電極形成用インキを提供す
ることにある。
発明の構成
この目的を達成するために本発明の透明電極形成用イン
キは、インジウム化合物を主剤とし、これに添加物とし
てスズ化合物を含有し、溶剤として脂肪族炭化水素の単
独またはその混合物と芳香族炭化水素の混合物の内の少
なくとも１種と、沸点１００℃以上のケトン類、アルコ
ール類およびエステル類の内の少なくとも１種を含有し
、かつ増粘剤として平均分子量１５００〜３５０ｏのジ
エン系ポリマーを含有することから構成されている。
キは、インジウム化合物を主剤とし、これに添加物とし
てスズ化合物を含有し、溶剤として脂肪族炭化水素の単
独またはその混合物と芳香族炭化水素の混合物の内の少
なくとも１種と、沸点１００℃以上のケトン類、アルコ
ール類およびエステル類の内の少なくとも１種を含有し
、かつ増粘剤として平均分子量１５００〜３５０ｏのジ
エン系ポリマーを含有することから構成されている。
実施例の説明
以ド、本発明の実施例について説明する。
実施例１
下記のような組成にインキを調整した。
２−エチルへキサン酸インジウム １９．２５
ｉｎ２−エチルヘキサン酸スズ ０．８
Ｆテトラリン ２８ｙジ
エチルベンゼン ２８タクメ
７ ２８Ｆトルエン
Ｔ４ｙメチルシクロへ
キサノン ５ｙ末端水酸基ポリブタ
ジエン １１ｙ〔出光石油化学（株）製
、商品名；Ｒ−４５Ｍ］このインキを用いて、ソーダ石
灰ガラス板上にスクリーン印刷を行った。ここで、スク
リーン版トシて２６０メツシユのポリエステルネットで
、乳剤厚が１０μのものを用いた。また、印刷は連続的
に５０回行っだ。このようにして印刷したガラス板を６
０℃で１５分間乾燥し、これらを大気中で５００℃にて
６０分間保持させることによって透明電極を得た。こう
して得られた透明電極は、印刷回数によらず平滑であり
、パターンエツジのにじみなどは認められなかった。
ｉｎ２−エチルヘキサン酸スズ ０．８
Ｆテトラリン ２８ｙジ
エチルベンゼン ２８タクメ
７ ２８Ｆトルエン
Ｔ４ｙメチルシクロへ
キサノン ５ｙ末端水酸基ポリブタ
ジエン １１ｙ〔出光石油化学（株）製
、商品名；Ｒ−４５Ｍ］このインキを用いて、ソーダ石
灰ガラス板上にスクリーン印刷を行った。ここで、スク
リーン版トシて２６０メツシユのポリエステルネットで
、乳剤厚が１０μのものを用いた。また、印刷は連続的
に５０回行っだ。このようにして印刷したガラス板を６
０℃で１５分間乾燥し、これらを大気中で５００℃にて
６０分間保持させることによって透明電極を得た。こう
して得られた透明電極は、印刷回数によらず平滑であり
、パターンエツジのにじみなどは認められなかった。
実施例２
下記のような組成にインキを調整した。
２−エチルへキサン酸インジウム １４．４７２
−エチルヘキサン酸スズ ０．６ｙデカリ
ン ２５り混合キシ
レン ９Ｆジエチルベン
ゼン ９ｙテトラリン
１８Ｆ酢酸ベンジル
４ノベンジルアルコール
４１ジエン系ポリマー
８ｙ〔日本曹達（株）製、商品名；１曹
ＰＢ、Ｂ−２０００）このインキを用いて実施例１と同
様な方法によって透明電極を得た。この透明電極におい
ても実施例１と同様の結果が得られた。
−エチルヘキサン酸スズ ０．６ｙデカリ
ン ２５り混合キシ
レン ９Ｆジエチルベン
ゼン ９ｙテトラリン
１８Ｆ酢酸ベンジル
４ノベンジルアルコール
４１ジエン系ポリマー
８ｙ〔日本曹達（株）製、商品名；１曹
ＰＢ、Ｂ−２０００）このインキを用いて実施例１と同
様な方法によって透明電極を得た。この透明電極におい
ても実施例１と同様の結果が得られた。
ここで、両実施例で増粘剤として用いたジエン系ポリマ
ー（末端水酸基ポリブタジェンも含まれる）は、平均分
子量１６ｏＯ〜３５０ｏである。
ー（末端水酸基ポリブタジェンも含まれる）は、平均分
子量１６ｏＯ〜３５０ｏである。
なお、上記実施例においてインジウム化合物。
スズ化合物および増粘剤としてのジエン系ポリマーを溶
解させるための溶剤として使用したテトラリン、ジエチ
ルベンゼン、クメン、トルエン、混合キシレン、ジエチ
ルベンゼンは芳香族炭化水素。
解させるための溶剤として使用したテトラリン、ジエチ
ルベンゼン、クメン、トルエン、混合キシレン、ジエチ
ルベンゼンは芳香族炭化水素。
デカリンは脂肪族炭化水素、メチルシクロヘキサノンは
沸点が１００℃以上のケトン類、ベンジルアルコールは
沸点が１００℃以上のアルコール類。
沸点が１００℃以上のケトン類、ベンジルアルコールは
沸点が１００℃以上のアルコール類。
さらに酢酸ベンジルは沸点が１００″Ｃ以上のエスチル
類である。
類である。
そして、実施例では脂肪族炭化水素を単独で用いだが、
これはその混合物を用いてもよい。また、脂肪族炭化水
素の単独またはその混合物と、芳香族族炭化水素の混合
物とは、その少なくとも１種を用いればよいことが本発
明者の実験により確認された。同様に、沸点１００’Ｃ
以上のケトン類。
これはその混合物を用いてもよい。また、脂肪族炭化水
素の単独またはその混合物と、芳香族族炭化水素の混合
物とは、その少なくとも１種を用いればよいことが本発
明者の実験により確認された。同様に、沸点１００’Ｃ
以上のケトン類。
アルコール類およびエステル類についても少なくとも１
種を上記溶剤と共に用いれば、上記実施例と同様な結果
が得られることが確認された。
種を上記溶剤と共に用いれば、上記実施例と同様な結果
が得られることが確認された。
発明の効果
以上の実施例から解るように、本発明の透明電極形成用
インキは、増粘剤として平均分子量１５００〜３５００
のジエン系ポリマーを含有することにより、印刷作業性
が良く、また平滑性が良好で、表面抵抗のバラツキが少
ない透明電極が得られ、その効果は実用上大きなものが
ある。
インキは、増粘剤として平均分子量１５００〜３５００
のジエン系ポリマーを含有することにより、印刷作業性
が良く、また平滑性が良好で、表面抵抗のバラツキが少
ない透明電極が得られ、その効果は実用上大きなものが
ある。
Claims (1)
- インジウム化合物を主剤とし、これに添加物としてスズ
化合物を含有し、溶剤として脂肪族炭化水素の単独また
はその混合物と芳香族炭化水素の混合物の内の少なくと
も１種と、沸点１００℃以上のケトン類、アルコール類
およびエステル類の内の少なくとも１種を含有し、かつ
増粘剤として平均分子量１５００〜３５００のジエン系
ポリマーを含有することを特徴とする透明電極形成用イ
ンキ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59131311A JPS619468A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 透明電極形成用インキ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59131311A JPS619468A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 透明電極形成用インキ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS619468A true JPS619468A (ja) | 1986-01-17 |
Family
ID=15054988
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59131311A Pending JPS619468A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 透明電極形成用インキ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS619468A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5204177A (en) * | 1986-03-06 | 1993-04-20 | Catalysts & Chemicals Industries, Co., Ltd. | Process for preparing conductive fine particles and conductive coating materials containing said particles |
| KR100241607B1 (ko) * | 1991-12-27 | 2000-02-01 | 박영구 | Ito막의 형성방법 |
-
1984
- 1984-06-26 JP JP59131311A patent/JPS619468A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5204177A (en) * | 1986-03-06 | 1993-04-20 | Catalysts & Chemicals Industries, Co., Ltd. | Process for preparing conductive fine particles and conductive coating materials containing said particles |
| KR100241607B1 (ko) * | 1991-12-27 | 2000-02-01 | 박영구 | Ito막의 형성방법 |
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