JPS62111982A - 置換ピリジンスルホンアミド系化合物及びそれらを含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、新規な’、ｒｒ換ピリジピリジンスルホンア
ミド系化合物れらを有効成分として含有する除草剤並び
にそれらの化合物の製造方法に関する。

（発明の開示） 本発明の化合物は、Ｆ　ｉｉ！一般式（１）で表わされ
る新規な置換ピリジンスルホンアミド系化合物である。

一般式（■）： ル基、メトキシ基又はエトキシ基であり、Ａは−Ｎ−基
又は＝Ｃ１４−基である〕 前記一般式（１）におけるＲ中のＲ６、Ｒ２のうら、Ｒ
１で表わされるアルキル（ＣＩ−４）基は、１個以−１
−のハロゲン原子で置換されていてもよくまた、Ｒ，、
Ｒ２で表わされるアルキル（Ｃ８〜４）基としてはメチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、１Ｓｏ−プロピル基
、ｎ−ブチル基、１ｓｏ−ブチル基、５ｅｃ−ブチル基
などが挙げられる。また、ハロゲン原子としては、塩素
原子、弗素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。ま
た、前記一般式（１）中、Ｘで表わされるハロゲン原子
としては、塩素原子、弗素原子、臭素原子、沃素原子が
挙げられる。

本発明の置換ピリジンスルホンアミド系化合物は、ナト
リウＪ１、カリウムなどのアルカリ金属塩、マグネシウ
ム、カルシウムなどのアルカリ土類金属塩或いはジメチ
ルアミン、トリエチルアミンなどの第四級アンモニウム
塩を形成することもできる。

前記一般式（１）で表わされる新規な置換ピリジンスル
ボンアミド系化合物は下記の方法によって製造される。

一般式（■）： 基、−ＮＣＯ基又は−Ｎ　ＩＩ　ＣＯＲ：ｌ基である＜
　ｒ＞　１はアルキル（Ｃ５〜、）基又はアリール基で
ある）〕で表わされる置換ピリジン系化合物と、一般式
（Ｉ■）： ・ゾ 〔式中、Ｘ、Ｙ及びＡは前述の通りであり、Ｚ２は−Ｎ
Ｈ２基、又は−Ｎ　！Ｉ　ＣＯＲ１占（であり、がっＺ
ｌが−ＮＣＯ基又は−Ｎ　ＩＩ　ＣＯＲ３２と〕場合Ｚ
２は−Ｎ　［１２基であり、２．が−Ｎ　Ｒ７基の場〔
〕 の通りである）〕で表わされる複素環系化合物とを反応
させる。

前記一般式（ＩＩ）、（ＩＩ＋）におけるＺ４、Ｚ２中
のＲ１で表わされるアルキル（Ｃ，〜４）基としては具
体的には、Ｒ７及びＲｔについて上記したと同様なアル
キル基が挙げられ、またアリール基としてはフェニル基
、塩素原子で置換されたフェニル法、メチル基で置換さ
れたフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。

具体的には、例えば次のような方法によって製（Ａ） ＣＢ） （Ｃ） 〔式中、Ｒ，Ｘ、Ｙ、Ａ及び１７．は前述の通りである
〕 上記反応〔Δ〕は塩基の存在下で行なわれ、」二記反応
（Ｂ）及び（Ｃ）も必要に応じて塙拮の存在下で行なわ
れる。また」二記反応〔八）、（Ｒ３）及び（Ｃ）は必
要に比、シフ　７’（ｆ媒の存在下で行なわれる。）容
媒としては、ベン１！ン、１−ルーエン、二１−シレン
、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類：　Ｂ　− ク１コロポルＪ１、四塩化炭素、塩化メチレン、ジク　
　１１」ロエタン、トリクロロエタン、ヘキサノ、シフ
ｌ」ヘキ・すンなどの環状又は非環状脂肪族炭化水素類
ニジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒトミコフラ
ンなどのエーテル類；アセ１−二トリル、フ。

ロピオニトリル、アクリロニトリルなどのニトリルミｎ
＝ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非プロトン
性極性溶媒などが挙げられる。

前記反応式中の（ＩＩ）で表わされる原料化合物のうち （ＩＩ　）　　　　　　　　　（ＩＩ　）で表わされる
化合物は例えば次のような方法で製造することができる
。

Ｄ　〕 （−Ｖｌ ｉｏ−一 また前記反応式中の（ＩＶ　）で表わされる原料化合物
のうち （ＴＶ）　　　　　　　　　　（ＩＶ）で表わされる化
合物は例えば次のような方法で製造することができる。

（］Ｙ′つ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　（−Ｊｖつ更に前記一般式中の（Ｖ）で表わ
される原料化合物は、例えば次のような方法で製造する
ことができる。

（Ｒ，、Ｒ＋、Ｒｚ及びＲ１は前述の通りである）原料
化合物の製造法におりる各反応の反応温度、反応時間、
必要に応して使用される溶媒、アルカリ性物質などの反
応条（’Ｌ　ｔ；Ｉ、ｉｍ常同様の反応に土？ける反応
条件から適宜選択できる。

上記一般式中（■）で表わされる化合物は、ジャーナル
・オブ・アメリカン・ゲミカル・ソシエティー・６６巻
１１　（ｉ　ｆｉ　ｊ’Ｌ　（１９４４）に記載されて
いる。

前記製造方法〔Ｉ〕〕及び〔１う〕によるＷ換スル次に
本発明化合物の具体的合成例を記載する。

合成例１．　　　Ｎ−（（４，６−ジメ１−キシピリミ
ジン−２−イル）アミノカルボニル） −３−メ１〜キシメチルビリジンー２−スルボンアミド
の合成 （１）　　　２−−クロロニコチン酸３２．４　ｇ及び
塩化チオニル１４２．８ｇの混合物を還流攪拌下、２時
間反応させた後、過剰の塩化チオニルを減圧留去した。

生じた２−クロロニコチン酸クロライドに塩化メチレン
１２０ｍ１を加え溶解した。続いて室温でメタノール６
０ｍ　ｌ及びトリエチルアミン２０．２　ｇを順次滴下
し、還流下で２時間反応させた後、水中投入し、塩化メ
チレンで抽出した。抽出後、塩化メチレンを留去し、メ
タノール３００ｍ１を加え、室温で水素化ホウ素ナトリ
ウム２８．２ｇを１．５時間かけて分割投入し、還流下
で２時間反応させた。

反応後、反応物を水中投入し、塩化メチレンで抽出した
。抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、塩化メチレン
を抽出して、油状の２−クロロ−３−ヒドロキシメチル
ピリジン１５．８　ｇを得た。

〔２〕　　２−クロロ−３−ヒドロキシメチルピリジン
１４．４　ｇを溶解させた塩化メチレン溶液３００ｍ　
ｌに１４．４　ｇの臭化チオニル４１．４　ｔτを加え
、還流下で１．５時間反応させた。反応生成物を水中投
入し、塩化メチレンで抽出した。抽出物は飽和重曹水及
び水で洗浄した後、無水硫酸すトリウムで乾燥し、塩化
メチレンを減圧留去した。

こうして生成した３−ブロモメチル−２−クロロピリジ
ンは精製することなく　　１４０ｍ１のメタノールに溶
解させ、室温で２８％す１リウムメトキリーイド５．９
ｇを加えた。続いて還流下で、更に１時間反応を行った
後水中投入し、塩化メチレンで抽出した。抽出物は無水
硫酸すトリウムで乾燥した後、塩化メチレンを減圧Ｗ／
去し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、油状の
２−クロロ−３−メトキシメチルピリジン１０ｇを４１
）だ。

〔３〕　前記工程〔１〕で１（）た２−クロロ−３−メ
トキシメチルピリジン１０ｇ、ジメチルスルホキシド１
００ｍ１、炭酸カリウムＩｔ　、　１１　Ｒを混合し、
１００℃でベンジルメルカプタン９．４［を溶解したジ
メチルスルホキシド溶液２０ｍ１を３０分間にわたり滴
下した。

滴下終了後１．５時間反応させ、水中に投入し塩化メチ
レンで抽出した。抽出物は無水硫酸すトリウムで乾燥後
、塩化メチレンを減圧留去し、シリカゲルクロマトグラ
フィーで精製し、油状の２−ヘンシルチオ−３−メトキ
シメチルビリジン１３ｇを得た。

〔４〕　前記工程〔２〕で得た２〜ベンジルチオ−３−
メトキシメチルビリジン１２ｇ、酢酸４５ｍ１及び水４
５ｍ１の混合溶液を５℃に冷却し、塩素ガスをわずかに
塩素色がつくまで通じた後、酢酸エチル５００ｍ１を加
え、濃アンモニア水３００ｍ１及び氷２００ｇの混合物
中に投入した。約１５分間攪拌した後酢酸エチル層を分
離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、シリカゲルク
ロマトグラフィーで精製して、融点８７．５〜８９°Ｃ
の３−メトキシメチルピリジン−２−スルホンアミド６
．９ｇを得た。

〔５〕　前記工程〔３〕で得た３−メトキシメチルビリ
ジン−２−スルボンアミド３００ｍｇと２−フェノ−１
−ジカルボニルアミノ−４，６−ジメトキシピリミジン
４５０ｍ（Ｈを溶解した無水アセトニトリル溶液１０ｍ
１に、室温で１，５−ジアザビシクロ（５゜４．０）−
５−ウンデセン２４９ｍＦＸを１’、！　＋１’下に加
え、４０分間反応させた。その後反応物を１００ｍ１の
水中に投入し、濃塩酸で弱酸性にし、約３０分間放置゛
後析出した結晶を濾別、乾燥して融点１５１．５〜１．
５３　、５℃のＮ　　（（４，６−ジメ１−キシピミリ
ジンー２−イル）アミノカルボニル〕　−３−メトキシ
メチルピリジン−２−スルホンアミド４７０ｍ＋′！を
ｆＦた。

合成例２．　　　Ｎ−ＣＣ４−りｌ：ｌ　ｌ：ｌ　−Ｇ
−工トキシピリミジン−２−イル）アミノカルボ ニル〕−３−メ１キシメチルビリジン ＝２−スルボンアミドの合成 （１］　　６０％水素化す１リウＪ、１９（ｌｎｖを溶
解したジメチλレボルＪ、テミ１゛のスラリ−２４２反
５ｍｌに０℃で３−メトキシメチルビリジン−２−スル
ボンアミド１０００ｍｇを溶解したジメ・ｙ−ルポルム
アミ１゛溶液１０ｍ１を加え、１５分間攪ＩＴ　後、ジ
フェニルカーボネート１０７０ｍｇを？容乃イしたジメ
千ルホルムアミ１゛？容ン皮５ｍｌを０℃で加え、室温
で１５時間反応させた。仕成物を水中投入し、酢酸エチ
ルで洗浄後、水層を濃塩酸で弱酸性とし、Ｉ’ｌｌ酸コ
ーチルで抽出した。抽出物を無水硫酸す１−リウＪ、で
く■ｚ燥し、西１酸エチルを減圧留去し、生じた結晶を
酢酸エチルとヘキサンから再結晶し融点１１４〜１１７
℃のフェニル３−メ１−キシメヂルビリジンー２−スル
ホニルカーバメート１．３ｇを６７だ。

（２）　　ｆｔ１Ｊ記工程〔１〕で得たフェニル３−メ
トキシメチルビリジン−２−スルホニルカーバメーＩ・
０．５ｇ、２−アミノ−４−クロロ−６−ニトキシピリ
ミジン０．２７　ｇ　−Ｌ　４−ジオキサン１０ｍ１の
混合溶液を３０℃で３０分間攪拌下反応させた。反応生
成物を１００ｍ１の水中に投入し、塩化メチレンで抽出
した。抽出物は無水硫酸ナトリウムで乾燥後、塩化メチ
レンを減圧留去し、シリカゲルクロマトグラフィーで精
製して、融点１２１〜１２２℃のＮ−〔（４−クロロ−
６−ニトキシピリミジンー２−イル）アミノカルボニル
〕−３−メｌ−キシメチルピリミジン−２−スルボンア
ミド０．５ｇを得た。

合成例３．　　　Ｎ−（（４，６−シメトキシピリミジ
ンー２−イル）アミノカルボニル〕− ３−アセチルピリジン−２−スルボン アミドの合成 〔１〕　　２−クロロニコチン酸２６ｇ及び塩化チオニ
ル７６．６　ｇの混合物を還滓Ｆ２時間反応させた。

反応液より過剰の塩化チオニル及び生じた塩酸を減圧留
去した後、２００ｍ１のテトうしドロフランを加え、−
７８℃まで冷却した。次に一７８℃でメチルマグネシウ
ムプロマイ１゛１モルを溶解したテトラヒドロフラン溶
液Ｉ　Ｇ　］、　ｍ　Ｉを滴下し、徐々に室温になるま
で反応させた。反応液を水中投入し、濃塩酸酸性とし塩
化メチレンで油出した。抽出物Ｉｔ減圧で塩化メチレン
を留去した後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し
、油状の３−７セチルー２−クロロピリジン１７ｇを得
た。

〔２〕　前記工程〔１〕で得ノ、：３−アセチル−２−
クロロピリジン１０ｇ１炭酸カリウム１０．７　ｇ　、
ジメチルスルホキシド１００ｍ１の混合物を撹拌下８０
℃まで昇温し、ベンジルメルカプタン９，６αを溶解し
たジメチルスルボキシド？容？（１４０ｍ　ｌを４５分
間にわたり滴下した。滴下終了後１００℃で約１時間反
応させた。反応液を水中投入し、塩化メチレンで抽出し
、無水硫酸す１−リウムで乾燥させた後、塩化メチレン
を減圧留去し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し
、融点６９．５〜７１℃の３−ア七−ｙ−ルー　Ｉ　８
− ２−ベンジルチオピリジン１１．３　ｇを得た。

〔３〕　前記工程〔２〕で得た３−アセチル−２−ベン
ジルチオピリジン８．０ｇ、　１．３−エタンジチオー
ル３．４ｇ、メタンスルボン酸３．２ｇ、　　トルエン
１５ＱＩＩｌｌの混合物をディーンスターク共沸脱水条
件下で反応させた。

生成物はカラムクロマトグラフィーで精製し、融点８３
〜）１５℃の３−アセチルピリジン−２−スルボンアミ
ド２．３ｇを得た。

〔４〕　前記工程〔３〕で得た３−アセチルピリジン−
２−スルボンアミド３００ｍｇと２−フェノキシカルボ
ニルアミノ−４，６−シメトキシビリミジン４５７Ｂを
溶解した無水アセトニトリル溶液１０ｍ１に室温で１．
５−ジアザビシクロ（５，４，０）−５−ウンデセン２
５１ｍｇを攪拌下に加え、３０分間反応さ−また。その
後反応物を１００ｍ１の水中に投入し、濃塩酸で弱酸性
にし、塩化メチレンで抽出した。抽出物は無水硫酸すＩ
・リウムで乾燥後、塩化メチレンを減圧留去し、シリカ
ゲルクロマトグラフィーにより精製し、融点１５６．５
〜１５８．５℃のＮ−（（４，６−ジメト二Ｆシピリミ
ジンー２−イル）アミノカルボニル〕−３−アナチルピ
リジン−２−スルホンアミド　１７０ｍ（Ｈを得た。、
′合成例４．　　　Ｎ−（（、Ｉ、（ｉ−ジメトキシ１
ヘリアジン−２−イル）アミノカルボニル〕− ３−トリフル第１１工１コ１−ジメチル１ピリジン−２
−スルポンアミドの製法 （１）Ｉ−リフルオロエタノール７．５８を溶解した乾
燥テトラヒドロフラン溶液５０ＩＩ＋１に金属すトリウ
ム１．２ｇを加え、約１時間反応させた後、さらに３−
ブロモメチル−２−りＬ：Ｉ　ｌ：ｌピリジン５．２ｇ
を溶解した乾燥テトラヒドロフラン溶液１０ｍ１を室温
で滴下した。続いて徐々に！ｊ１　温し、ｊ■液流下約
２時間反応させ、生成物を水中投入し、塩化メチレンで
抽出した。抽出物は無水硫酸すトリウムで乾燥した後、
溶媒を留去し、シリカゲルクロマ１−グラフィーで精製
して、油状の２−クロロ−３−１−リフルオロエトキシ
メチルビリジン５．０ｇを’＜ｌだ。

〔２〕　　２−りＬＪ　ｌ：ｌ−３−ｌ−リフルオｒ：
Ｉエトキシメチルビリジン５　［ｒ及び無水炭酸カリウ
Ｊ、、　２　、７１１ヲ加えた乾燥ジメチルスルホ−１
−シ１′溶液５０ｍ１に１１０〜１３０“Ｃでベンジル
メルカプクン３　、３　ｇを３０分間に亘り滴下した後
１２０℃で１時間攪拌し反応を終了した。

反応後、反応物を水中に投入し、塩化メチレンで抽出し
た。抽出物は無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を
留去し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製して油状
の２−ベンジルチオ−３−１−リフルオロエトキシメチ
ルピリジン５．９ｇを得た。

（３）　　　２−ベンジルチオ−３−トリフルオロエト
キシメチルピリジンＩｇを溶解した５０％酢酸水溶液１
０ｎ＋１に０℃以下で、反応系内が少し着色する程度塩
素ガスを導入した。塩素ガス導入後、反応液に塩化メチ
レン１００ｍ１を加え、濃アンモニア水３０ｍ１と氷１
５ｇの混合物中に投入した。続いて塩化メチレン層を分
離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去し
て、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、融点１０
７．５〜１０９℃の３−トリフルオロエトキシメチルピ
リジン−２−スルホンアミド０．３ｇを得た。

（４）　　　３−）リフルオロエトキシメチルピリジン
−２−スルホンアミド３００ｍｇと２−フェノキシ＝２
１− カルボニルアミノ−４，６−ジメ１−キシトリアジン３
３７ｍｇを溶解した無水アセトニトリルに室温で１．５
−ジアザビシクロ（５，４．０）−５−ウンデセン１８
６ｍｇを攪拌下に加え、２時間反応させた。

反応終了後、反応物を１００ｍｌの水中に投入し、濃塩
酸で酸性にすると結晶がＪｌｉ出した。析出した結晶を
濾取、乾燥して、融点１２３〜１２５．５℃のＮ−（（
４．６−ジメト二１ーシトリアジン−２−イル）アミノ
カルボニル）　−　３　−　１リフルオロエトキシメチ
ルビリジン−２−スルボンアミド３５０ｍｇを得た。

本発明の代表的化合物の例を第２表に挙げる。

第２表 −２３一 本発明除草剤は、他の農薬、肥料、土壌、薬害本発明の
置換ピリジンスルポンアミド系化合物は、後記試験例に
みる通り、除ｉ′１マ剤のイ１効成分として使用した場
合に併れた除草効果を示す。また、それら有害１１（草
が、比較的十′ｌ′ｒの進んだものであっても防除でき
るのでり「ましいものである。

本発明の除草剤の適用範囲は、畑地、果樹園、桑園など
の農耕地、山林、農ｉｆｌ、グランド、工場敷地などの
非農耕地と多岐にわたり、また適用方法も土壌処理、茎
葉処理を適宜選択できる。

本発明除草剤を施用する場合、通常ば担体、必要に応じ
て希釈剤、溶剤、乳化剤、展着剤、界面活性剤などの各
種補助剤と混合して、粒剤、水和剤、乳剤、液剤などに
製剤して使用する。有効成分化合物と農薬用補助剤との
適当な配合重量比は、一般に０．１　：　９９．９〜９
０　：　１０、望ましくは、１：９９〜６０　：　４０
である。有効成分化合物の使用適■は、気象条件、土壌
条件、薬剤の製剤形態、対象雑草の種類、施用時期など
の相違により一概に蜆、定できないが、一般に１アール
当たりの施用有効成分量としてば、０．旧〜１．ＯＯｇ
、望ましくは０．１〜５０ｇである。

３−（３，４−ジクロし１フエニル）−１，１−ジメチ
の場合に一層優れた効果・作用性を示すことがある。他
の除草剤と混用或いは併用する場合、その混合相手除草
剤の有効成分としては、例えば次のようなものが挙げら
れる。

４−アミノ−３，５，６−１−ジクロロー２−ピリジン
カルボン酸カリウム ２．４−ジクロロフェノキシ酢酸エチル２−メチル−４
−クロロフェノキシ酢酸エチル４−アミノ−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−３−（メチルチオ）　−１，２，ｉｉ−ト
リアジン−５（４Ｈ）−オン２−（２−クロロ−４−エ
チルアミノ−８−）リアジン−６−イルアミノ）−２−
メチルプロピオニ　　ト　　リ　　ル ２−クロロ−４，６−ビス（エチルアミノ）−３−トリ
アジン ２−クロロ−４−エチルアミノ−６−イソプロビルアミ
ノ−５−１−リアジン Ｎ−（５−（１，１−ジメチルエチル）−３−イソオキ
ザゾール）−Ｎ、Ｎ−ジメチルウレア３−（３，４−ジ
クしＩ　ｔｌフェニル）−１−メトキシ−１−メチルウ
レア ３．５−ジニトロ−Ｎ’、　　Ｎ’−ジプロピルスルフ
ァニルアミド ２−メチルチオ−４−エチルアミノ−６−イソプロピル
アミノ−５−１−リアジン α−（４−（５−トリフルオロメチル−２−ピルジルオ
キシ）フェノニ１−シ〕プロピオン酸−ｎ−フ′チル α−（４−（２，４−ジクロ１１フエノキシ）フェノキ
シ〕プロピオン酸メチル α−（４−（３−クロロ−５−１−リフルオロメチル−
２−ピリジルオキシ）フェノキシ〕プロピオン酸メチル ２−　（１−（エトキシイミノ）−ブチル〕−５＝（２
−エチルチオプロピル）−３−ヒドロキシ−２−シクロ
ヘキセン−１−オン １．１′−ジメチル−４，４′−ビピリジリウムジクロ
リド Ｎ−（ホスホノメチル）グリシンのイソプロピルアζン
塩 Ｎ−メトギシカルポニルスルファニルアミドナトリウム ２．２−ジクロロプロピオン酸すｌ・リウム３．４−ジ
クロロプロピオンアニリド ■、２−ジメチル−３，５−ジフェニル−Ｌ　Ｈ−ピラ
ゾリウムメチルスルフェート Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−（３−クロロ−４−フルオロフェ
ニル）−２−アミノプロピオン酸エチル３．４−ジメチ
ル−２，６−シニトローＮ−１−エチルプロピルアニリ
ン α、α、α−トリフルオロー２，６−　ジニトロ−Ｎ、
Ｎ−ジプロピル−ｐ−１−ルイジン２−りｌ−目二１−
ｚ’＋ｅ’−ジエチル−Ｎ−（メトキシメチル）アセト
アニリド ２−クロロ−Ｎ−（２−エチル−６−メチルフェニル）
−Ｎ−（２−メトキシ−１−メチルエチル）アセトアミ
ド ５′−（１−リフルオｌコメタンスルホンアミド）アセ
１、−２’、４−キシリジット ２−クロロ−Ｎ−イソプ１′！ビルアセ１−アニリド３
．５−ジブ１′−Ｉ−Ｔニー４−ヒｌｊ　ｔ＋ギシヘン
ゾニトリル３．５−ショート−４−オクタノイルオー１
−シヘンゾニトリル ４−クロし】ブチ−２−ニル−Ｎ−＜３−クロ１コフエ
ニル）カーバメー１− 次に本発明除草剤の試験例を記載する。

試験例１゜ １　／１０．０００アールボットに水１−１１土壌を詰
め、ヒエ及びホタルイの種子並びにウリカワの塊茎を播
種し、湿潤状態に保った。ヒエが０．５葉１す１に生育
した後約３ｃｍに潅水し、本発明除ｒ、＋（刑の水和剤
を水で希釈し、所定徂をピペットで滴Ｆ処理した。

薬剤処理２１ＥＩ後に生育状ＪＩＪｉを肉１１１シで観
察し、下記の基準（１〜５の５点法）にノ１（つい“Ｃ
η−育聞制程度を評価し、その結果を表１にＩｌｌ’、
、！載した。

？ｔ、　Ｙｒ　１１１１制稈１α（ 第１表 試験例２゜ １／１．５００アールボッｌ−に畑地土壌を詰め、各種
植物の種子を播種した。その後、植物が一定の生育段階
に達したとき（大豆が初葉朋、Ｉ・ウモロコシが３葉期
、棉が子集朋、オナモミが２葉期、アサガオが１葉期、
タデが１葉期、アメリカキンゴジカが１葉期、アオビユ
が１葉期、ヒエが２葉期）、本発明除草剤の水和剤を５
００　（！　／　Ｉ＋ａの量の水で希釈して、有効成分
が１ＩＪｉ　＞、ｉｆｆ量となるように小型スプレーで
茎葉処理した。処理後、２〜３週間各種植物の生育状１
黒を肉眼ｔｔｌｔ察し、１０段階（１：無処理区と同様
〜１０：完全に聞制）で生育抑制程度を評価し、表２の
結果を得た。

第２表 第２表続き 次に、本発明除草剤の製剤例を記載する。

製剤例１ （ｉ）ヘントナイト６ （２）シークライ１へ　　　　　　　３３．８重量部（
３）リグニンスルボン酸ソーダ　　５重量部（４）化合
物Ｎｌ　ｌ　　　　　　　　　　Ｏ．２重量部以上の各
成分に適量の造粒所要水を加え、混合、造粒して粒剤を
得た。

製剤例２ （１）ジ−クライト７８重量部 （２）ラヘリンＳ（商品名：第−工業製薬製）２重量部 （３）ツルポール５０３９　（商品名；東邦化学工業製
）５重量部 （４）カープレックス（商品名：塩野義製薬製）１５重
量部 以」二（１）〜（４）の成分の混合物と化合物阻３とを
４：１の重量割合で混合して水和剤を得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは−ＣＨ＿２ＯＲ＿１基又は−ＣＯＲ＿２基
   （Ｒ＿１はハロゲン原子で置換されていてもよいアルキ
   ル（Ｃ＿１〜＿４）基であり、Ｒ＿２はアルキル（Ｃ＿
   １〜＿４）基である）であり、Ｘはメチル基、メトキシ
   基又はエトキシ基であり、Ｙはハロゲン原子、メチル基
   、メトキシ基又はエトキシ基であり、Ａは＝Ｎ−基又は
   ＝ＣＨ−基である〕で表わされる置換ピリジンスルホン
   アミド系化合物。 ２、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは−ＣＨ＿２ＯＲ＿１基又は−ＣＯＲ＿２基
   （Ｒ＿１はハロゲン原子で置換されていてもよいアルキ
   ル（Ｃ＿１〜＿４）基であり、Ｒ＿２はアルキル（Ｃ＿
   １〜＿４）基である）であり、Ｘはメチル基、メトキシ
   基又はエトキシ基であり、Ｙはハロゲン原子、メチル基
   、メトキシ基又はエトキシ基であり、Ａは＝Ｎ−基又は
   ＝ＣＨ−基である〕で表わされる置換ピリジンスルホン
   アミド系化合物の少なくとも１種を有効成分として含有
   することを特徴とする除草剤。 ３、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは−ＣＨ＿２ＯＲ＿１基又は−ＣＯＲ＿２基
   （Ｒ＿１はハロゲン原子で置換されていてもよいアルキ
   ル（Ｃ＿１〜＿４）基であり、Ｒ＿２はアルキル（Ｃ＿
   １〜＿４）基である）であり、Ｚ＿１は−ＮＨ＿２基、
   −ＮＣＯ基又は▲数式、化学式、表等があります▼基で
   ある（Ｒ＿３は アルキル（Ｃ＿１〜＿４）基又はアリール基である）〕
   で表わされる置換ピリジン系化合物と、 一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘはメチル基、メトキシ基、又はエトキシ基で
   あり、Ｙはハロゲン原子、メチル基、メトキシ基又はエ
   トキシ基であり、Ａは＝Ｎ−基又は＝ＣＨ−基であり、
   Ｚ＿２は−ＮＨ＿２基又は▲数式、化学式、表等があり
   ます▼基であり、かつＺ＿１が−ＮＣＯ基 または▲数式、化学式、表等があります▼基の場合Ｚ＿
   ２は−ＮＨ＿２基であり、Ｚ＿１が−ＮＨ＿２基の場合
   、Ｚ＿２は▲数式、化学式、表等があります▼基である
   （Ｒ＿３は前述の通りであ る）〕で表わされる複素環系化合物とを反応させること
   を特徴とする 一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ、Ｘ、Ｙ及びＡは前述の通りである〕で表わ
   される置換ピリジンスルホンアミド系化合物の製造方法
   。