JPS62115149A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関し、更に詳しく
は、網点品質、写真特性ならびに膜強度の著しく改良さ
れたハロゲン化銀写真感光材料に関する。

［発明の背景］ ある種のハロゲン化銀写真感光材料（以下、単に感光材
料という）を用いて、極めてコントラストの高い写真画
像を形成することができることばよく知られている。

例えば微粒子（平均粒子径が０．２μ）で粒子径分布が
狭く粒子の形がそろっており、かつ塩化銀含有率の高い
（少なくとも５０モル％以上塩臭化銀乳剤よりなる感光
材料をリス現像液（亜硫酸イオン濃度が非常に小さいア
ルカリハイドロキノン現像液）で処理することにより高
コントラストな画像（例えば線画、網点画像）を得る方
法が知られている。

またさらにこの感光材料の写真特性を改良するために常
用されている代表的な添加剤として、例えばジャーナル
・オブ・ザ・フォトグラフィック・サイエンス（Ｊｏｕ
ｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ３
　ｃｉｅｎｃｅ）第１２巻、第５頁（１９６４）等に記
載されているノニオン性界面活性剤がある。これはポリ
アルキレンオキサイド系の化合物であり、リス現像と組
み合わせることにより良好な硬調化作用を示す。

ところで近年、製版業界では自動現像機による感光材料
の大量迅速処理がなされるようになり、感光材料に要求
される物理的性質（例えばひっかき等の膜強度、寸法安
定性等）も高い性能が必要になって来た。その問題を解
決するために感光材料を構成する親水性コロイド層中に
ラテックスを含有させる技術が、例えば米国特許第３，
４１１，９１１号、同第３．４８８．７０８号、同第３
，９３０，１３０号、同第３．９２９，４８２号、特公
昭４５−５３３１号、同５８−１７９４５号、特開昭５
１−１３０２１７号、同５１−１３［）４１９号等に開
示されている。

しかしながら、上記のノニオン性界面活性剤とラテック
スとを共に感光材料中に含有させると硬調化作用が著し
く劣化し、またカブリ濃度を高めたりする欠点があった
。

［発明の目的］ そこで本発明の目的は、膜ダ策度に優れ、しかも網点品
質、写真特性、特に硬調性ならびにカブリ等の改良され
たハロゲン化銀写真感光材料を提供することにある。

［発明の組成］ 本発明の目的は、支持体上に少なくとも一層の写真構成
層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、前記写
真構成層の少なくとも一層には親水性基が表面に固定さ
れているラテックス、アニオン性界面活性剤およびノニ
オン性界面活性剤を含有才しめることによって達成され
た。

［発明の具体的構成１ 本発明に於いて、親水性基がラテックスの表面以下余白 に固定されるとは、ラテックスが親水性基を有するポリ
マーによって保護コロイド化されている状態、あるいは
、親水性基を有する化合物がラテックスの形成反応に関
与し、ラテックス粒子表面に配置されている状態をいい
、いずれもラテックスの安定化に寄与しているものであ
る。

ラテックスが親水性基を有するポリマーによって保護コ
ロイド化されている状態とは、親水性基を有するポリマ
ーがラテックス表面に強く吸着し固定化されている状態
である。また、親水性基を有する化合物がラテックスの
形成反応に関与し、ラテックス粒子表面に配置されてい
る状態とは、親水性基を有する化合物（例えば、親水性
基を有するポリマー、分子構造中に親水性基及びエチレ
ン性二重結合の両方を有するポリマー、分子構造中に親
水性基及びラジカルが連鎖移動し易い基を有する化合物
等がある。）がラテックスの形成反応に関与し、該化合
物の一部がラテックスと共有結合して取り込れた状態で
固定されラテックス粒子表面に配置されている状態であ
る。

親水基を有するポリマーには、合成水溶性ポリマーと天
然水溶性ポリマーとがあるが、本発明ではいずれも好ま
しく用いることができる。このうち、ｌ水溶性ポリマー
としては、分子構造中に例えばノニオン性基を有するも
の、アニオン性基を有するもの並びにノニオン性基及び
アニオン性基を有するものが挙げ゛られる。ノニオン性
基としては、例えばエーテル基、エチレンオキサイド基
、ヒドロキシ基等があげられ、アニオン性基としては、
例えばスルホン酸基あるいはその塩、カルボン酸基ある
いはその塩、リン酸基あるいはその塩、等があげられる
。また、天然水溶性ポリマーとしても分子構造中に、例
えばノニオン性基を有するもの、アニオン性基を有する
もの並びにノニオン性基及びアニオン性基を有するもの
が挙げ゛られる。

親水基を有するポリマーとしては、合成水溶性ポリマー
、天然水溶性ポリマーのいずれの場合にも、アニオン性
基を有するもの並びにノニオン性基及びアニオン性基を
有するものが好ましく用いることができる。本発明では
、親水基を有するボリマーとは、２０℃における水１０
０ｇに対しｏ、　ｏｓｇ以上溶解すればよく、好ましく
は０．１ｇ以上のものである。

合成水溶性ポリマーとしては、下記一般式［Ｐ］の繰り
返し単位をポリマー１分子中１０〜１００モル％含むも
のが挙げられる。

一般式ＩＰ］ 式中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、好ましくは炭素原
子数１〜４のアルキル基（置換基を有するものも含まれ
る。例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等）、ハロゲン原子（例えば塩素原子）または−Ｃ８２
Ｃ００Ｍを表わし、ｌ　バー　ＣＯＮ　）ｌ−１−Ｎｌ
−ＩＣＯ−１−ＣＯＯ−１−ＯＣＯ−１−ＣＯ−または
−〇−を表わし、Ｊはアルキレン基、好ましくは炭素原
子数１〜１０のアルキレン基（置換基を有するものも含
まれる。

例えばメヂレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメ
チレン基、ブチレン基、ヘキシレン基等）、アリーレン
基（置換基を有するものも含まれる。

例えばフェニレン基等）、または 六〇Ｈ２１０Ｉ−１２０〜７→ＣＨ２￥（ＩＩｌは０〜
４０の整数、ｎはＯ〜４の整数を表わ一０Ｍ、−Ｎｌ−
１２、−８○３　Ｍ　−、ＯＰ　　ＯＭ　％０Ｍ −ＣＲ２、水素原子またはＲ３を表わすが、この０Ｍ　
　　　　０ ましく、−３ＯａＭが最も好ましい。Ｍは水素原子また
はカチオンを表わし、Ｒ２は炭素原子数１〜４のアルキ
ル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基等）を表わし、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７および
Ｒ８は炭素原子数１〜２０のアルキル基（例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、デ
シル基、ヘキサデシル基等）を表わし、Ｘはアニオンを
表わし、またｐおよびｑはそれぞれ０または１を表わす
。

次に一般式［Ｐ］の合成水溶性ポリマーの具体例を挙げ
る。

以下余白 ５ｐ−ｉ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
数平均分子量ＭｎＰ−２ Ｐ−３ Ｐ−５ ５Ｐ−６ ＳＰ−７ Ｐ−８ ＣＨ３ Ｐ−１０ ＣＨ。

「 Ｐ−４１ Ｐ−１２ ＣＨ，９，８００ Ｐ−１４ Ｐ−１５ ＳＰ−１７ｏＨ。

Ｐ−１８ Ｐ−１９ Ｐ−２０ ９，０００ Ｐ−２１ Ｐ−２２ Ｐ−２３ Ｐ−２４ Ｐ−２５ ５Ｐ−２６ ＳＰ−２７ ＣＨ。

Ｐ−２８ ＳＰ−２９ＣＨ。

Ｐ−３０ Ｐ−３１ ０３Ｎａ １６３．０００ Ｐ−３２ Ｓ　Ｐ　−３３ Ｐ−３４ Ｐ−３６ ■ ＣＨ。

５Ｐ−４７ ！９ Ｐ−４８ Ｐ−４９ Ｐ−５０ １５，６００ 本発明の合成水溶性ポリマーは、種々の溶液重合、塊状
重合、懸濁重合等の方法で容易に合成する事ができる。

例えば、溶液重合では一般に適当な溶剤（例えばエタノ
ール、メタノール、水等）中で適当な濃度のモノマーの
混合物（通常、溶剤に対して４０重量％以下、好ましく
は１０〜２５重量％の混合物）を重合開始剤（例えば、
過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル、過硫
酸アンモニウム等）の存在下で適当な温度（例えば４０
〜１２０℃、好ましくは５０〜１００℃）に加熱する事
により共重合反応が行われる。その後、生成した水溶性
ポリマーを溶かさない媒質中に反応混合物を注ぎこみ、
生成物を沈降させ、ついで乾燥することにより未反応混
合物を分離除去する。本発明の水溶性ホ１Ｊｖ−（Ｑ分
子ｍは、ｉ、ｏｏｏ　〜ｉ、ｏｏｏ、ｏｏｏ、好ましく
は、２．０００〜２００，０００である。

なお、本発明の水溶性ポリマーの分子量は、数平均分子
量で表わし、測定は東洋曹達（１１製ゲルパーミエイシ
ヨンクロマトグラフイ−ＨＬＣ−８０２Ａを用い標準ポ
リスブレン換算でもとめた。

合成例１（例示化合物５Ｐ−１８） ３−スルホプロピルアクリレートカリウム塩５０ｇ　（
０，２２モル）、４．４’−アゾビス（４−シアツバレ
イン１ｌ）３．ｈ、及び、脱気した水２０（ｈＲを３つ
ロフラスコに入れ、この混合液を８０℃で８時間反応さ
せた。反応終了後、激しく撹拌しながら、多量のアセト
ン中に反応液を注ぎ込み、反応生成物を沈澱させた。次
いで、沈澱をろ過し、アセトンで洗浄、空気中６０℃で
乾燥し、本発明のポリマー５Ｐ−１８を得た。収量は４
５ｇ　（理論収量の９０％）、数平均分子位は　Ｍｎ＝
　４，３００であった。

合成例２（例示化合物ＳＰ’−２１） スチレン５２（Ｊ　　（０，５０モル）、アクリル酸３
６ｇ　（０，５０モル）、４．４’−アゾビス（４−シ
アツバレイン酸ｊ　５．０ｇ、及び、脱気したエタノー
ル５００ｎｆｆを３つロフラスコに入れ、この混合液を
還流下８時間反応させた。反応終了後、激しく撹拌しな
がら、多けのアセトン中に注ぎ込み、後は、合成例１と
同様の処理をして、本発明のポリマー５Ｐ−２１を得た
。収Ｓは８０ｇ　（理論収量の９１％）、数平均分子ｆ
ｆｌＭｎ　＝　２，６００テあった。

合成例３（例示化合物５Ｐ−４２） ヒドロキシエチルメタクリレート５？ （０，４０モル）、２−アクリルアミド−２−メチルプ
ロパンスルホン酸ナトリウム１３７（１（０，６０モル
）、４．４’−アゾビス（４−シアツバレイン酸）　　
ｓ、ｏｇ　、及び、脱気した水〜エタノ−ルー８０／２
０Ｖ この混合液を８０℃で１０時間反応させた。反応終了後
、激しく撹拌しながら、多量のアセトン中に反応液を注
ぎ込み、反応生成物を沈澱させた。

次いで沈澱をろ過し、アセトンで洗浄、空気中６０℃で
乾燥し、本発明のポリマー５Ｐ−４２を得た。収量は１
８０（１　（理論収量の９５％）で数平均分子量Ｍｎ　
＝　　５，３００であった。

天然水溶性ポリマーとしては、水溶性高分子水分散型樹
脂の総合技術資料集（経営開□発センター出版部）に詳
しく記載されているが、リグニン、澱粉、プルラン、セ
ルロース、アルギン酸、デキストラン、デキストリン、
グアーガム、アラビアゴム、グリコーゲン、ラミナラン
、リグニン、ニゲラン等、及びその誘導体が好ましい。

また、天然水溶性ポリマーの誘導体としては、特にスル
ホン化、カルボキシル化、リン酸化、スルホアルキレン
化、又はカルボキシアルキレン化、アルキルリン酸化し
たもの、及びその塩が好ましい。

本発明において、天然水溶性ポリマーは２種以上併用し
て用いてもよい。

また、天然水溶性ポリマーの中では、グルコース重合体
、及びその誘導体が好ましく、グルコース重合体、及び
その誘導体の中でも、澱粉、グリコーゲン、セルロース
、リグニン、デキストラン、ニゲラン等が好ましく、特
にデキストラン、及びその誘導体が好ましい。

デキストランは、α−１．６結合したＤ−グルコースの
重合体であり、一般に糖類の存在下で、デキストラン生
産菌を培養することによって得るが、ロイコノストック
、メゼンテロイデス等のデキストラン生産菌の培養液よ
り、分離したデキストランシュクラーゼを糖類と作用さ
せて得ることができる。また、これらのネイティブデキ
ストランを酸やアルカリ酵素による、部分分解重合法に
よって、所望の分子量まで低下させ、極限粘度が０、０
３〜２．５の範囲のものも得ることができる。

また、デキストラン変性物とは、デキストラン分子中に
硫酸基が、エステル結合で存在するデキストラン硫酸エ
ステル、及びその塩、デキストラン分子中にカルボキシ
アルキル基がエーテル結合で存在するカルボキシアルキ
ルデキストラン、デキストラン分子中に硫酸基がエステ
ル結合でカルボキシアルキル基がエーテル結合で存在す
るカルボキシアルキルデキストラン硫酸エステル、及び
その塩、デキストラン分子中に燐酸基がエステル結合し
て存在しているデキストラン燐酸エステル、及びその塩
、デキストラン分子中にハイドロオキシアルキル基が導
入されたハイドロオキシアルキルデキストラン等が挙げ
られる。

ハロゲン化銀写真感光材料に、これらのデキストラン類
を使用するのは特公昭３５−１１９８９号、米国特許第
３．　７６２□９２４号、特公昭４５−１２８２０号、
同４５−１８４１８号、同４５−４０１４９号、同４６
−３１１９２号に記載されているように公知であり、こ
れらのデキストラン類をそのままハロゲン化銀乳剤、ま
たはゼラブン層に含有させて、現像された銀画像の被覆
力の改良や、最高濃度、コントラストを向上させている
。

これらのデキストラン類とその誘導体の製造方法につい
ては、これらの特許に詳細に記載されている。

これらデキストラン、及びその変性物の中で、特に好ま
しいのはラテックスの分散安定性の点で、アニオン性基
が導入された、デキストラン硫酸エステル、カルボキシ
アルキルデキストラン硫酸エステル、デキストラン燐酸
エステルであり、中でもデキストラン硫酸エステルが最
も好ましい。

これらデキストラン変性物の合成は、前述のデキストラ
ンを原料とし、ピリジンあるいはホルム９ρ アミドの如きｆｆ１ｌ性有機溶媒の存在下において、ク
ロルスルフォン酸などの硫酸化剤を反応させてデキスト
ラン硫酸エステルを得ることができる。

さらにモノクロルカルボン酸等のカルボキシアルキル キストラン硫酸エステルが得られる。

また、デキストランを原料として、アルカリ下でモノク
ロルカルボン酸等のカルボキシアルキル化剤と反応させ
て、カルボキシアルキルデキストランを得ることができ
る。さらに、これをピリジンあるいはホルムアミドの如
き塩基性溶媒の存在下で、クロルスルホン酸等の硫化剤
を反応させれば、やはりカルボキシアルキルデキストラ
ン硫酸エステルを得ることができる。これに、ナトリウ
ム・カリウム等のアルカリ金属の酸化物、カルシウム・
マグネシウム等のアルカリ土金属の酸化物または水酸化
物、アンモニア等を反応させればそれぞれにデキストラ
ン硫酸エステル、カルボキシアルキル硫酸エステルの塩
が得られる。

デキストランは無水グルコース単位当り置換される得る
水酸基が３個あるから、理論的には最大の置換度が３ま
での硫酸エステル基及びカルボキシアルキル基を置換す
ることができるが、反応条件を選択することにより置換
度３以下の範囲において任意の置換度のものを製造する
ことができる。

しかし、硫酸エステル基とカルボキシアルキル基の置換
度の和は３を越えることはできない。

このようにして製造されるカルボキシアルキルデキスト
ラン、デキストラン硫酸エステル、カルボキシアルキル
デキストラン硫酸エステルは、原料デキストランの極限
粘度及び生成物の硫酸エステル置換度とカルボキシアル
キル置換度の種々の組み合せにより多種類製造すること
ができる。

分子構造中に親水性基とエチレン性二重結合をもつポリ
マーとしては、例えば下記一般式［ＶＩ］［　Ｖｌ　］
または［■］で示される化合物を主成分とするポリマー
であることが望ましい。

ここで親水性基としては、親水性基を有するポリマーで
述べたものと同様のものが挙げられる。

一般式［Ｗ］ ［式中、Ｒ１は２価の有機基、Ｍｌは水素原子または１
価のカチオンを表わし、ローは３０〜９５モル％、ｎ２
は７０〜５モル％を表わす。］一般式［ＶＩ］ ζ ＣＨ　２　ＣＯＯＨ３ ＣＨ　２　ＣＯＮＣＨ　２　ＣＨ２　ＳＯ３　Ｈ　５＾
λ ［式中、Ｒ２は水素原子またはアルキル基、Ｍ２　、Ｍ
ａ　、Ｍ４およびＭｓはそれぞれ水素原子または１価の
カブオンを表わし、ｎ３は３０〜９５モル％、ｎ４は７
０−０モル％、ｎ５は７０〜Ｏモル％を表ね′？ｉ．但
し、ｎ４＋１５は７０〜５モル％である。］ 一般式［■］ ［式中、Ｒ３は水素原子またはアルキル基、Ｍｓ　、Ｍ
ｒ　、ＭｓおよびＭｓはそれぞれ水素原子または１価の
カチオンを表わし、ｎ６は３０〜７０モル％、ｎ７は５
〜５０モル％、ｎ８は７０〜５モル％を表わす。但し、
ｎ７十０８は７０〜３０モル％である。］ 次に、一般式［ＶＩ］、［■］および［■］について具
体的に説明すると、Ｒ１で表わされる２価の有機基とし
てはエチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ヘキサ
メチレン、プロペニレン、３。

６−シオキサオクタンー１．８−ジイル、２，２−ジメ
チルトリメチレン、プロピレン、１．４−シクロヘキシ
レン等の脂肪族炭化水素の２価残基、又は１．２−ジク
ロロエチレン、２−クロロトリメチレン、２−ブロムト
リメチレン、１−シアンメチルエチレン、１−クロロメ
チルエチレン、１−メトキシメチルエチレン、１−フェ
ノキシエチレンの様にハロゲン原子、シアノ基、アルキ
ルオキシ基、アリールオキシ基等で置換された脂肪族炭
化水素の２価残基、又は１，４−フェニレン、１．３−
１−リレン、２−クロロ−１，４−フェニレン、２−シ
アノ−１，４−フェニレン、２−メトキシ−１，５−フ
ェニレン等の芳香族炭化水素の２ｆｉ残基もしくはハロ
ゲン原子、シアノ基、アルキルオキシ基等で置換された
芳香族炭化水素の２価残基、又は、１．１’　−（１，
４−フェニレン）ジメチル、２．２’−（２−クロロ−
１，４＝フエニレン）ジエチル、２．２’　−（２−シ
アノ−１，４−フェニレン）ジエチル等の脂肪族炭化水
素の２価残基もしくはハロゲン原子、シアノ基等で置換
されたアリール基と結合した脂肪族炭化水素の２価残基
が挙げられる。

Ｍ＋　、Ｍ２　、Ｍ３．Ｍ４およびＭ５は、水素原子ま
たはリチウム、ナトリウム、カリウムの様なアルカリ金
属の１価のカチオン又はアンモニウムカヂオンを表ねず
。分子構造中に親水性基とエヂレン性二重結合を有する
ポリマーとしては一般式［Ｖｌ］で表わされる化合物が
好ましい。

次に、本発明のポリマーの代表的具体例を以下に例示的
に列挙するがこれらに限定されるものではない。

以下余白 （但し、ｎｌ：ｎ２＝＝５０モルチ：５０モル係、数平
均分子量（Ｍｎ）＝約１０．０００）メ゛（ＣＨ２Ｃ，
Ｈ２Ｏ）３÷・・　　　、但１、。、：。２＝９．８７
５．：５モル襲、Ｍ７ｔ＝約２０，０００） （但し、ｎ＋：ｎ２＝＝７５モルチ：２５モル係、Ｍｙ
ｔ＝約２ｏ、ｏｏｃｉ） （但し、ｎｌ　：　ｎ２＝５０モｙｂ％：５０モル係、
Ｍｎ−約２５，０００） Ｄ−７ （但し、ｎ＋：ｎ２＝３Ｑモルチ：７０モル宏ＭｒＬ＝
約２１，０００） （但し、ｎｌ　：　ｎ２　＝　３０％ル％ニア０モル先
ＩＪ１＝ｌＺ１５，０００） ＨＣＯＯＨ ＣＨ２Ｃ０ＮＨＣＨ２ｃＨ２ＳＯ３Ｎａ（但し、ｎｌ：
　１２＝５Ｑモル％：５０モル係、Ｍ　７１　＝約ｚｏ
ｏｏ） ＣＨ２ＣＵ　ＯＮａ ＣＨ２Ｃ０ＮＨＣＨ２ＣＨ２５Ｏ３Ｎａ（但し、ｎｘ　
：　ｎ２：　ｎ３＝８０モル％：１０モル係：１０モル
裂、　　Ｍ）１−約６，０００）■ ＣＨ２Ｃ０ＮＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ ■ ＣＨ３ （但し、ｒｕ：ｎｚ＝９５モル％：５モル係、Ｍｇ＝約
３，０００，１ ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２Ｓ　０３　Ｎ　ａ（但し、旧：ｎ
２＝５０モル係＝５０モル係、Ｍｎ＝約１０，０００） さＨ３ （但し、ｒｏ　：　ｎ２：　１１３：５０モル％＝４５
モル％＝５モル係、Ｍｎ＝約１５，０００） ３に れらのポリマーの合成法は、特開昭５５−５０２４０号
に記載されている。

分子構造中に親水性基とラジカルが連鎖移動し易い基を
有する化合物の親水性基としては、親水性基を有するポ
リマーで述べたものと同様なものが挙げられる。

また、ラジカルが連鎖移動し易い基とは、例えば重合性
不飽和化合物を重合する際に生じる重合開始剤ラジカル
、もしくは重合体酸長鎖ラジカル等の活性点が移動し易
い基のことであり、好ましとができる。但し上記の基に
おいて、Ｒは水素原子またはアルキル基、Ｒ′はアルキ
ル基、カルボニル基、Ｒ“は水素原子またはアルキル基
、カルボニル基、Ｘは水素原子又はハロゲン原子である
。

これらの基が連鎖移動し易い基であることは、「共重合
−２−」高分子学会線、１９７６年１１月発行、３８１
頁に記載されている。そして、これらの基の中で一３Ｈ
，−ＮＨＲ’　、−ＣＩ−１２Ｂｒがさらに好ましく、
−３Ｈが最も好ましい。

連鎖移動し易い基は、親水性パラメーターπの値が負の
場合もある。この場合は、連鎖移動し易い基と親水性基
は同一でない方が好ましい。また、親水性基の数は１分
子中に少なくとも１個あればよく、１分子中に１〜４個
あるのが好ましく、１分子中に１〜２個あるのがさらに
好ましい。親水性基の数が１分子中に２個以上ある場合
は、親水性基は同一であっても、同一でなくてもよい。

また、１分子中に存在する連鎖移動し易い基の数は、少
なくとも１個あればよく、１〜３個が好ましく、１〜２
個が更に好ましい。

親水性基とラジカルが連鎖移動し易い基を１分子中に少
なくとも１個ずつ有する化合物は、一般式［Ｔ］で表わ
されるものが好ましい。

一般式［Ｔ］ （Ａ曳−Ｊ→Ｂ）。

但し、一般式［Ｔ］中、Ａは親水性基であり、詳細は前
述したとおりである。Ｂはラジカルが連鎖移動し易い基
であり、詳細は前述したとおりである。ｍは１以上の整
数であり、好ましくは１〜４、さらに好ましくは１．２
である。ｎは１以上の整数であり、好ましくは１〜３、
さらに好ましくは１である。Ｊｌ、ＬＡとＢがＪを介し
て化学結合していれば何でもよいが、置換基を有するも
のも含むアルキル基、置換基を有するものも含むフェニ
レン基、置換基を有するものも含む複素環基ならびにこ
れらが組み合わされた基を挙げることができる。

分子構造中に親水性基とラジカルが連鎖し易い基を有す
る化合物の具体例としては、例えば以下の化合物Ｔ−１
〜化合物Ｔ−１１３を挙げることができる。

以下余白 Ｔ−Ｉ　　　　ＨＯＯＣ−ＣＨ２−８Ｅ　　　Ｔ−２’
Ｈ００Ｇ−０）ｉ２−ＣＨ２−Ｆ３Ｈｒ−１２ＨＯＯＣ
−ＣＨ，−ＮＨ−ＣＯ−ＣＨ，−８ＨＴ−１４（ＨＯＣ
２Ｈ（）２　Ｎ−！！３−０Ｈ２−８Ｈ丁−１５賜Ｎ−
Ｃ２Ｈ４−３ＨＴ−２０ＥｌｏｏＣ−ＣＨ−ＣＩ−１，
−ＢＨＯＨ，Ｓ　Ｈ Ｔ−２８ｃｎ。

１（００Ｃ！−０−σＨ，−８Ｈ ＣＨ２ 丁−３１０６Ｈ，Ｔ−２２ Ｔ−３５Ｆ２０．Ｐ−（ＯＨ２）、−８ＨＴ−３６０Ｈ
３−Ｃ−ＣＨ，−５Ｈ丁−３９ＨＯＯＣ−ＣＨｚ−ＣＨ
−８ＨＴ−４０Ｎａ０３Ｓ−（Ｃ：Ｈｚ）ｚ−８Ｆ（Ｃ
！ＧＨ５ Ｔ−（ｌ　　Ｎａ０３Ｓ−（ＣＨ１方−３ＨＴ−４２Ｎ
ａ０３Ｓ−（ＣＨ２）４−８ＨＣＨ−１ Ｔ−４９ＣＨ：１ ＨＯＯＯ−ＣＨ，−Ｃ−３Ｈ ＣＨ３ ■ ＯＨ。

Ｔ−６２７−６３ Ｔ−７４ＨＯＯＣ−（ＣＨｘ）４−ＣＨ−ＢＨｌ Ｈ８−ＣＨアーＣ職 ＨＯＯＣＴ（ ４Ｈｑ Ｃ，Ｂ５ Ｔ−９７ＢｒＣＨ２ＣＨ２ＣＣ）ＯＨＴ−９８Ｂｒ（Ｃ
Ｈｔ）３ｅＮ＋　−９９ＣＨｌ（ＣＨ２）ｉｃＨＢｒｃ
ＯＯＨＴ−１００Ｂｒ（ＣＨ２）５ＣＯＯＨＴ−１０１
Ｂｒ（Ｃｍｚ）、ＯＨＴ−１０２Ｂｙ（ＣＢ２）ｔｏｃ
ＯＯＨＴ−ｘｏｓ　　ａｔ’ｃ馬Ｃ０ＮＨ，Ｔ−１０４
ＣＪ　（ＣＨ，）４０ＢＴ−１０５ＣＪ（ＣＨ，）、０
ＯＯＨＴ−１０６Ｃ，１ＯＨ２（ＣＨ，％Ｃ００ＨＴ−
１０７０１（ＯＨ２）４０００ＨＴ−１０１１０ｇＨＨ
ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２０Ｈ（ｍ　−ＣＨ。

０ＯＨ Ｔ−１１１ＨＥ＋０ＨｘＣＨｘＣ％ｌ３０ｘＨＴ−１１
２Ｈ８−ＣＨＩＣＨ！　０−８ｏ、ＨＴ−１１３ＣＨ。

ＨＯＯＣ−Ｃ−ＣＨｘＳＨ Ｃ）（。

以下余白 これらの化合物（１）〜（１１３）はいずれも公知化合
物であり、一部は特開昭５４−１３３３３１号公報に記
載されているように暗着色および汚泥発生防止剤として
現像液に入れて使用されている。

本発明において、ラテックスの表面に親水性基を有する
ポリマーを固定する方法としては、乳化重合でラテック
スを製造する際、重合の前に分散剤として重合系に添加
する方法、分散剤なしでラテックス製造後　添加する方
法がある。重合前に添加する方法では、添加した親水性
基を有するポリマーにグラフト重合が起こり、ラテック
ス粒子に取り込まれて固定され、親水性基を有するポリ
マーの末端がラテックス粒子の表面に出ている状態とな
る。又、重合後添加する方法では、親水性基を有するポ
リマーをラテックスに添加した際に加熱して６０℃以上
で１時間以上撹拌した後冷却して使用する。そうすると
単に混合されていたに過ぎなかった親水性基を有するポ
リマーがラテックス表面に強（吸着し固定化される。こ
れは系の粘度友測定すると、加熱、冷却後は粘度が下が
る５ま ため遊離の親水性基を有するポリマーの減少したことで
わかる。本発明では重合前に添加するのがより好ましい
。

本発明のラテックスは種々の方法で容易に製造すること
ができる。例えば、乳化重合法、あるいは溶液重合又は
塊状重合等で得たポリマーを再分散する方法等があるが
、乳化重合法によるものが好ましい。

乳化重合法では、水を分散媒とし、水に対して１０〜５
０重量％のモノマーとモノマーに対して０．０５〜５重
量％の重合開始剤、０．１〜２０重量％の水溶性ポリマ
ーを用い、約３０〜１００℃、好ましくは６０〜９０℃
で３〜８時間撹拌下重合させることによって得られる。

モノマーの濃度、開始剤量、反応温度、時間等は幅広く
かつ容易に変更できる。

本発明のラテックスに使用される親水性基を有するポリ
マーは、モノマー量に対し０．１〜２０重固％使用され
るのが好ましいが、より好ましくは１〜１５重量％であ
る。

本発明において、ラテックスの表面に分子構造中に親水
性基およびエチレン性二重結合を有するポリマーを固定
する方法としては、乳化重合でラテックスを製造する際
、重合の前に分散剤として重合系に添加する方法がある
。

この場合、添加した分子構造中に親水性基およびエチレ
ン性二重結合を有するポリマーにグラフト重合が起こり
ラテックス粒子に取り込まれ、即ち、固定され分子構造
中に親水性基およびエチレン性二重結合を有する高分子
の末端がラテックス粒子の表面に出ているものと考えら
れる。

乳化重合法では、水を分散媒とし、水に対して１０〜５
０重量％のモノマーとモノマーに対して０．０５〜５重
旦％の重合開始剤、０．１〜２０重量％の分子構造中に
親水性基およびエチレン性二重結合を有するポリマーを
用い、約３０〜１００℃、好ましくは６０〜９０℃で３
〜８時間撹拌下重合させることによって得られる。モノ
マーの濃度、開始剤量、反応温度、時間等は幅広くかつ
容易に変更できる。

本発明のラテックスに使用される分子構造中に親水性基
およびエチレン性二重結合を有するポリマーは、モノマ
ー聞に対し０．１〜２０重囲％使用されるのが好ましい
が、より好ましくは１〜１５重量％である。

本発明において、ラテックスの表面に親水性基とラジカ
ルが連鎖移動し易い基を有する化合物を固定する方法と
しては、親水性基とラジカルが連鎖移動し易い基を有す
る化合物の存在下に重合性不飽和化合物を重合させる方
法がある。この方法により連鎖移動し易い基を介して重
合性不飽和化合物がこのラジカルと連鎖移動し易い基を
有する化合物に結合し分子中に親水性、基が導入された
重合体が得られる。

そして親水性基およびラジカルが連鎖移動し易い基を一
分子中に有する化合物は単独で用いるか二種類以上併用
し、配合量はラテックスを形成するビニルモノマーｉｏ
ｏ重量部に対して０．０００１〜０．５重量％が好まし
く、より好ましくは０．００１〜０．２重Ｍ％である。

ラテックス製造の際には、通常分散剤として界面活性剤
が使用されるが、本発明においては使用しないのが好ま
しい。使用すると分散安定性を劣化させることが多い。

開始剤としては、水溶性過酸化物（例えば過硫酸カリウ
ム、過硫酸アンモニウム等）、水溶性アゾ化合物（例え
ば２．２′−アゾビス−（２−アミジノプロパン）−ハ
イドロクロライド等）′等を挙げることができる。

本発明のラテックスを形成するエチレン性モノマー化合
物としては、例えばアクリル酸エステル類、メタクリル
酸エステル類、ビニルエステル類、オレフィン類、スチ
レン類、クロトン酸エステル類、イタコン酸ジエステル
類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、
アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、
ビニルケトン類、ビニル累加環化合物、グリシジルエス
テル類、不飽和ニトリル類、多官能モノマー、各種不飽
和酸から選ばれる１１または２種以上を組合せたモノマ
ー化合物を挙げることができる。

これらのモノマー化合物について更に具体的に示すと、
アクリル酸エステル類としては、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソ
プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソ
ブチルアクリレート、５ｅｃ−ブチルアクリレート、ｔ
ｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘ
キシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート
、オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレ
ート、２−クロロエチルアクリレート、２−プロピルメ
タクリレート、４−クロロブチルアクリレート、シアノ
エチルアクリレート、２−アセトキシエチルメクリレー
ト、ジメチルアミノエチルアクリレート、ベンジルアク
リレート、メトキシベンジルアクリレート、２−りｎｏ
ジクロロキシルアクリレート、シクロへキジルアへリレ
ート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリ
ルアクリレート、フェニルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルアクリレート、５−ヒドロキシペンプルアクリ
レート、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルア
クリレート、２−メトキシエチルアクリレート、３−メ
トキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリ
レート、２−ｉｓｏ−プロポキシアクリレート、２−ブ
トキシエチルアクリレート、２−（２−メトキシエトキ
シ）エチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ
）エチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリ
コールアクリレート（付加モル数ｎ＝９）、１−ブロモ
−２−メトキシエチルアクリレート、１゜１−ジクロロ
−２−エトキシエチルアクリレート等が挙げられる。

メタクリル酸エステル類の例としては、メチルメタクリ
レート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリ
レート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタ
クリレート、イソブチルメタクリレート、５ｅｃ−ブチ
ルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、
アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シク
ロへキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレ−
ト、スルホプロピルメタクリレート、Ｎ−ニブル−Ｎ−
フェニルアミノエチルメタクリレート、２−（３−フェ
ニルプロピルオキシ）エチルメタクリレート、ジメチル
アミノフェノキシエチルメタクリレート、フルフリルメ
タクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート
、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、
ナフチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタク
リレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、トリ
エチレングリコールモノメタクリレート、ジプロピレン
グリコールモノメタクリレート、２−メトキシエチルメ
タクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、２
−アセトキシエチルメタクリレート、２−アセトアセト
キシエチルメタクリレート、２−エトキシニブルメタク
リレート、２−ｉｓｏ−プロポキシエチルメタクリレー
ト、２−ブトキシエチノＶメタクリレート、２−（２−
メトキシエトキシ）エチルメタクリレート、２−（２−
エトキシエトキシ）エチルメタクリレート、２−（２−
ブトキシエトキシ）エチルメタクリレ−ト、ω−メトキ
シポリエチレングリコールメタクリレート（付加モル数
ｎ＝６）、アリルメタクリレート、メタクリル酸ジメチ
ルアミノエチルメチルクロライド塩などを挙げることが
できる。

ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビ
ニルイミダゾ−ル、ビニルブチレート、ビニルイソブチ
レート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート
、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセテー
ト、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニルなどが挙げられ
る。

またオレフィン類の例としては、ジシクロペンタジェン
、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、
塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロブレ
ン、ブタジェン、２．３−ジメチルブタジェン等を挙げ
ることができる。

スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレ
ン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルス
チレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン
、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、り０ルスチ
レン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、トリフルオ
ロメチルスチレン、ビニル安息香酸メチルエステルなど
が挙げられる。

クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル
、クロトン酸ヘキシルなどが挙げられる。

またイタコン酸ジエステル類としては、例えば、イタコ
ン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブデ
ルなどが挙げられる。

マレイン酸ジエステル類としては、例えば、マレイン酸
ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチルな
どが挙げられる。

フマル酸ジエステル類としては１１例えば、フマル酸ジ
エチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチルなどが挙
げられる。

アクリルアミド類としては、アクリルアミド、メチルア
クリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピルアクリ
ルアミド、ブチルアクリルアミド、ｔｅｒｔ−ブチルア
クリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジ
ルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、
メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチル
アクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチルア
クリルアミド、ジエチルアクリルアミド、β−シアノエ
チルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチ
ル）アクリルアミドなど： メタクリルアミド類、例えば、メタクリルアミド、メチ
ルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、プロピ
ルメタクリルアミド、ブチルメタクリルアミド、ｔｅｒ
ｔ−ブチルメタクリルアミド、シクロへキシルメタクリ
ルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチ
ルメタクリルアミド、メトキシエチルメタクリルアミド
、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、フェニルメ
タクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチル
メタクリルアミド、β−シアンエチルメタクリルアミド
、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）メタクリルアミ
ドなど： アリル化合物、例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル
、ラウリン酸アリル、安息香酸アリルなど： ビニルエーテル類、例えば、ブチルビニルエーテル、ブ
チルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキ
シエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニル
エーテルなど； ビニルケトン類、例えば、メチルビニルケトン、フェニ
ルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトンなど： ビニル異部環化合物、例えば、ビニルピリジン、Ｎ−ビ
ニルイミダゾール、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、Ｎ−ビ
ニルトリアゾール、Ｎ−ビニルピロリドンなどニ グリシジルエステル類、例えば、グリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレートなど；不飽和ニトリル類
、例えば、アクリロニトリル、メタクリレートリルなど
： 多官能性モノマー、例えば、ジビニルベンゼン、メチレ
ンビスアクリルアミド、エチレングリコールジメタクリ
レートなど。

更に、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイ
ン酸、イタコン酸モノアルキル、例えば、イタコン酸モ
ノメヂル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸モノブチ
ルなど；マレイン酸モノアルキル、例えば、マレイン酸
モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノブ
チルなど；シトラコン酸、スチレンスルホン酸、ビニル
ベンジルスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリロイル
オキシアルキルスルホン酸、例えば、アクリロイルオキ
シメチルスルホン酸、アクリロイルオキシエチルスルホ
ン酸、アクリロイルオキシプロピルスルホン酸など；メ
タクリロイルオキシアルキルスルホン酸、例えば、メタ
クリロイルオキシメチルスルホン酸、メタクリロイルオ
キシエチルスルホン酸、メタクリロイルオキシプロピル
スルホン酸などニアクリルアミドアルキルスルホン酸、
例えば、２−アクリルアミド−２−メチルエタンスルホ
ン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホ
ン酸、２−アクリルアミド−２−メチルブタンスルホン
酸など；メタクリルアミドアルキルスルホン酸、例えば
、２−メタクリルアミド−２−メチルエタンスルホン酸
、２−メタクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン
酸、２−メタクリルアミド−２−メチルブタンスルホン
酸など；アクリロイルオキシアルキルホスフェート、例
えば、アクリロイルオキシエチルホスフェート、３−ア
クリロイルオキシプロピル−２−ホスフェートなど：メ
タクリロイルオキシアルキルホスフエート、例えば、メ
タクリロイルオキシエチルホスフェート、３−メタクリ
ロイルオキシプロピル−２−ホスフェートなど；親水基
を２ケ有する３−アリロキジー２−ヒドロキシプロパン
スルホン酸ナトリウムなどが挙げられる。これらの酸は
アルカリ金属（例えば、Ｎａ、になど）、またはアンモ
ニウムイオンの塩であってもよい。さらにその他の七ツ
マー化合物としては、米国特許第３．４５９．７９０号
、同第３．４３８．７０８号、同第３，５５４，９８７
号、同第４，２１５．１９５号、同第４．２４７．６７
３号、特開昭５７−２０５７３５号公報明細書等に記載
されている架橋性モノマーを用いることができる。この
ような架橋性モノマーの例としては、具体的にはＮ−（
２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（
２−（２−アセトアセトキシエトキシ）エチル）アクリ
ルアミド等を挙げることができる。

これらのモノマー化合物のうち、アクリル酸エステル類
、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル類、スチレ
ン類、オレフィン類が好ましく用いられる。

次に本発明のラテックスの合成例を挙げる。

以下余白 合成例１ １ｙのフルペンにＮ２ガスで脱気した蒸留水３６０減と
、合成水溶性ポリマー（ＳＰ−８＞４．５ｇを入れ８０
℃にまで昇温する。これに蒸留水５ｄに溶解した過硫酸
アンモニウム０．２７ｇをすばやく添加し、そこにエチ
ルアクリレート８９．１ｇ。

アクリルｌ　ｏ、９ｇの混合物を約１時間で滴下し、滴
下終了後さらに４時間撹拌し反応する。反応終了後、１
時間水蒸気蒸留して未反応モノマーを回収し、室温まで
冷却、目的とするラテックスＬ−（１）を得た。粒径０
．２μで数平均分子量Ｍｎ＝８５０．０００であった。

合成例２ １！のコルベンにＮ２ガスで脱気した蒸留水３６０顧と
、合成水溶性ポリマー（ＳＰ−１’２）４．５ｇを入れ
８０℃にまで昇温する。これに蒸留水５戴に溶解した過
硫酸アンモニウム０．２７Ｑをすばやく添加し、そこに
エチルアクリレート９０ｇを約１時間で滴下し、滴下終
了後さらに４時間撹拌し反応する。反応終了後、１時間
水蒸気蒸留して未反応モノマーを回収し、室温まで冷却
、目的とするラテックスＬ−（２）を得た。粒径０．１
μで数平均分子量Ｍｎ　＝　７００，０００であった。

合成例３ １にのコルベンにＮ２ガスで脱気した蒸留水３６０１１
１２とデキストランサルフエイト２．３ｇを入れ、８０
℃にまで昇温する。これに蒸留水５戴に溶解した過硫酸
アンモニウム０．２７ｇをすばやく添加し、そこにブチ
ルアクリレート４１ｇ１スチレン４９ｇ、アクリル酸０
．９（］の混合物を約１時間かけて滴下し、滴下終了後
さらに４時間撹拌し反応する。反応終了後、１時間水蒸
気蒸留して未反応モノマーを回収し、室温まで冷却、目
的とするラテックスし−（３）を得る。粒径０．２５μ
、数平均分子量Ｍｎ　＝　６６０，０００であった。

合成例４ １にのコルベンにＮ２ガスで脱気した蒸留水３６０戴を
入れ８０℃まで昇温する。これに蒸留水５　ｖ（ｌに溶
解した過硫酸アンモニウム０．２７ｇをすばやく添加し
、そこにブヂルアクリレート４０（１゜スチレン５０ｇ
の混合物を約１時間かけて滴下し、滴下終了後４時間撹
拌し反応する。反応終了後、１時間水蒸気蒸留して未反
応モノマーを回収する。

８０’Ｃに保ったまま、そこに合成水溶性ポリマー（Ｓ
Ｐ−１）５（＋を入れ２時間撹拌した後、室温まで冷却
し目的のラテックスＬ−（６）を得た。

粒径０．３μ、数平均分子ｆｆｌＭｎ　＝　６００，０
００テあった。

なお、数平均分子量は東洋曹達社製、ゲルパーミェーシ
ョンクロマトグラフィＨＬＣ−８０２八を用い標準ポリ
スブレン換算でもとめ、粒径はコールタ−社製コールタ
−Ｎ４を用いて測定した。

合成例５ 合成例１と同様に、合成水溶性ポリマーの替わりに親水
性基のラジカルが連鎖移動し易い基をもつ化合物Ｔ−３
９を０．０３（］加え、ラテックス−（１２）を合成し
た。数平均分子ｉｉＭｎ　＝８０，０００゜平均粒径は
０．２μｍであった。

合成例６ 実施例１のエチルアクリレート、合成水溶性ポリマ−（
ＳＰ−８）の替わりにブヂルアクリレート８９．ＩＧ　
、主鎖に二重結合をもつポリマーＤ−１４，５９を用い
、実施例１と同様の反応を行ない目的とするラテックス
を得た。

数平均分子量Ｍｎ＝　７６０，０００、平均粒径は０．
２８μであった。

本発明者等は上記した本発明に係る親水性基が表面に固
定されているラテックスとある特定のノニオン性界面活
性剤とアニオン性界面活性剤を併用することにより、硬
調性およびカブリ等の写真特性と膜物性が同時に改良さ
れることを見い出した。

本発明に係る親水性基が表面に固定されているラテック
スと併用されるアニオン性界面活性剤としては下記一般
式［Ｉ］〜［ＶＩ］で表されるものが挙げられる。

以下余白 一般式［Ｉ］ ［式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ炭素原子数１〜１８
のアルキル基を表わし、またＭは水素原子またはカチオ
ンを表わす。ｍｌはＯ〜５０の整数またｎｌはＯ〜４の
整数を表わす。］一般式［Ｉ［］ ＆（−Ｃ＋ａＯ＋ＣＨ２ＣＨ２０＋ｍ２（ＣＨ２＋ｎ２
ＳＯ３ＭＥ式中、Ｒ３は炭素原子数６〜２０のアルキル
基またはアルケニル基を表わし、またＭは水素原子また
はカチオンを表わす。ｍ２は０〜５０の整数、ｎ２は０
〜４の整数またａはＯまたは１の整数を表わす。］ 一般式［１［［］ ％式％ ［式中、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ炭素原子数６〜１８
のアルキル基を表わし、またＭは水素原子またはカチオ
ンを表わす。］ 一般式［ＩＶ　］ ＯＲ。

ＩＩ　　＋ Ｒ６−Ｃ−Ｎ＋ＣＨ２＋ｎ３Ｘ ［式中、Ｒ６は炭素原子数６〜２０のアルキル基を表わ
し、Ｒ７は炭素原子数１〜４のアルキル基を表わし、Ｘ
は一〇〇〇Ｍまたは一８０３Ｍを表わし、またＭは水素
原子またはカチオンを表わす。Ｒ３は１〜４の整数を表
わす。コ 一般式［Ｖ］ ［式中、Ｒ８およびＲ９はそれぞれ炭素原子数６〜・２
０のアルキル基を表わし、またＭは水素原子またはカチ
オンを表わす。］ 一般式［ＶＩ］ ［式中、Ｒ＋ｏ、Ｒｔ＋およびＲ１２はそれぞれ炭素原
子数１〜１６のアルキル基を表わし、Ｍは水素原子また
はカチオンを表わす。］ Ｒ１およびＲ２で表わされる炭素原子数１〜１８のアル
キル基としては、例えばメチル基、エチル基、ブチル基
、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基
等が挙げられる。

Ｒ３、Ｒ６，ＲａおよびＲ９で表わされる炭素原子数６
〜２０のアルキル基としては、例えばヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、ドデシル基、オクタデシル基、エ
イコシル基等が挙げられる。

Ｒ４およびＲ５で表わされる炭素原子数６〜１８のアル
キル基としては、例えばヘキシル基、ヘプチル基、ドデ
シル基、ペンタデシル基、オクタデシル基等が挙げられ
る。

Ｒ７で表わされる炭素原子数１〜４のアルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等が挙げられる。

Ｒ＋ｏ、Ｒ＋１およびＲ１２で表わされる炭素原子数１
〜１６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル
基、ブチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基
等が挙げられる。

Ｒ１乃至Ｒ＋２で表わされるそれぞれのアルキル基は置
換基を有するものも含み、この場合、炭素原子数にはそ
の置換基を含めない。

一般式［ＩＩ乃至［ＶＩ］で表わされるもののうち、特
に好ましいのは一般式［ＩＩ、［ＩＩ］および［Ｖ］で
表わされるものである。

次に具体的化合物の例を挙げるがこれらに限定されるも
のではない。

以下余白 Ｃｌ２Ｈ２５０＋ＣＨ２ＣＨ２Ｏ＋　（Ｃ＆＋３ＳＯａ
ＫＣ１６Ｈ３３０（−ＣＨｚＣＨｚＯ＋６（ＣＨｚ＋４
ＳＯ３ＮａＣＩ２　Ｒ２５０Ｓ　０３Ｎａ Ｃ１２Ｈ２５０＋ＣＨ２ＣＨｚＯ＋６ＳＯ３ＮａＣ１１
Ｈ２３−Ｃ−０＋ｃＨ２ｃＨ２０＋６ＳＯｓＮａ′？４ ａ”　　　　Ｃｌ２Ｈ２５Ｃｌ２Ｒ２５ＳＯ３Ｎａ　　
　Ｓ　０３Ｎａ Ｉ Ｃ９Ｈ１９０−Ｃ−ＣＨ２ Ｃ９Ｈ１９０−Ｃ−ＣＭ−８ＯａＮａ Ｉ Ｃ５ＨｏＯＣｏＣＨＳＯ３Ｎａ Ｃｌ０Ｈ２１０ＣＯＣＲ２ ２Ｈ５ 次に上記した本発明に係る親水性基が表面に固定されて
いるラテックスと併用されるノニオン性界面活性剤につ
いて説明する。

本発明に好ましく用いられるノニオン性界面活性剤とし
ては、下記一般式［Ｎ−Ｉ］、［Ｎ−■］、［Ｎ−１［
［］および［Ｎ　−［Ｖ　］で表わされる化合物を挙げ
ることができる。

以下余白 −９で ７′５ 一般式〔リーエ〕 ル、−Ａｒｃ）（ＣＩ（０→　１（ 一般式〔西■〕 一般式〔ｄ一旦〕 １式’ＣＮ−ｐ） 、′Ｏ 式中、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜３０のアルキル
基、アルケニル基またはアリール基を表わし、これらの
基はそれぞれ置換基を有するものも含まれる。Ｒ１は好
ましくは炭素数４〜２４のアルキル基、アルケニル基、
アリール基であり、特に好ましくはヘキシル基、ドデシ
ル基、イソステアリル基、オレイル基、ｔ−ブチルフェ
ニル基、２．４−ジー　ｔ−ブチルフェニル基、２，４
−ジー　【−ペンチルフェニル基、ｐ−ドデシルフェニ
ル基、ｍ−ペンタデカフェニル基、ｔ−オクチルフェニ
ル基、２．４−ジノニルフェニル基、オクチルナフチル
基等である。

Ａは一〇−１−Ｓ−１−ＣＯＯ−１−ＯＣＯ−１置換基
を有するものも含むアルキル基を示す。）を表わす。

Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７およびＲ９は水素原子、アルキル基、
アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲ
ン原子、アシル基、アミド基、スルホンアミド基、カル
バモイル基またはスルファモイル基を表わし、これらの
基はそれぞれ置換基を有するものも含まれる。

Ｒ６およびＲ８はアルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アミ
ド基、スルホンアミド基、カルバモイル基またはスルフ
ァモイル基を表わし、これらの基はそれぞれ置換基を有
するものも含まれる。

Ｒ６およびＲ８は好ましくは炭素数１〜２０のアルキル
基、フェニル基、ｐ−クロロフェニル基等のアリール基
、−〇Ｒ１５（ここでＲ１５は炭素数１〜２０のアルキ
ル基またはアリール基を示し、これらの基は置換基を有
するものも含まれる。以下同様である。）で表わされる
アルコ片シ基およびアリールオキシ基、塩素原子、臭素
原子等のハロゲン原子、−ＣＯＲ＋ｓで表わされるアシ
ル基、−Ｎ　Ｒ＋ｓ　ＣＯＲ＋ｓ　（ここでＲ１６は水
素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を示す。以下
同様である。）で表わされるアミド基、 −Ｎ　Ｒ＋ｓ　Ｓ　０２　Ｒ＋ｓで表わされるスルホン
アミド＼８．６ イル基である。これらのうち、Ｒ６およびＲ８はさらに
好ましくはアルキル基またはハロゲン原子であり、最も
好ましくはｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル
基等の３級アルキル基である。

Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７およびＲ９は好ましくは水素原子また
は上記のＲ６およびＲ８の好ましいものとして挙げた基
である。これらのうち、Ｒ７およびＲ９は特に水素原子
が好ましい。

Ｒ４およびＲ５は水素原子、アルキル基またはアリール
基を表わし、これらの基は置換基を有するものも含まれ
る。Ｒ４およびＲ５として特に好ましくは水素原子、炭
素数１〜８のアルキル基、フェニル基、フリル基等であ
る。

Ｒ４とＲ５、Ｒ６とＲ７およびＲ８とＲ９は互いに連結
して環、例えばシクロヘキシル環を形成してもよい。ま
た、一般式［Ｎ−１［１］でフェニル環の置換基は左右
非対称でもよい。

Ｒ＋＋は水素原子またはアルキル基を表わし、このアル
キル基は置換基を有するものも含まれる。

Ｒｊ２は水素原子または炭素数１〜３０のアルキル基、
アルケニル基、アリール基またはアラルキル基を表わす
。Ｒ１２で表わされる各基は置換基を有するものも含ま
れ、置換基としては例えばアルキル基、アリール基、ハ
ロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、チオエ
ーテル基、ポリオキシアルキルエーテル基等が挙げられ
る。

Ｒ１３は炭素数１〜１０のアルキレン基、ポリオキシア
ルキレン基または２価の芳香族基（例えばフェニレン基
等）を表わし、これらは置換基を有するものも含まれる
。

ＲＨは炭素数１〜２０のアルキル基またはアリール基を
表わす。Ｒ１４で表わされる各基は置換基を有するもの
も含まれ、置換基としては例えば、アルキル基、アリー
ル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基
、チオエーテル基、ポリオキシアルキレンエーテル基等
が挙げられる。

Ｒ４、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はエチレンオキサイドの平
均付加モル数であって２〜５の数であり、特に好ましく
は５〜３０の数である。Ｒ３とＲ４は同じでも異なって
もよい。またＲ５は同じくエチレンオキサイドの平均付
加モル数であって１〜゛１００の数である。

ｍは２〜５０の整数、ｍｌおよびｌｌ１２ハ各々０〜２
０の整数、兇はＯ〜３０の整数である。

これらの化合物は例えば米国特許第２，９８２，６５１
号、同３，４２８，４５６号、同３．４５７．０７６号
、同３．４５４１６２５号、同３，５５２，９７２号、
同　３，６５５，３８７号、特公昭５１−９６１０号、
特開昭５３−２９７１５号、特開昭５４−８９６２６号
、特願昭５７−８５７６４号、特願昭５７−９０９０９
号、堀口博著「新界面活性剤」　（三共出版１９７５年
）等に記載されている。

次に本発明に好ましく用いられるノニオン性界面活性剤
の具体例を示す。

化合物例 Ｎ−１ ＵＯ＋ＣＨ２ＣＰ２Ｏ＋３Ｈ ＨＯ＋ＣＨ２ＣＦ２０”’３”１ｏ　ＨＨＯ＋ＣＨ２Ｃ
Ｈ２０−）、ｏＨ ＨＯ＋ＣＨ２ＣＨ２０＋、。。Ｈ Ｃ１１Ｈ２３ＣＯＯ＋ＣＨ２ＣＨ２０＋８ＨＣ１５Ｈ３
１ＣＯＯ＋ＣＨ２ＣＨ２０＋ｔｓ　Ｈ−１Ｏ Ｃ１ｔＨｚ３ＣＯＮ＋ｃＨ２ＣＨ２０＋ａＨ（ＣＨ２Ｃ
Ｈ２０ｗ１）　Ｈ ａ　十ｂ　＝　７ Ｎ　　１５　　　　　ＣＨ３ 偽 Ｃ１３Ｈｚ７ＣＯＮ＋ＣＨ２ＣＨｚＯ＋１□Ｈａ＋　ｂ
＝２０ Ｃ１７Ｉ（３３ＣＯＯ＋ＣＨ２ＣＨ２Ｏ＋１５ＨＣ１ｓ
Ｉ（＋ｓＯ＋　ＣＨ２ＣＨ２０＋１６ＨＣ２２Ｈ４５０
＋ＣＨ２ＣＨ２０＋２５Ｈａ　＋　ｂ　＝　１５ 　Ｈ３ ＣＨ２ＣＨ２Ｏ＋ＣＨ２ＣＨ２Ｏ＋、２Ｈ０＋ＣＨ２Ｃ
ＰＩ３　Ｕす１１１″１ Ｎ−３６ ＣｓＨｏ−ｕ　　　　　Ｕｓｔｉｌｌ−ｕＣｓＨｘｔ−
Ｚ　　　　　　ＵｓＭＨ−ＬＮ−４６ Ｎ−４７ ＣｇＨ＋７−　ｔ　　　　　ｅｌＬＨ＋７−　ｔ−５Ｏ Ｃ５ＨＨ−ｔ　　　Ｃ５Ｈｔｔ−ｔ 〒 ２　　　　　　　　　　　　Ｚ　　　　　　　　　　乙
ぜ これらのアニオン性界面活性剤およびノニオン性界面活
性剤はそれぞれ二種以上を併用してもよい。

本発明のアニオン性界面活性剤およびアニオン性界面活
性剤の使用石は、使用するハロゲン化銀写真感光月利の
形態、種類又は塗布方式等によっで異なるが、一般には
それぞれハロゲン化銀写真感光材料１ｆ当り０．１〜１
　、０００ｍｇでよく、特に０．５〜２００１１１０が
好ましい。

アニオン性界面活性剤およびノニオン性界面活性剤の添
加方法は種々の方法を用いることができる。

本発明に係る親水性基が表面に固定されているラテック
スはアニオン性界面活性剤およびノニオン性界面活性剤
と共に写真構成層の少なくとも一層に含有されるが、好
ましくはハロゲン化銀乳剤層である。

本発明に係る親水性基が表面に固定されているラテック
スはそのままもしくは水に分散させて写真構成層に添加
することができるが、該ラテックスの添加量は添加され
る写Ｒ構成層のバインダー１００小帛部に対して１０〜
６０重へ１部添加するのがよい。

写真構成層のバインダーとしてはゼラチン、ゼラチン誘
導体を併用してもよい。

ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、プリテン・
オブ・ザ・ソ号エティ・オブ・サイエンティフィック・
フォトグラフィー・オブ・ジャパン（３ｕｌｌ　、３ｏ
ｃ、　Ｓｃｉ、　ｐｈｏｔ　、　Ｊａｐａｎ、）Ｎｏ、
１６．３０頁（１９６６）に記載されたような酸素処理
ゼラチンを用いてもよく、又ゼラチンの加水分解物や酵
素分解物も用いることができる。ゼラチン誘導体として
は、ゼラチンに例えば酸ハライド、酸無水物、イソシア
ナート類、ブロモ酢酸、アルカンサルトン類、ビニルス
ルホンアミド類、マレインイミド化合物類、ポリアルキ
レンオキシド類、エポキシ化合物類等種々の化合物を反
応させて１ｑられるものが用いられる。その具体例は米
国特許第２，６１４，９２８号、同３，１３２，９４５
号、同３，１８６、８４６号、同３，３１２．！Ｉ！１
３号、英国特許１１１６１．４１４号、同１，０３３，
１８９号、同１，００５，７８４号、特公昭４２−２６
８４５月などに記載されている。

本発明のハロゲン化銀乳剤には、ハロゲン化銀として央
化銀、沃臭化銀、沃塩化銀、塩臭化銀、１１３よび塩化
銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される任意のもの
を用いる事ができる。

また、ハロゲン化銀粒子は、粒子内において均一なハロ
ゲン化銀組成分布を有するものでも、粒子の内部と表面
層とでハロゲン化銀組成が異なるコア／シェル粒子であ
ってもよく、ｊ：た、潜像が主として表面に形成される
ような粒子であってもよく、また主として粒子内部に形
成されるような粒子でもよい。

本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、立方体、八面体、」−四面体のような規則的な結
晶形を持つものでもよいし、球状や板状のような変ｉｌ
ｌ的な結晶形を持つものでもよい。

これらの粒子においで、（１ｏｏ）面と（１１１）　ｉ
Ｍｉの比宇ｔｊ、　ｆｆ意のものが使用できる。又、こ
れら結晶形の複合形を持つものでもよく、様々な結晶形
の粒子が混合されてもよい。

ハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズ（粒子サイズは投影
面積と等しい面積の円の直径を表す）は、５７１ｍ以下
が好ましいが、特に好ましいのは３μｍ以下である。

本発明のハロゲン化銀乳剤は、いかなる粒子サイズ分布
を持つｂのを用いても構わない。粒子サイズ分布の広い
乳剤（多分散乳剤と称する）を用いてもよいし、粒子サ
イズ分布の狭い乳剤（単分散乳剤と称づ゛る。ここでい
う単分散乳剤とは、粒径の分布の標ＬＰ、ｖＡ差・を平
均粒径で割ったときに、その値が０．２０以下のものを
いう。ここで粒径は球状のハロゲン化銀の場合はその直
径を、球状以外の形状の粒子の場合は、その投影像を同
面積の円像に換算したときの直径を示す。）を単独又は
数種類混合してもよい。又、多分散乳剤と単分散乳剤を
混合して用いてもよい。

本発明のハロゲン化銀乳剤は、別々に形成した２種以上
のハロゲン化銀乳剤を混合して用いてもよい。

本発明のハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感する
ことができる。即ち、硫黄増感法、セレン増感法、還元
増感法、金その他の負金属化合物を用いる負金属増感法
などを単独で又は組み合わせて用いることができる。

また、ハロゲン化銀乳剤層には色素形成カプラーを含有
させてカラー感光材料どしてもよい。

［実施例１ 次に本発明を実施例によって更に具体的に説明する。

実施例１ 臭化銀２６モル％、沃化銀０．１モル％を含む塩臭化銀
乳剤を金増感及び硫黄増感した。この乳剤を１−カルボ
キシメチル− ２−ベンズオキサシリニシン）−１チリデン］＝３−フ
ェニル−２−チオヒダントインを用いて光学増感し、こ
れにゼラチン、本発明のラテックス、アニオン性界面活
性剤およびノニオン性界面活性剤を添加し、更に安定剤
、硬膜剤を加えた後、下引加工されたポリ■ブレンテレ
フタレートフィルムベース上に常法により塗布乾燥して
試料（Ｎｏ１〜２３）を１１！した。ゼラチンは　１．
２０／　ｉｌ用いた。この試料にネガ用］ンタクトスク
リーンを密着させてタングステン光源で１０秒間露光を
与えた。

次いで下記組成の現像液で現像処理した後、サクラ網点
濃度計ＰＤＰ−１１（小西六写真工業（株）製）で網点
ｆｌｕＦを測定した。網点品質は５％網点を１００倍の
ルーペで観察し、網点周辺のフリンジの非常に少なく尖
鋭なものを５級とし、フリンジの非常に多いものを１級
としてその間を４級、３級、２級と５段階に分類した。

カブリおよび感度は小西六写真工業（株）装態光計ＫＳ
−１型で測定した。感度は、カブリ＋０、７の濃酸で与
える露光Ｍの逆数をいい、コントロール試料の即日感度
を１００とする比感度で示した。膜物性は寸度安定性及
び写真構成層の接着性（いわゆる膜付強度）で求めた。

［処理条件］ 現　　　９　　　　　　　２９℃　　　　　　　３０秒
定　　　着　　　　　　　２８℃　　　　　　　２０秒
水　　　洗　　　　　　　２０℃　　　　　　　２０秒
乾　　　　燥　　　　　　　４　５℃　　　　　　　３
０秒［現像液（原液）］ 臭化カリウム　　　　　　　　　　　　２．５ｇエチレ
ンジアミン四酢酸二ナトリウム　１ｇ亜硫酸カリウム（
５５％水溶１）　　　９０戴炭酸カリウム　　　　　　
　　　　　２５（１ハイドロキノン　　　　　　　　　
　　１００５−メチルベンゾトリアゾール　　　　１　
００ｍｇ５−ニトロベンゾトリアゾール　　　　ｉ　ｏ
ｏｍ。

１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール３０ｍ（１ ５−ニトロインダゾール　　　　　　５０１１１（１１
−］］■ニルー４ーメチルー４ーヒドロキシメチル３−
ピラゾリドン　　　　０．５ｇジエヂレングリ］−ル　
　　　　　　６００水酸化ナトリウム　　ｐＨを１０．
６に調整Ｊる４水を加えで、５００−に什−トげる．（
　＋１）−１１０．６）使用時には、上記原液を水で２
倍化に稀釈して用いる。

［定着液１ （パートＡ） チオ硫酸アンモニウム　　　　　　　　１７０ｇ亜硫酸
ナトリウム　　　　　　　　　１５９ホウ酸　　　　　
　　　　　　　　　　６，５０氷酢Ｍ　　　　　　　　
　　　　　　　１２ｄクエン酸ナトリウム（２水塩）　
　　　　２．　５９水を加えて２７５ｄに仕上げる。

（パートＢ） ＠酸アルミニウム（１８水塩）　　　１５ｇ９８％＠　
ｌｉ２．　５ｇ 水を加えて、４０−に仕上げる。

使用液の調整方法は、上記パートＡ　２７５１１Ｑに水
約６００ｄを加えた後、パートＢ　４　０　ｄを加え、
さらに、水を加えてｉ　ｏ　ｏ　ｏ　ｎ１２に仕上げる
。

［膜付試験１ 生フィルムおよび現像処理済みの乾燥フィルムの乳剤面
にカミソリの刃を用いて基盤目状に゛約５１１１間隔に
傷をつけ、この上にセロハンテープで均−に貼りつ【プ
瞬間的に剥離し、セロハンテープの粘着面に付いて剥れ
た部分とＩＩＩ　１　ｂないで残った部分とを面積比％
で測定した。この値１．を小さい稈よいが２０％未満で
あれば実用上問題イｊしとされている。

この方法で剥朗部分が０〜１０％未満をΔＡ１１０〜２
０％未満をＡｌ２Ｏ〜４０％未満を８１４０〜８０％未
満なＣ１８０〜１００％をＤとした。

［寸度安定性］ 寸度安定性は寸度変化率で表わづ。１度変化率は、長さ
２００ＩｌｌＩＩｌの露光した試別の処即前の寸法をＸ
１ｌｌｌ１１．処理後をＹＩｌｌｗｌとし次式によって
求める。

寸度変化率（％）　＝　（Ｙ−Ｘ）　／　２００Ｘ１０
０当業界では、寸度変化率±０．０１％以下ならば実用
上問題なしとされている。

なお表面固定化合物の量はｔツマ−■に対する重重％で
示した。又ラテックスはゼラチンに対して４０重ｐ％含
右し、ノニオン性界面活性剤は／ｌ０１１１０／ｎ’含
右しｊこ。なおア三オン竹Ｗ面活竹剤の含有量はｍＱ／
ｆで表−１８よび２中に記しＩこ。

結宋を表−１および２に示す。

以下余白 １ρρ 試１３１Ｎ０．１のラテックスはラテックスＬ−（１”
）に同じ。

試１３１　Ｎ　Ｏ，２のラテックスはラテックスｌ−（
２＞に同じ。

試料ＮＯ６３のラテックスはラテックスＬ−（３）に同
じ。

試料Ｎ０１６のラテックスはラテックスＬ−（６）に同
じ。

試１１１Ｎｏ、１２のラテックスはラテックスｌ−−（
１２）に同じ。

比較ラテックス■　特公昭４５−５３３１号記載−＋Ｃ
Ｈ２−ＣＨ→−Ｍｎ　　　＝　　　１１０，０００ＣＯ
ＯＣ２ト１５ 比較ラテックス■　特公昭４５−１８４１５号記載Ｃ０
０Ｃ２＋５ ＣＯＯＣ＋１２　ＣＨ２Ｃｆ−１２Ｓ　Ｏａ　ＫＸ：Ｙ
＝９０：１０ Ｍｎ　＝９１，０００ ましＯ ＥＡ：エチルアクリレート １３△ニブチルアクリレート Ｓｔ　：スチレン ＡＡニアクリル酸 ＭＡＡ　：メタクリル酸 ＶＡＣ：酢酸ビニル ｖｄＣ，ｇ：ビニリデンクロ５４１ 表−１および２から明らかな如く、比較のラテックスを
含有する比較の試料Ｎｏ、１１および２２は寸度安定性
、膜付が劣る他、網点品質、カブリが劣り、ノニオン性
界面活性剤を含有しない比較の試料Ｎ０．１０および２
１は膜付が劣る他、網点品質が著しく劣り、アニオン性
界面活性剤を含有しない比較の試料Ｎ０８９および２０
は網点品質がかなり改善されているものの膜付が劣る。

これに対して本発明のラテックス、アニオン性界面活性
剤およびノニオン性界面活性剤を含有する本発明の試料
は写真特性に悪影響を与えることない寸度安定性お、ｉ
’Ｌｒ月嚢付゛乎の膜物性並びに網点品質を同時に著し
く改良できることがわかる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 支持体上に少なくとも一層の写真構成層を有するハロゲ
   ン化銀写真感光材料において、前記写真構成層の少なく
   とも一層には親水性基が表面に固定されているラテック
   ス、アニオン性界面活性剤およびノニオン性界面活性剤
   が含有されていることを特徴とするハロゲン化銀写真感
   光材料。