JPS62126362A - ダブルヒ−トシンクダイオ−ドの試験方法 - Google Patents

ダブルヒ−トシンクダイオ−ドの試験方法

Info

Publication number
JPS62126362A
JPS62126362A JP26764385A JP26764385A JPS62126362A JP S62126362 A JPS62126362 A JP S62126362A JP 26764385 A JP26764385 A JP 26764385A JP 26764385 A JP26764385 A JP 26764385A JP S62126362 A JPS62126362 A JP S62126362A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diode
heat sink
double heat
bump electrode
current
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26764385A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Nakayama
修 中山
Yuji Kamitaki
上滝 優治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP26764385A priority Critical patent/JPS62126362A/ja
Publication of JPS62126362A publication Critical patent/JPS62126362A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野J この発明ハ、ダブルヒート・シンクダイオードC以下D
HDと略するJの試験方法に係り、特に大電流印加試験
する場合の′dL流印加力法に関するものである。
〔従来の技?#J この櫨DHDI7)構造は第3図に不す様に銀からなる
バンプ電極(3)とシリコンペレット(4)に構成され
たダイオードペレット(5)とをヒートシンク電極(I
a) (lb)Kて挟持し8囲をカラススリーブ(2)
で包囲、封着したものである。又、ダイオードベレット
(5)とヒートシンク電極(la)、(lb)の接合部
には、はんだ等の余端は使用せず単なる接触のみか、熱
出庸によるわずかな合金層を介Cた接合の状態となって
いる。
このような構造のDI(Dに於て特に、製造されたダイ
オードペレット(5)が定格電流印加状態で長時間の使
用に耐え正常な動作を維持するか否かを短時間で一’l
’lJ断し、欠陥品を除去する手段として定格許容損失
を越える大電流を短時間、印加して上記DHDを試験す
る方法が一般的に知られている。
このような大電流印加試験の方法としては従来第4図に
示す様にlllIDを試験装置VC投入した後、すぐに
印加する電流を目的を達するための電流値(工p)まで
−気に立ち上がらせて印加する方法が用いられていた。
〔発明が解決しようとする間誼点」 従来のDIJDの試験方法は以上の様であるので大電流
印加試験の際シリコンペレット(4ンの接合部で急激に
熱が発生するため、バンブ電極(3)及びシリコンペレ
ット(4)とそれらの周囲に位置するガラススリーブ(
2)との温度差が極めて大きくなり更には銀からなるバ
ンブ電極(3)は表IK示す辿りガラスに比べ熱膨張係
数が約2倍大きいからバンブ電極(3)に使用している
銀が熱膨張によりガラススリーブ(3)とシリコンペレ
ット(4)との間で圧1ICf3され塑性域に達し、電
流印加試験時において収縮し接触不良が発生するなどの
間鴇点があった。
この発明は上記のような間誼点を解消するためになされ
たもので接触不良を発生せず、しかも大電流印加の効果
が従来通り俊られるDHDの試験方法を得ることを囲路
Jとする。
〔間誼点を解決するための手段J この発明に係るD)(Dの試験方法はダブルヒートシン
クダイオードを予め高温状急にしておき、この状態でダ
イオードペレットに定格以上の所定電流値の電流を流し
て上記定格電流値の耐久試験を行うよう圧したものであ
る。
[作用」 この発明に3ける試験方法によればDI(Dの温度を高
めた状態で電流を印加するようにしているのでガラスが
予め、加熱されているため、電流印加時におけるバンブ
電極及びシリコンペレットトの温度差を小さくできるた
め、バンブ電極の変形量か弾性域内で収まり接触不良を
無くすことができる。
〔発明の実施例] 以上、この発明の一実施例を第1図に基づいて説明する
。まず、この発明に放ては第3図に示す様なりHDを試
験装置に投入する。次にこのDHDがl OU [”C
J程度の温度になるようヒーター等により外部からの加
熱分行う。そしてこの椋にDHDの温度を高め次状態で
定格を越える所定値の電流を印加して試験する。
この様なりi(Dの試験方法に於ては、第2図に示す様
にバンプllK m (3)及びシリコンペレット(4
)からなるダイオードペレット(5〕と、このダイオー
ドペレット(5)の周囲に位置するガラススリーブ(2
)との電流を印加した直後に生じる最大温度差(T2m
ax)が、従来の試験方法によって生じる最大温度差(
Tlmax )に比べ非常に小さくなるから、これによ
り、バンブ電極(3)の変形量が小さくなり、本発明の
目的を達成することができる。
なお、上記実施例に放ては、I)[Dの温度を高めた状
態は、試験装置に備えられたヒーターによりDHD1に
外部から加熱するようにして得たか、これに限られるも
のではなく、DHDを内部から加熱する様にしても良い
し発明の効果J 以上のようにこの発明によればDIDを予め高温状急に
しておき、この状態でダイオードペレットに定格以上の
所定奄流直の電流を流して上記定格電流値の耐久試験を
行うようにしたので、パンダ電極の変形が弾性域内に収
まり接触不良の発生を防止できまた本来の試験目的も達
成できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明におけるこの発明の一実施例によるDI
Dの試験方法を示す流れ図、第2図は、D)[Dの電流
印加試験時の各材料の温度と時間の囲体を示す図、第3
図はDHDの断面側面図、第4図は従来のDHD試験方
法を示す流れ図である。 図に汝で(la)、(l b)はヒートシンタ電極、(
2)はガラススリーブ、(3)はバンプ電極、(5)は
ダイオードベレントである。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)バンプ電極を主表面に有したダイオードペレット
    をバンプ電極側とこれの反対側より対向したヒートシン
    ク電極によつて挾持し、ガラススリーブで包囲してなる
    ダブルヒートシンクダイオードを予め高温状態にしてお
    き、上記ダイオードペレットに定格以上の所定電流値の
    電流を流して上記定格電流値の耐久試験を行うことを特
    徴とするダブルヒートシンクダイオードの試験方法。
  2. (2)ダブルヒートシンクダイオードを予め高温状態に
    しておく方法は、試験装置に備えられたヒーターにより
    上記ダブルヒートシンクダイオードを外部から加熱する
    方法であることを特徴とす特許請求の範囲第1項記載の
    ダブルヒートシンクダイオードの試験方法。
  3. (3)ヒーターにより高められる温度は100℃程度で
    あることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載のダブ
    ルヒートシンクダイオードの試験方法。
  4. (4)バンプ電極は銀よりなることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項ないし第3項の何れかに記載のダブルヒ
    ートシンクダイオードの試験方法。
JP26764385A 1985-11-26 1985-11-26 ダブルヒ−トシンクダイオ−ドの試験方法 Pending JPS62126362A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26764385A JPS62126362A (ja) 1985-11-26 1985-11-26 ダブルヒ−トシンクダイオ−ドの試験方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26764385A JPS62126362A (ja) 1985-11-26 1985-11-26 ダブルヒ−トシンクダイオ−ドの試験方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62126362A true JPS62126362A (ja) 1987-06-08

Family

ID=17447522

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26764385A Pending JPS62126362A (ja) 1985-11-26 1985-11-26 ダブルヒ−トシンクダイオ−ドの試験方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62126362A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104820178A (zh) * 2015-04-09 2015-08-05 深圳深爱半导体股份有限公司 筛选转移特性曲线具有双线缺陷的场效应管的方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104820178A (zh) * 2015-04-09 2015-08-05 深圳深爱半导体股份有限公司 筛选转移特性曲线具有双线缺陷的场效应管的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW398045B (en) Method for mounting semiconductor element to circuit board, and semiconductor device
JP3918279B2 (ja) 多段電子冷却装置及びその製造方法
KR20020018671A (ko) 임펄스 열밀봉기 등의 히터선
Ge et al. Failure mechanism investigations of bond wires lifting-off and die-attach solder aging considering the thermal coupling effects
CN103071876B (zh) 一种封装焊接方法和装置
JPS62126362A (ja) ダブルヒ−トシンクダイオ−ドの試験方法
JP3520208B2 (ja) 回路基板への半導体素子の装着方法、及び半導体装置
JPH03225934A (ja) 半導体集積回路素子の接続方法
EP0503094A4 (en) Method of electrically joining objects to be joined including ceramics
JP2870822B2 (ja) シリコンとガラスとの接合方法
JPH0864876A (ja) サーモモジュール
JPH0448573A (ja) 正特性サーミスタ発熱体の製造方法
JP2825088B2 (ja) 半導体装置の製造装置およびその製造方法
TW202119886A (zh) 具有加熱功能的轉接板以及電子裝置
JPH1117044A (ja) Bgaの実装方法
Green A fatigue-free silicon device structure
JPH07201516A (ja) サーミスタ
JPS62126363A (ja) ダブルヒ−トシンクダイオ−ドの試験方法
Stonebraker Design and development of a high power, low saturation voltage, multi-chip silicon switching transistor Final progress report
JPS63293839A (ja) 半導体装置
JPH07105505B2 (ja) 陽極接合方法
JPH04137561A (ja) 圧接型半導体装置
JPH02109209A (ja) 電極端子転移用異方性導電膜の形成方法
JPS61123163A (ja) ダブル・ヒ−トシンク・ダイオ−ドの製造方法
JP3183196B2 (ja) 正特性サーミスタ発熱体