JPS62132682A - 転写方法 - Google Patents
転写方法Info
- Publication number
- JPS62132682A JPS62132682A JP27480885A JP27480885A JPS62132682A JP S62132682 A JPS62132682 A JP S62132682A JP 27480885 A JP27480885 A JP 27480885A JP 27480885 A JP27480885 A JP 27480885A JP S62132682 A JPS62132682 A JP S62132682A
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- JP
- Japan
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- transferred
- laser light
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ｃ産業上の利用分野）
この発明は転写方法に関する。
（従来の技術及その問題点）
支持体と転写層からなる転写材料の転写は従来、彫刻金
型による加熱加圧により所望の模様１図柄、文字等を被
転写体に転写していた。
型による加熱加圧により所望の模様１図柄、文字等を被
転写体に転写していた。
しかしこの従来法では緻密でシャープな転写が充分に行
なえず、特に多数の微細な点例えば−辺が０．５ｆｉの
正方形を等間隔に転写する場合にはエッヂのシャープな
転写は出来ず、各転写部分がスポット状にならず接する
状態となる。これは、微細な点を金型加圧する必要から
ピッチが極めて小さく凹部本極めて浅くなり、その結果
彫刻金型の凹凸における凹部の切り込みが不足するから
である。
なえず、特に多数の微細な点例えば−辺が０．５ｆｉの
正方形を等間隔に転写する場合にはエッヂのシャープな
転写は出来ず、各転写部分がスポット状にならず接する
状態となる。これは、微細な点を金型加圧する必要から
ピッチが極めて小さく凹部本極めて浅くなり、その結果
彫刻金型の凹凸における凹部の切り込みが不足するから
である。
この発明は上記の欠点を除去する本のである。
ｃ問題点を解決するための手段）
この発明は、図面を参照しつつ説明すると、支持体１０
と転写層２０からなる転写材料３０の支持体１゜側に所
望の模様、図柄、文字等を現出させたパターン４０を設
置又は形成し、転写層２０側を被転写体５０に当接しで
、前記パターン４０の上からレーザー光６０を照射して
、レーザー光６０を転写層２０１ｃて収斂きせると共に
熱エネルギーにかえて転写層２０を融解させることによ
り、転写層２０を前記パターン４０の模様５図柄、文字
等に対応１−で被転写体５０に転写させることを特徴と
する、転写方法である。
と転写層２０からなる転写材料３０の支持体１゜側に所
望の模様、図柄、文字等を現出させたパターン４０を設
置又は形成し、転写層２０側を被転写体５０に当接しで
、前記パターン４０の上からレーザー光６０を照射して
、レーザー光６０を転写層２０１ｃて収斂きせると共に
熱エネルギーにかえて転写層２０を融解させることによ
り、転写層２０を前記パターン４０の模様５図柄、文字
等に対応１−で被転写体５０に転写させることを特徴と
する、転写方法である。
この発明では、パターン４０の模様２図柄、文字等の部
分を通過したレーザー光６０は転写材料３０の支持体１
０内を透過して、被転写体５０に接している転写Ｎｊ２
０にてこれを収斂させると共に熱エネルギーにかえる。
分を通過したレーザー光６０は転写材料３０の支持体１
０内を透過して、被転写体５０に接している転写Ｎｊ２
０にてこれを収斂させると共に熱エネルギーにかえる。
この結果その部分の転写層２０が融解して被転写体５０
に溶融付着する。この場合例えば模様が多数の微細な点
や線であっても周辺への熱的影響は少なく、微細な点や
線にのみ熱エネルギーが集まるので５緻密でシャープな
転写が可能となるものである。微細な点は大体−辺が０
．０２ ｆｌの正方形位まで可能である。
に溶融付着する。この場合例えば模様が多数の微細な点
や線であっても周辺への熱的影響は少なく、微細な点や
線にのみ熱エネルギーが集まるので５緻密でシャープな
転写が可能となるものである。微細な点は大体−辺が０
．０２ ｆｌの正方形位まで可能である。
転写材料３０の支持体１０はレーザー光を透過させる物
体からなり１例えばガラス、プラスチックフィルム等が
使用できる。転写層２０の具体的構造は特に問わないつ
例えば、セラミック粉末塗料、金属粉末塗料、樹脂塗料
、無機化合物粉末塗料等を支持体１０の片面に塗布！−
で形成することができる。
体からなり１例えばガラス、プラスチックフィルム等が
使用できる。転写層２０の具体的構造は特に問わないつ
例えば、セラミック粉末塗料、金属粉末塗料、樹脂塗料
、無機化合物粉末塗料等を支持体１０の片面に塗布！−
で形成することができる。
この場合それぞれ、セラミック膜、金属膜、樹脂膜、無
機化合物膜が被転写体５０に転写形成されるものである
。支持体１０にはあらかじめ離型１−を設けておいても
よめ。
機化合物膜が被転写体５０に転写形成されるものである
。支持体１０にはあらかじめ離型１−を設けておいても
よめ。
パターン４０は金属板に微細な点などの模様、図柄１文
字等を打ち抜いたもの、ガラスに金属薄膜を形成しこれ
をエツチングしたもの等が使用でき、また、支持体１０
の転写層２０とは反対側の面にＡｐ等の金属蒸着層を形
成しこれをエツチングしてもよい。
字等を打ち抜いたもの、ガラスに金属薄膜を形成しこれ
をエツチングしたもの等が使用でき、また、支持体１０
の転写層２０とは反対側の面にＡｐ等の金属蒸着層を形
成しこれをエツチングしてもよい。
レーザー光６０け収縮、収束、拡散するので、パターン
４０の点などの模様、図柄１文字等の大きさは、ある程
度自由であり、最終的にはレーザー光６０で大きさを自
由に調整できるものである。
４０の点などの模様、図柄１文字等の大きさは、ある程
度自由であり、最終的にはレーザー光６０で大きさを自
由に調整できるものである。
（発明の効果）
■この発明は従来のような彫刻金型は必要ない。
■一応のパターンさえ設置又は形成すれば具体的な寸法
の縮少や拡大が自由に行なえる。
の縮少や拡大が自由に行なえる。
■非常に微細な点や線などの転写でも、緻密でシャープ
な転写ができ、例えば転写した多数の微細な点のエッヂ
部分が接したりすることがなく、各転写部分が完全にス
ポット状になる。
な転写ができ、例えば転写した多数の微細な点のエッヂ
部分が接したりすることがなく、各転写部分が完全にス
ポット状になる。
■従来の彫刻金型のような上下運動もなく機械音もない
静的作業なのでクリーンな環境づくりが可能である。
静的作業なのでクリーンな環境づくりが可能である。
第１図はこの発明の転写時における状態を示す説明図で
あり、第２図は転写後の状態を示す断面説明図である。 第３図は従来の彫刻金型による転写後の転写層のエッヂ
部分の状態を示す平面図である。 １０・・・・・支持体 ２０・・・・・転 写 層 ５０・・・・・転写材料 ４０・・・・・パターン ５０・・・・・被転写体 ６０・・・・・レーザー光
あり、第２図は転写後の状態を示す断面説明図である。 第３図は従来の彫刻金型による転写後の転写層のエッヂ
部分の状態を示す平面図である。 １０・・・・・支持体 ２０・・・・・転 写 層 ５０・・・・・転写材料 ４０・・・・・パターン ５０・・・・・被転写体 ６０・・・・・レーザー光
Claims (1)
- 支持体と転写層からなる転写材料の支持体側に所望の模
様、図柄、文字等を現出させたパターンを設置又は形成
し、転写層側を被転写体に当接して、前記パターンの上
からレーザー光を照射して、レーザー光を転写層にて収
斂させると共に熱エネルギーにかえて転写層を融解させ
ることにより、転写層を前記パターンの模様、図柄、文
字等に対応して被転写体に転写させることを特徴とする
、転写方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27480885A JPS62132682A (ja) | 1985-12-05 | 1985-12-05 | 転写方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27480885A JPS62132682A (ja) | 1985-12-05 | 1985-12-05 | 転写方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62132682A true JPS62132682A (ja) | 1987-06-15 |
Family
ID=17546850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27480885A Pending JPS62132682A (ja) | 1985-12-05 | 1985-12-05 | 転写方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62132682A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010042675A (ja) * | 2008-08-14 | 2010-02-25 | Shenzhen Futaihong Precision Industrial Co Ltd | ハウジングにパターンを形成する方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50458A (ja) * | 1972-11-21 | 1975-01-07 | ||
| JPS5555890A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-24 | Shiseido Co Ltd | Laser-beam printing method and method therefor |
-
1985
- 1985-12-05 JP JP27480885A patent/JPS62132682A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50458A (ja) * | 1972-11-21 | 1975-01-07 | ||
| JPS5555890A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-24 | Shiseido Co Ltd | Laser-beam printing method and method therefor |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010042675A (ja) * | 2008-08-14 | 2010-02-25 | Shenzhen Futaihong Precision Industrial Co Ltd | ハウジングにパターンを形成する方法 |
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