JPS621333B2 - - Google Patents
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- JPS621333B2 JPS621333B2 JP55090643A JP9064380A JPS621333B2 JP S621333 B2 JPS621333 B2 JP S621333B2 JP 55090643 A JP55090643 A JP 55090643A JP 9064380 A JP9064380 A JP 9064380A JP S621333 B2 JPS621333 B2 JP S621333B2
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/0144—Means for after-treatment or catching of worked reactant gases
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- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03B2207/04—Multi-nested ports
- C03B2207/06—Concentric circular ports
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/04—Multi-nested ports
- C03B2207/08—Recessed or protruding ports
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B2207/00—Glass deposition burners
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- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
従来の光フアイバ母材の製造方法を第１図に示
す。これは火炎加水分解バーナ１でガラス微粒子
を含んだ火炎５を発生させ、これを矢印８方向に
回転しながら矢印７方向へ移動するターゲツト４
に吹付けてロツド状の多孔質ガラス母材２を成長
させる。その後加熱源３で焼結して透明な光フア
イバ母材にする方法である。そして光フアイバ母
材の屈折率分布および外径の変動を抑制するため
に、反応容器６内の圧力を圧力検出装置１５で検
出し、その出力信号を制御部１８を通してバルブ
開閉装置１６にフイードバツクさせて排気量を制
御する構成になつている。ところがこの方法につ
いて検討した結果、次のような問題点があること
がわかつた。
す。これは火炎加水分解バーナ１でガラス微粒子
を含んだ火炎５を発生させ、これを矢印８方向に
回転しながら矢印７方向へ移動するターゲツト４
に吹付けてロツド状の多孔質ガラス母材２を成長
させる。その後加熱源３で焼結して透明な光フア
イバ母材にする方法である。そして光フアイバ母
材の屈折率分布および外径の変動を抑制するため
に、反応容器６内の圧力を圧力検出装置１５で検
出し、その出力信号を制御部１８を通してバルブ
開閉装置１６にフイードバツクさせて排気量を制
御する構成になつている。ところがこの方法につ
いて検討した結果、次のような問題点があること
がわかつた。
(1) 排気装置１７の排気速度の変動に敏感であ
る。
る。
(2) 排気ガスは塩素ガスなどの腐蝕性ガスを含
み、かつ高温であるために、バルブ開閉装置１
６（通常、バタフライバルブを使用。）を腐蝕
し易く、装置の性能劣化がある。
み、かつ高温であるために、バルブ開閉装置１
６（通常、バタフライバルブを使用。）を腐蝕
し易く、装置の性能劣化がある。
(3) この方法は排気管の断面積を変えることによ
り圧力を制御する方法であるために、排気ガス
中に含まれているガラス微粒子がバルブ開閉装
置に付着して圧力を変動させ易い。
り圧力を制御する方法であるために、排気ガス
中に含まれているガラス微粒子がバルブ開閉装
置に付着して圧力を変動させ易い。
(4) バタフライバルブを使用した場合、圧力を広
範囲にわたつて直線性よく変えることがむずか
しい。
範囲にわたつて直線性よく変えることがむずか
しい。
上記問題点を解決させるために本発明者は、先
に排気ガスの流れ方向に沿つてバイアス用のガス
を流し、そのガス流量を調節することによつて反
応容器内の圧力を制御する方法を提案し、特許出
願を行なつた。（第２図、第３図参照）。この方法
は排気管側に排気ガス流量調節用バルブ開閉装置
を設けていないので、従来法のような問題が生じ
ない。またガス供給調節装置１９の操作により、
反応容器６内の圧力を広範囲にわたつて直線性よ
く変えることができ、制御性がよい。その一例を
第４図に示す。これは矢印２１′方向へ流す内圧
制御用ガスＦC（この場合、N2を使用したが、
Ar、He、O2、空気などでもよい。）と反応容器
６内の圧力ΔＰ（これは大気圧との差圧値）との
関係を示したものである。この結果はＦCを20
／minに保ち、ΔＰをそれぞれ、−0.5、−１、−
1.5、−２mmAqとなるように排気装置１７で設定
した状態（図中の〓印）において、ＦCを変えて
ΔＰを測定したものである。ところがこの方法に
おいて、反応容器６内への入力供給ガス流量ＦI
（バーナ１から噴射させるガス流量、矢印１１′方
向へ流すガス流量、さらに第２図には図示してい
ないがバーナ外周に沿つて流している火炎保護用
のガスなどを含む。）が変化するとΔＰが敏感に
変わるということがあり、このΔＰや変動させな
いためにＦIを高精度に制御する必要があつた。
第５図にＦIとΔＰとの関係の一例を示す。これ
はＦCを20／minに保ち、ＦIの初期値をそれぞ
れ、10／min、30／minとしてΔＰを−0.5、
−１mmAqとなるように排気装置１７で設定した
状態（図中の〓印）から、ＦIを変えてΔＰを測
定したものである。このようにＦIのわずかの変
化でΔＰが変り易い。したがつて、ＦIのわずか
の変化に対してもΔＰが敏感に応答しないような
方法があると極めて望ましい。
に排気ガスの流れ方向に沿つてバイアス用のガス
を流し、そのガス流量を調節することによつて反
応容器内の圧力を制御する方法を提案し、特許出
願を行なつた。（第２図、第３図参照）。この方法
は排気管側に排気ガス流量調節用バルブ開閉装置
を設けていないので、従来法のような問題が生じ
ない。またガス供給調節装置１９の操作により、
反応容器６内の圧力を広範囲にわたつて直線性よ
く変えることができ、制御性がよい。その一例を
第４図に示す。これは矢印２１′方向へ流す内圧
制御用ガスＦC（この場合、N2を使用したが、
Ar、He、O2、空気などでもよい。）と反応容器
６内の圧力ΔＰ（これは大気圧との差圧値）との
関係を示したものである。この結果はＦCを20
／minに保ち、ΔＰをそれぞれ、−0.5、−１、−
1.5、−２mmAqとなるように排気装置１７で設定
した状態（図中の〓印）において、ＦCを変えて
ΔＰを測定したものである。ところがこの方法に
おいて、反応容器６内への入力供給ガス流量ＦI
（バーナ１から噴射させるガス流量、矢印１１′方
向へ流すガス流量、さらに第２図には図示してい
ないがバーナ外周に沿つて流している火炎保護用
のガスなどを含む。）が変化するとΔＰが敏感に
変わるということがあり、このΔＰや変動させな
いためにＦIを高精度に制御する必要があつた。
第５図にＦIとΔＰとの関係の一例を示す。これ
はＦCを20／minに保ち、ＦIの初期値をそれぞ
れ、10／min、30／minとしてΔＰを−0.5、
−１mmAqとなるように排気装置１７で設定した
状態（図中の〓印）から、ＦIを変えてΔＰを測
定したものである。このようにＦIのわずかの変
化でΔＰが変り易い。したがつて、ＦIのわずか
の変化に対してもΔＰが敏感に応答しないような
方法があると極めて望ましい。
本発明は、反応容器内への入力供給ガス流量の
変化に対してΔＰが敏感に応答しにくい方法、か
つ圧力調節用装置の操作に対して直線性よく圧力
を制御する方法を提案することにある。すなわち
排気側の排気管に大気中の空気を吸い込んで排気
ガスにバイアスを加えるような空気吸入量調節機
構を設けて所望の空気を吸入させるようにし、か
つ排気ガスの流れ方向、あるいは反応容器内へ供
給するガスの流れ方向に沿つてガスを供給し調節
する機能をもつたガス供給調節装置を設け、その
調節装置を操作することによつて反応容器内の圧
力を制御する方法である。
変化に対してΔＰが敏感に応答しにくい方法、か
つ圧力調節用装置の操作に対して直線性よく圧力
を制御する方法を提案することにある。すなわち
排気側の排気管に大気中の空気を吸い込んで排気
ガスにバイアスを加えるような空気吸入量調節機
構を設けて所望の空気を吸入させるようにし、か
つ排気ガスの流れ方向、あるいは反応容器内へ供
給するガスの流れ方向に沿つてガスを供給し調節
する機能をもつたガス供給調節装置を設け、その
調節装置を操作することによつて反応容器内の圧
力を制御する方法である。
以下に実施例を用いて本発明の方法を説明す
る。
る。
第６図に本発明の内圧制御法の概略図を示す。
これには２つの内圧制御法が示されている。一つ
は圧力検出器１５で反応容器６内の内圧を検出
し、この検出信号を制御部１８を通してガス供給
調節装置１９にフイードバツクさせる方法であ
る。この場合、矢印２１″，２１，２３，２
３′，２３″方向へ送り込むガス流量は一定とし
た。２４は大気中の空気を排気管１３内に吸い込
ませるための穴であり、矢印２５，２５′，２
５″は上記穴を通して排気管１３内へ吸い込まれ
る空気の流れ方向を示したものである。矢印１４
は排気ガスの流れ方向を示し、矢印２６は排気ガ
スに吸入空気がバイアスされたガスの流れ方向を
示したものである。この空気吸入用穴２４の大き
さ、数量はそれが大きいほど、またその数量が多
いほど空気吸入量が多くなり、入力供給ガス流量
ＦIの変動に対する圧力の変動は緩和され易くな
る。穴の形状は円、四角、長方形などいずれでも
よく、またスリツト状のものさらには管を枝状に
多数本設けたものでもよい。またこの穴の位置は
排気装置に近い方でもよく、あるいはガス供給管
２０に設けてもよい。さらには排気管１３に全体
にわたつて設ければ排気管内壁へのガラス微粒子
の付着を抑制することができ効果的である。次に
この方法の具体例について述べる。
これには２つの内圧制御法が示されている。一つ
は圧力検出器１５で反応容器６内の内圧を検出
し、この検出信号を制御部１８を通してガス供給
調節装置１９にフイードバツクさせる方法であ
る。この場合、矢印２１″，２１，２３，２
３′，２３″方向へ送り込むガス流量は一定とし
た。２４は大気中の空気を排気管１３内に吸い込
ませるための穴であり、矢印２５，２５′，２
５″は上記穴を通して排気管１３内へ吸い込まれ
る空気の流れ方向を示したものである。矢印１４
は排気ガスの流れ方向を示し、矢印２６は排気ガ
スに吸入空気がバイアスされたガスの流れ方向を
示したものである。この空気吸入用穴２４の大き
さ、数量はそれが大きいほど、またその数量が多
いほど空気吸入量が多くなり、入力供給ガス流量
ＦIの変動に対する圧力の変動は緩和され易くな
る。穴の形状は円、四角、長方形などいずれでも
よく、またスリツト状のものさらには管を枝状に
多数本設けたものでもよい。またこの穴の位置は
排気装置に近い方でもよく、あるいはガス供給管
２０に設けてもよい。さらには排気管１３に全体
にわたつて設ければ排気管内壁へのガラス微粒子
の付着を抑制することができ効果的である。次に
この方法の具体例について述べる。
第７図、第８図に具体的実施例の特性を示す。
まず第７図は矢印２１方向へO2ガスを10／
minし、また矢印２３，２３′，２３″方向へそれ
ぞれ一定流量（数／min〜10数／min）を流
し、かつ矢印２１′方向へ流す内圧制御用ガスＦC
（N2ガス）を20／minに保つた状態でΔＰを−
0.5mmAqとなるように排気装置１７で設定（図中
の〓印）しておき、その後ＦCを変えてΔＰを測
定した特性である。そして排気管１３へ設けた穴
（この場合５mmの直径とした。）をパラメータにし
たものである。穴の数が多くなるにつれてＦC−
ΔＰ曲線の勾配はゆるやかになつている。実際の
多孔質ガラス母材の堆積中のΔＰの変動は最大２
〜３割程度であるので、上記第７図の場合の穴の
数が24ケの場合でも直線性よく制御することがで
きる。次に第８図の結果は、矢印２１方向へ流
すガスＦI（この場合O2ガスを用いた。）を10
／minに保ち、また矢印２３，２３′，２３″方
向へそれぞれ一定流量（数／min〜10数／
min）を流し、かつＦCを20／minに保つた状態
でΔＰを−0.5mmAqとなるように排気装置１７で
設定（図中の〓印）しておき、その後ＦIを変え
てΔＰを測定した特性である。そして排気管１３
へ設けた穴（この場合５mmの直径とした。）をパ
ラメータにしたものである。穴の数が多くなるに
つれてＦIの変化に対してΔＰの変化量は小さく
なるという好ましい結果である。すなわち、ＦI
のわずかの変化に対してΔＰが敏感に応答しにく
くなつてくるという本発明の効果が得られてい
る。
まず第７図は矢印２１方向へO2ガスを10／
minし、また矢印２３，２３′，２３″方向へそれ
ぞれ一定流量（数／min〜10数／min）を流
し、かつ矢印２１′方向へ流す内圧制御用ガスＦC
（N2ガス）を20／minに保つた状態でΔＰを−
0.5mmAqとなるように排気装置１７で設定（図中
の〓印）しておき、その後ＦCを変えてΔＰを測
定した特性である。そして排気管１３へ設けた穴
（この場合５mmの直径とした。）をパラメータにし
たものである。穴の数が多くなるにつれてＦC−
ΔＰ曲線の勾配はゆるやかになつている。実際の
多孔質ガラス母材の堆積中のΔＰの変動は最大２
〜３割程度であるので、上記第７図の場合の穴の
数が24ケの場合でも直線性よく制御することがで
きる。次に第８図の結果は、矢印２１方向へ流
すガスＦI（この場合O2ガスを用いた。）を10
／minに保ち、また矢印２３，２３′，２３″方
向へそれぞれ一定流量（数／min〜10数／
min）を流し、かつＦCを20／minに保つた状態
でΔＰを−0.5mmAqとなるように排気装置１７で
設定（図中の〓印）しておき、その後ＦIを変え
てΔＰを測定した特性である。そして排気管１３
へ設けた穴（この場合５mmの直径とした。）をパ
ラメータにしたものである。穴の数が多くなるに
つれてＦIの変化に対してΔＰの変化量は小さく
なるという好ましい結果である。すなわち、ＦI
のわずかの変化に対してΔＰが敏感に応答しにく
くなつてくるという本発明の効果が得られてい
る。
第９図の結果はガス供給管２０の側面に大気中
の空気を吸入させる穴（この場合3.8mmの直径と
した。）を設けない場合と設けた場合（数量９
ケ）のＦI−ΔＰ特性曲線を示したものである。
この場合も第８図の結果と同様に、穴を設けるこ
とによつてＦIの変化に対するΔＰの変化量を小
さくすることができることを示している。
の空気を吸入させる穴（この場合3.8mmの直径と
した。）を設けない場合と設けた場合（数量９
ケ）のＦI−ΔＰ特性曲線を示したものである。
この場合も第８図の結果と同様に、穴を設けるこ
とによつてＦIの変化に対するΔＰの変化量を小
さくすることができることを示している。
次に第６図のもう一つの内圧制御法について述
べる。これは圧力検出器１５で反応容器６内の内
圧を検出し、この検出信号を制御部１８を通して
入力供給ガス調節装置１９′にフイードバツクさ
せる方法である。ただしこの場合、矢印２３，２
３′，２３″方向へ送り込むガス流量は一定とす
る。そして、矢印２１方向へは一定流量のガスを
送り込んでもよく、あるいは穴２４と同じように
大気中の空気を吸入させるようにしてもよい。し
たがつて、１９は供給ガス流量調節装置、あるい
は空気吸入量調節装置としての機能をもたせてあ
る。入力供給ガス調節装置１９′を操作して矢印
２１方向へ流すガス流量調節することによりΔ
Ｐを制御できることは第５図、第８図、第９図の
結果からも明らかである。この方法の特徴は排気
装置１７の排気速度の変動に対してΔＰが大きく
変動しないことである。第１０図はその一例であ
る。これは排気装置１７側の排気管に排気量を乱
すためのバタフライバルブを設け、そのバルブを
回転させることによつてΔＰがどの程度変動する
かを測定した結果である。ΔＰはあまり大きく変
化していないことがわかる。すなわち、外乱に対
して安定で、かつ制御性が良い。
べる。これは圧力検出器１５で反応容器６内の内
圧を検出し、この検出信号を制御部１８を通して
入力供給ガス調節装置１９′にフイードバツクさ
せる方法である。ただしこの場合、矢印２３，２
３′，２３″方向へ送り込むガス流量は一定とす
る。そして、矢印２１方向へは一定流量のガスを
送り込んでもよく、あるいは穴２４と同じように
大気中の空気を吸入させるようにしてもよい。し
たがつて、１９は供給ガス流量調節装置、あるい
は空気吸入量調節装置としての機能をもたせてあ
る。入力供給ガス調節装置１９′を操作して矢印
２１方向へ流すガス流量調節することによりΔ
Ｐを制御できることは第５図、第８図、第９図の
結果からも明らかである。この方法の特徴は排気
装置１７の排気速度の変動に対してΔＰが大きく
変動しないことである。第１０図はその一例であ
る。これは排気装置１７側の排気管に排気量を乱
すためのバタフライバルブを設け、そのバルブを
回転させることによつてΔＰがどの程度変動する
かを測定した結果である。ΔＰはあまり大きく変
化していないことがわかる。すなわち、外乱に対
して安定で、かつ制御性が良い。
次に実施例に用いた制御部の一例を第１１図に
示す。Viは圧力検出器の検出信号、VrはΔＰの
基準設定値に相当する電圧（この場合、−１mmAq
で0.1Vとした。）、Voは出力信号である。このVo
は１９、あるいは１９′のガス流量調節装置のDC
モータ駆動電圧である。１９あるいは１９′はニ
ードルバルブ付流量計のバルブ軸にDCモータを
直結させた構成のもの、あるいは回転円板の軸に
DCモータを直結させた構成のものを用いた。圧
力検出器には、最大±10mmAqまで測定可能なス
トロンゲージ型（増幅器付）のものを使用し、出
力に最大±1V生ずるようになつている。反応容
器には外径175mm、長さ500mmのものを、また排気
管には内径48mmのものを使用した。
示す。Viは圧力検出器の検出信号、VrはΔＰの
基準設定値に相当する電圧（この場合、−１mmAq
で0.1Vとした。）、Voは出力信号である。このVo
は１９、あるいは１９′のガス流量調節装置のDC
モータ駆動電圧である。１９あるいは１９′はニ
ードルバルブ付流量計のバルブ軸にDCモータを
直結させた構成のもの、あるいは回転円板の軸に
DCモータを直結させた構成のものを用いた。圧
力検出器には、最大±10mmAqまで測定可能なス
トロンゲージ型（増幅器付）のものを使用し、出
力に最大±1V生ずるようになつている。反応容
器には外径175mm、長さ500mmのものを、また排気
管には内径48mmのものを使用した。
上記構成で多孔質ガラス母材を作成しながら、
約８時間の間、内圧制御を行なつた。その結果、
内圧は±１％以下に制御することができ、多孔質
ガラス母材の外径、光フアイバ母材の屈折率分布
がその軸方向にわたつて極めて一様（数％以下）
であることを確認した。
約８時間の間、内圧制御を行なつた。その結果、
内圧は±１％以下に制御することができ、多孔質
ガラス母材の外径、光フアイバ母材の屈折率分布
がその軸方向にわたつて極めて一様（数％以下）
であることを確認した。
本発明は上記実施例に限定されない。たとえば
圧力検出器の位置は反応容器内、あるいは排気管
内でもよい。反応容器形状も円筒状、球形状のも
のでもよく、その大きさも任意のものでもよい。
母材２は直接透明ガラスを作る場合でもよい。ま
た多孔質ガラス母材とガラス化を別工程で行なう
場合でもよい。保護管２２′，２２″，２２はさ
らに同心多重管でもよく、あるいはなくてもよ
い。バーナ１は一本でも複数本の場合でもよい。
矢印２３，２３′，２３″から流すガスはなくても
よい。バーナ１の位置は第６図の場合以外にはな
なめから吹きつけるようにしてもよい。排気管１
３は一本だけでなく複数本としてもよい。母材２
は光フアイバ用以外に単なるガラス（たとえば
SiO2ガラス）でもよい。矢印２１″，２３，２
３′，２３″方向へ送り込むガスはN2、He、Ar、
O2、空気、あるいはこれらの混合ガスでもよ
い。さらに上記実施例では排気ガスにバイアスさ
せるガスとして穴２４から吸い込まれる大気中の
空気としたが、穴２４から強制的に空気、O2、
N2、Ar、Heなどのガスを送り込んでもよい。
圧力検出器の位置は反応容器内、あるいは排気管
内でもよい。反応容器形状も円筒状、球形状のも
のでもよく、その大きさも任意のものでもよい。
母材２は直接透明ガラスを作る場合でもよい。ま
た多孔質ガラス母材とガラス化を別工程で行なう
場合でもよい。保護管２２′，２２″，２２はさ
らに同心多重管でもよく、あるいはなくてもよ
い。バーナ１は一本でも複数本の場合でもよい。
矢印２３，２３′，２３″から流すガスはなくても
よい。バーナ１の位置は第６図の場合以外にはな
なめから吹きつけるようにしてもよい。排気管１
３は一本だけでなく複数本としてもよい。母材２
は光フアイバ用以外に単なるガラス（たとえば
SiO2ガラス）でもよい。矢印２１″，２３，２
３′，２３″方向へ送り込むガスはN2、He、Ar、
O2、空気、あるいはこれらの混合ガスでもよ
い。さらに上記実施例では排気ガスにバイアスさ
せるガスとして穴２４から吸い込まれる大気中の
空気としたが、穴２４から強制的に空気、O2、
N2、Ar、Heなどのガスを送り込んでもよい。
第１図は従来の光フアイバ母材の製造方法を説
明する概略断面図、第２図および第３図は先願の
光フアイバ母材の製造方法を説明する概略断面
図、第４図は先願の光フアイバ母材の製造方法を
用いた場合の内圧制御用ガス流量と反応容器内圧
力との関係を示すグラフ、第５図は先願の光フア
イバ母材の製造方法を用いた場合の入力供給ガス
流量と反応容器内圧力との関係を示すグラフ、第
６図は本発明の光フアイバ母材の製造方法を説明
する概略断面図、第７図は本発明の一実施列にお
ける内圧制御用ガス流量と反応容器内圧力との関
係を示すグラフ、第８図および第９図は本発明の
他の実施例における入力供給ガス流量と反応容器
内圧力との関係を示すグラフ、第１０図は本発明
の他の実施例における排気管のバルブ開度と反応
容器内圧力との関係を示すグラフ、第１１図は本
発明の実施例において用いた制御部の回路図であ
る。 １……火炎加水分解バーナ、２……多孔質ガラ
ス母材、３……加熱源、５……火炎、１５……圧
力検出器、１７……排気装置、１８……制御部、
１９……ガス供給調節装置、１９′……入力供給
ガス調節装置、２４……穴。
明する概略断面図、第２図および第３図は先願の
光フアイバ母材の製造方法を説明する概略断面
図、第４図は先願の光フアイバ母材の製造方法を
用いた場合の内圧制御用ガス流量と反応容器内圧
力との関係を示すグラフ、第５図は先願の光フア
イバ母材の製造方法を用いた場合の入力供給ガス
流量と反応容器内圧力との関係を示すグラフ、第
６図は本発明の光フアイバ母材の製造方法を説明
する概略断面図、第７図は本発明の一実施列にお
ける内圧制御用ガス流量と反応容器内圧力との関
係を示すグラフ、第８図および第９図は本発明の
他の実施例における入力供給ガス流量と反応容器
内圧力との関係を示すグラフ、第１０図は本発明
の他の実施例における排気管のバルブ開度と反応
容器内圧力との関係を示すグラフ、第１１図は本
発明の実施例において用いた制御部の回路図であ
る。 １……火炎加水分解バーナ、２……多孔質ガラ
ス母材、３……加熱源、５……火炎、１５……圧
力検出器、１７……排気装置、１８……制御部、
１９……ガス供給調節装置、１９′……入力供給
ガス調節装置、２４……穴。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 排気装置に連接された排気口を有する反応容
器内にターゲツトを配置し、火炎加水分解バーナ
によつて合成されたガラス微粒子をこのターゲツ
トに吹付け、その軸方向に多孔質ガラス母材を成
長させる方法において、上記排気口と排気装置と
の間で、排気管内を流れる排気ガスの流れ方向に
沿つてバイアスガスを強制的に供給し、該バイア
スガスの合流点と上記排気口との間の排気管に大
気中の空気を吸入させる少なくとも１つの穴を設
けたことを特徴とする光フアイバ母材の製造方
法。 ２ 特許請求の範囲第１項において、前記バイア
スガスが前記反応容器内の圧力変動に応じて流量
調節されることを特徴とする光フアイバ母材の製
造方法。 ３ 特許請求の範囲第２項において、前記圧力変
動は、前記反応容器の内部に設けた圧力検出器に
よつて検出されることを特徴とする光フアイバ母
材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9064380A JPS5717439A (en) | 1980-07-04 | 1980-07-04 | Manufacture of base material for optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9064380A JPS5717439A (en) | 1980-07-04 | 1980-07-04 | Manufacture of base material for optical fiber |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5717439A JPS5717439A (en) | 1982-01-29 |
| JPS621333B2 true JPS621333B2 (ja) | 1987-01-13 |
Family
ID=14004180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9064380A Granted JPS5717439A (en) | 1980-07-04 | 1980-07-04 | Manufacture of base material for optical fiber |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5717439A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58135147A (ja) * | 1982-02-08 | 1983-08-11 | Hitachi Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
| JPS60246232A (ja) * | 1984-05-18 | 1985-12-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
| JP2803510B2 (ja) * | 1993-02-10 | 1998-09-24 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法および装置 |
| JP2009132549A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Covalent Materials Tokuyama Corp | 合成石英ガラスの製造装置 |
| JP5102591B2 (ja) * | 2007-11-29 | 2012-12-19 | コバレントマテリアル株式会社 | 合成シリカガラスの製造装置 |
| JP5615314B2 (ja) * | 2012-03-28 | 2014-10-29 | コバレントマテリアル株式会社 | 合成シリカガラスの製造装置及び合成石英ガラスの製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5626737A (en) * | 1979-08-14 | 1981-03-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Exhaust adjuster for optical fiber base material manufacturing apparatus |
-
1980
- 1980-07-04 JP JP9064380A patent/JPS5717439A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5717439A (en) | 1982-01-29 |
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