JPS62143219A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS62143219A JPS62143219A JP28510585A JP28510585A JPS62143219A JP S62143219 A JPS62143219 A JP S62143219A JP 28510585 A JP28510585 A JP 28510585A JP 28510585 A JP28510585 A JP 28510585A JP S62143219 A JPS62143219 A JP S62143219A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高密Ｖ磁気配分に適し九−気ヘッドに係り、特
に高床磁力記録媒体に対して好適な性能′にイする磁気
ヘッドの製造方法に関する。
に高床磁力記録媒体に対して好適な性能′にイする磁気
ヘッドの製造方法に関する。
本発明は高密度−気記鍔に必袈不町欠な筒保持力記０媒
体に対して好適なＳ気ヘッドの製造方法において、出気
性龍上必要な軟磁性金属膜の回転ｓ界中、−軸磁界中等
の畠界中焼鈍と、ａ気ヘッド加工上重要なガラス融着工
程とｔ同時に行うことに工す、該軟磁性金属膜の３気性
能を向上させ且つ確実なガラス融着を行い、工程の短縮
化１合理化と磁気ヘッドの性能’を格段に向上させる製
造方法を提示したものである。
体に対して好適なＳ気ヘッドの製造方法において、出気
性龍上必要な軟磁性金属膜の回転ｓ界中、−軸磁界中等
の畠界中焼鈍と、ａ気ヘッド加工上重要なガラス融着工
程とｔ同時に行うことに工す、該軟磁性金属膜の３気性
能を向上させ且つ確実なガラス融着を行い、工程の短縮
化１合理化と磁気ヘッドの性能’を格段に向上させる製
造方法を提示したものである。
従来りり広く一般に用いられているし今インチＶＴＲ用
ヘッドのｊ！！造工程を８ｒ！２図ａ −ｅに示す。
ヘッドのｊ！！造工程を８ｒ！２図ａ −ｅに示す。
ｓ性材としては高速ら率酸化物研性体である単結晶フエ
ライＩ−ｋ用いている。単結晶フェライトは結晶の面方
位により透出率や耐摩耗性が異なるためコア材の切り出
しの原に最終完成（チップ）状態での方向を考慮する必
要がある。−例として力２図ｅのごとぐテープ当接面を
（１１０）−ギャップ部の８路に垂直な而１（１００）
になるごとく設定すると、ａのごとくコア材全切り出す
ことになる。次にす、ｃに示すＵコアと１コアの形状加
工及び突合せ面のシ面力ロエ゛を行う。
ライＩ−ｋ用いている。単結晶フェライトは結晶の面方
位により透出率や耐摩耗性が異なるためコア材の切り出
しの原に最終完成（チップ）状態での方向を考慮する必
要がある。−例として力２図ｅのごとぐテープ当接面を
（１１０）−ギャップ部の８路に垂直な而１（１００）
になるごとく設定すると、ａのごとくコア材全切り出す
ことになる。次にす、ｃに示すＵコアと１コアの形状加
工及び突合せ面のシ面力ロエ゛を行う。
また、ギャップ突合せ面には非出性のスペーサー、模を
スパッタあるいは蒸着等により所定のギャップ長ことな
る分７どけ形成しておく。その後ｄに示す様に突合せ及
びガラス融着を行う。ガラス融着は通常す、ｃにおける
形状加工時に棒状（角棒。
スパッタあるいは蒸着等により所定のギャップ長ことな
る分７どけ形成しておく。その後ｄに示す様に突合せ及
びガラス融着を行う。ガラス融着は通常す、ｃにおける
形状加工時に棒状（角棒。
九悸）の融着ガラスｔそう人出来る溝を万一エしておき
、治具にてＵコア、エコアを突合せ固定仮ガラヌ桿ｔそ
う人しω着炉に投入する方法と、融層ガラス金スパツタ
法にて突合せ面の融着部に成膜し治共にて突合せ固足後
に融眉炉に投入する方法とかを、る。いずれかの方法（
（てコアブロック形成後所定のアジマス角度だけコアブ
ロック全治具等にて傾斜さｔ−（ｌの破線のごとぐ切断
しチップ化する。以上−６ニ一般的な’Ａ造工程である
。ところが近年−気＝１録の発展に伴って高密度、高周
波、広帯域記録化が進められてき友。そこで磁気ヘッド
としては高圃東密度、高低抗田力の８気媒体（例えばメ
タル塗布媒体）への記録再生が可能であることが要求さ
れる工うになった○この要求を前足する磁気ヘッドとし
て高飽；（口＄束密度の金属Ｂ３１ａｌａ材は［と、耐
摩耗性に浸れ之フェライトを課金した１温気ヘツドが提
案されてい己。
、治具にてＵコア、エコアを突合せ固定仮ガラヌ桿ｔそ
う人しω着炉に投入する方法と、融層ガラス金スパツタ
法にて突合せ面の融着部に成膜し治共にて突合せ固足後
に融眉炉に投入する方法とかを、る。いずれかの方法（
（てコアブロック形成後所定のアジマス角度だけコアブ
ロック全治具等にて傾斜さｔ−（ｌの破線のごとぐ切断
しチップ化する。以上−６ニ一般的な’Ａ造工程である
。ところが近年−気＝１録の発展に伴って高密度、高周
波、広帯域記録化が進められてき友。そこで磁気ヘッド
としては高圃東密度、高低抗田力の８気媒体（例えばメ
タル塗布媒体）への記録再生が可能であることが要求さ
れる工うになった○この要求を前足する磁気ヘッドとし
て高飽；（口＄束密度の金属Ｂ３１ａｌａ材は［と、耐
摩耗性に浸れ之フェライトを課金した１温気ヘツドが提
案されてい己。
この工うなす合材シてよる磁気ヘッドの製造方法は実開
昭６０−２６６０９他に示されている様にフェライトと
軟迅■金属膜とｔ接合しｋものが代表的である。この製
造方法′に第３図ａ〜Ｏに示す○ａはフェライトコア材
１に傳加工乞施しガラス充填２する工程で、充填ガラス
３は高融点のものゲルいる。次に破線で切断し基板４全
作成する（ｂ）ＯＣでは、鏡面仕上研摩加工を癩した基
板４に所定厚さ＝トラック幅の６１Ｌ性膜５を形成する
。８性膜の形成法は、スパッタ、蒸着２メツキなど禎々
の方法が考えられる。ま九、匝性膜は単層膜、積層ｊ莫
のいづれでも良い。己の工程でＦ２を性膜をはさむ工う
に保ａ板６を貼付し、破線にて切断、突合せ面研摩、形
状加工、非磁性ノ姉による磁気ギャップ形成の後融着す
るというものであつ之。金属磁住膜としてはＦｅ−Ａｌ
−８ｉ合金（センダスト）−Ｎ １−Ｆｅ合金（パーマ
ロイ）等の結晶質磁性合金及びＦｅ 、Ｃｏ系系非晶質
出合合金が一般的に用いられている。
昭６０−２６６０９他に示されている様にフェライトと
軟迅■金属膜とｔ接合しｋものが代表的である。この製
造方法′に第３図ａ〜Ｏに示す○ａはフェライトコア材
１に傳加工乞施しガラス充填２する工程で、充填ガラス
３は高融点のものゲルいる。次に破線で切断し基板４全
作成する（ｂ）ＯＣでは、鏡面仕上研摩加工を癩した基
板４に所定厚さ＝トラック幅の６１Ｌ性膜５を形成する
。８性膜の形成法は、スパッタ、蒸着２メツキなど禎々
の方法が考えられる。ま九、匝性膜は単層膜、積層ｊ莫
のいづれでも良い。己の工程でＦ２を性膜をはさむ工う
に保ａ板６を貼付し、破線にて切断、突合せ面研摩、形
状加工、非磁性ノ姉による磁気ギャップ形成の後融着す
るというものであつ之。金属磁住膜としてはＦｅ−Ａｌ
−８ｉ合金（センダスト）−Ｎ １−Ｆｅ合金（パーマ
ロイ）等の結晶質磁性合金及びＦｅ 、Ｃｏ系系非晶質
出合合金が一般的に用いられている。
周知のととぐ前述の金属出性膜が磁気ヘッドとして好適
の山気特性を発揮する几めには、スパッタ等による課形
収後に何らかのｔ、Ｂ気滉鈍（熱処理）が必要である。
の山気特性を発揮する几めには、スパッタ等による課形
収後に何らかのｔ、Ｂ気滉鈍（熱処理）が必要である。
形成直後（ａｓ−ｐｒｅｐａｒｅｄ）の膜は異方性８界
（Ｈｋ）が太＠（、また膜内での方向にバラツキもある
為にその１まで（り磁気ヘッドとして本来の特性が出な
いので、熱処理に工っで異方性感界の方向や大きさをコ
ントロールしなければならない。？１１えば−Ｃｏ系ア
モルファスの場合結晶化温度（Ｔｘ）以下の４００〜４
５０°Ｃ。
（Ｈｋ）が太＠（、また膜内での方向にバラツキもある
為にその１まで（り磁気ヘッドとして本来の特性が出な
いので、熱処理に工っで異方性感界の方向や大きさをコ
ントロールしなければならない。？１１えば−Ｃｏ系ア
モルファスの場合結晶化温度（Ｔｘ）以下の４００〜４
５０°Ｃ。
センダスト系材料の場合５００〜６００°Ｃにて熱処理
をする。しかし、前述の従来技術で（グ、金属磁性１：
漠形ｂｌ及び刀ロエ幀Ｕコアとエコアを融着ガラス等に
て接合せねばならぬ為ａ性膜の熱処ｂ（ｉＵココア１コ
アの接合前７＋−後に行わねばならな刀＼つ７’Ｃｏ融
着前に熱処理を行う方法の場合、後工程の融着温度′（
１１−低；」点ガラスを用いる等してできる限シ熱処坤
温度から下げてやっても熱Ｌツにて最適比し九九カ性ω
界の大きさと方向が変化してし１う。図−４に実際の試
料にＣＯ系アモルファス？スパッタリングし、膜のラス
特性のデータとして透磁率μ５□□を記録したもの金示
す。図−４−（ａ）がａｅ−ｐｒｅｐａｒｅｄ 、 （
ｂ）が熱処理後、（Ｃ）が融着後で−それぞれμ＝７０
０．３０００．８００となシガラス融着による特性の劣
比状態全衣わしている。次に融着後に熱処理全行う場合
だが、融層条注を下１わり、融着ガラスが軟化しない状
弗で熱処理を行わなければならず６条件が近い場合には
ギャップ長’ＲＷが融着ガラスの軟化、フェライトの熱
膨張等に工り狂ってしまう。そこで本考案はこの工つな
問題点全解決するもので、その目的とするところは軟−
性金属膜の焼鈍とガラス融着工程と全同時に行うことに
工り軟磁性金属；摸の磁気性能全向上させ且つ確実なガ
ラス融７ａ′に行い、工程の短、縮化９合理化と磁気ヘ
ッドの性能全向上させる製造方法を提供するところにあ
る。
をする。しかし、前述の従来技術で（グ、金属磁性１：
漠形ｂｌ及び刀ロエ幀Ｕコアとエコアを融着ガラス等に
て接合せねばならぬ為ａ性膜の熱処ｂ（ｉＵココア１コ
アの接合前７＋−後に行わねばならな刀＼つ７’Ｃｏ融
着前に熱処理を行う方法の場合、後工程の融着温度′（
１１−低；」点ガラスを用いる等してできる限シ熱処坤
温度から下げてやっても熱Ｌツにて最適比し九九カ性ω
界の大きさと方向が変化してし１う。図−４に実際の試
料にＣＯ系アモルファス？スパッタリングし、膜のラス
特性のデータとして透磁率μ５□□を記録したもの金示
す。図−４−（ａ）がａｅ−ｐｒｅｐａｒｅｄ 、 （
ｂ）が熱処理後、（Ｃ）が融着後で−それぞれμ＝７０
０．３０００．８００となシガラス融着による特性の劣
比状態全衣わしている。次に融着後に熱処理全行う場合
だが、融層条注を下１わり、融着ガラスが軟化しない状
弗で熱処理を行わなければならず６条件が近い場合には
ギャップ長’ＲＷが融着ガラスの軟化、フェライトの熱
膨張等に工り狂ってしまう。そこで本考案はこの工つな
問題点全解決するもので、その目的とするところは軟−
性金属膜の焼鈍とガラス融着工程と全同時に行うことに
工り軟磁性金属；摸の磁気性能全向上させ且つ確実なガ
ラス融７ａ′に行い、工程の短、縮化９合理化と磁気ヘ
ッドの性能全向上させる製造方法を提供するところにあ
る。
本発明の磁気ヘッドの製造方法は、高還迅耶酸化物し惟
体を用い几磁気ヘッドにおいてＵコア及びエコアの作動
ギャップ突合せ面の両側に軟磁性金属膜を形ｈｚシ（触
着ガラスにて接合する際に凪界中にて前記軟磁性金属、
漠の磁気焼鈍工程及び前記融着ガラスによる融ｆａ工程
全同時に行うことを特徴とする。
体を用い几磁気ヘッドにおいてＵコア及びエコアの作動
ギャップ突合せ面の両側に軟磁性金属膜を形ｈｚシ（触
着ガラスにて接合する際に凪界中にて前記軟磁性金属、
漠の磁気焼鈍工程及び前記融着ガラスによる融ｆａ工程
全同時に行うことを特徴とする。
第１図は本発明の５Ｂ気ヘツド製造力法におけるＭｉ場
中ガラス融着工程？示したものである。
中ガラス融着工程？示したものである。
通常８気ヘッドの融着に用いられる炉は管状炉１であシ
、ヒーターを巻かれｔ管と考えて良い。
、ヒーターを巻かれｔ管と考えて良い。
し気ヘット°ワーク材２は、あらかじめＵコアとエコア
を積度良ぐ突合せ、融着部には棒状の融着ガラス３全設
定し、治具にて固定し省状炉１の均熱ゾーン（設定温度
が正確に得られる位置）にセットするの１独后カラス・
；ニスバッタ法ｑ・）に工りあら′：Ｏ）じめＵコアと
エコアの１独居部に形ＩＪＺ しておく場合もある。そ
こで、不発明ではｎ状５９４１の均熱ゾーング［翁に８
恒（′−江ｃ石もしぐンユ水久乙石）を配しＧＬｌ界を
形成する。４，５は５包であり、官状炉１に対して任意
の位置にて固にもしくは口伝運動する。ＩｊＥ場の強さ
は舌状炉中心にて５００〜１，０００山（エルステッド
）に設定し６回転数は１０〜１００ ｒｐｍ 程度で
ある。融層手順は、ワークの導入→ガス（不浩註ガス芥
凹気の為アルゴンや窒素）尋人→昇温→値界印カロ→冷
去りとなり、感注膜の熱処理温度に対し適当な作某温吸
の融着ガラス七選定することにより、熱処理及び融着が
同時に行える０また。磁気ヘッドは、出団体及びω性膜
の磁化困難＠を出路方向に向けることが重要なことは周
知であるが、８極４，５０固足にエリ靜磁場も作シ出せ
る為に、出性膜の異方性の刀自全利御しつつ融着を行う
ことが出来１回転―界と静止磁界を時間配分して印加す
ることにニジ所望のｔａ性に！ａ気ヘッドにも友せるこ
とができる〇〔発明の効果〕 以上述べｆｃように本発明に工れば、軟磁性金属膜の磁
気焼鈍工程及び融着ガラスによる融着工程？同時に行う
ことにニジ、工程の短７帰化も当然ながら従未工９問題
となってい友ガラス融着時のｓ性膜の劣化をなくすこと
が可能となるば−ｆＪ）りでなく、低温プロセスを採用
せざる全得ず確実な融着の出来なかったアモルファス系
の磁気ヘッド製造に波及効果が絶大である。ま友、磁気
ヘッドの特性上最近特に重要視されている異方性磁界の
大きさと方向金制嘘することも同時に可能ｌらしむる為
に−ＶＴＲ，薄、膜固定ディスクヘッド−デジタルオー
ディオテープ（ＤＡＴ ）用ヘッドーｉａ気抵抗効果（
ＭＲ）ヘッド等の製造工程に用いることが可能など応用
範囲も非常に広い。
を積度良ぐ突合せ、融着部には棒状の融着ガラス３全設
定し、治具にて固定し省状炉１の均熱ゾーン（設定温度
が正確に得られる位置）にセットするの１独后カラス・
；ニスバッタ法ｑ・）に工りあら′：Ｏ）じめＵコアと
エコアの１独居部に形ＩＪＺ しておく場合もある。そ
こで、不発明ではｎ状５９４１の均熱ゾーング［翁に８
恒（′−江ｃ石もしぐンユ水久乙石）を配しＧＬｌ界を
形成する。４，５は５包であり、官状炉１に対して任意
の位置にて固にもしくは口伝運動する。ＩｊＥ場の強さ
は舌状炉中心にて５００〜１，０００山（エルステッド
）に設定し６回転数は１０〜１００ ｒｐｍ 程度で
ある。融層手順は、ワークの導入→ガス（不浩註ガス芥
凹気の為アルゴンや窒素）尋人→昇温→値界印カロ→冷
去りとなり、感注膜の熱処理温度に対し適当な作某温吸
の融着ガラス七選定することにより、熱処理及び融着が
同時に行える０また。磁気ヘッドは、出団体及びω性膜
の磁化困難＠を出路方向に向けることが重要なことは周
知であるが、８極４，５０固足にエリ靜磁場も作シ出せ
る為に、出性膜の異方性の刀自全利御しつつ融着を行う
ことが出来１回転―界と静止磁界を時間配分して印加す
ることにニジ所望のｔａ性に！ａ気ヘッドにも友せるこ
とができる〇〔発明の効果〕 以上述べｆｃように本発明に工れば、軟磁性金属膜の磁
気焼鈍工程及び融着ガラスによる融着工程？同時に行う
ことにニジ、工程の短７帰化も当然ながら従未工９問題
となってい友ガラス融着時のｓ性膜の劣化をなくすこと
が可能となるば−ｆＪ）りでなく、低温プロセスを採用
せざる全得ず確実な融着の出来なかったアモルファス系
の磁気ヘッド製造に波及効果が絶大である。ま友、磁気
ヘッドの特性上最近特に重要視されている異方性磁界の
大きさと方向金制嘘することも同時に可能ｌらしむる為
に−ＶＴＲ，薄、膜固定ディスクヘッド−デジタルオー
ディオテープ（ＤＡＴ ）用ヘッドーｉａ気抵抗効果（
ＭＲ）ヘッド等の製造工程に用いることが可能など応用
範囲も非常に広い。
第１図は本発明の６気ヘツドの製造方法の一実施例を示
す斜視図。 １・・・管状炉 ２・・・磁気へラドチップ（コア） ３・・・融着ガラス ４．５・・・磁極 ６・・・雰匠気ガヌ専入管 ７・・・ヒーター 第２図（ａ）〜（＋３）に、しうインチＶＴＲヘッドの
製造工程図。 ＋３図（ａ）〜（８）は、複合型Ｓｎヘッドの）ｉ造工
程図Ｑ １・・・フェライトコア材 ２・・・ガラス充填溝部 ３・・・ガラス部 ４・・・基板 ５・・・凪性暎 ６・・・保護板 第４０ば遣山率７１の劣化をボ丁図。 以上 久 ｂｄ ルｌキｐａ＞）＞ｘ且（α〜Ｃ） １にろ袈λし脣・１１弱 第４図
す斜視図。 １・・・管状炉 ２・・・磁気へラドチップ（コア） ３・・・融着ガラス ４．５・・・磁極 ６・・・雰匠気ガヌ専入管 ７・・・ヒーター 第２図（ａ）〜（＋３）に、しうインチＶＴＲヘッドの
製造工程図。 ＋３図（ａ）〜（８）は、複合型Ｓｎヘッドの）ｉ造工
程図Ｑ １・・・フェライトコア材 ２・・・ガラス充填溝部 ３・・・ガラス部 ４・・・基板 ５・・・凪性暎 ６・・・保護板 第４０ば遣山率７１の劣化をボ丁図。 以上 久 ｂｄ ルｌキｐａ＞）＞ｘ且（α〜Ｃ） １にろ袈λし脣・１１弱 第４図
Claims (1)
- 高透磁率酸化物磁性体を用いた磁気ヘッドにおいてＵコ
ア及びＩコアの作動ギャップ突合せ面の両側に軟磁性金
属膜を形成し融着ガラスにて接合する際に磁界中にて前
記軟磁性金属膜の磁気焼鈍工程及び前記融着ガラスによ
る融着工程を同時に行うことを特徴とする磁気ヘッドの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28510585A JPS62143219A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28510585A JPS62143219A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62143219A true JPS62143219A (ja) | 1987-06-26 |
Family
ID=17687187
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28510585A Pending JPS62143219A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62143219A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100394478C (zh) * | 2005-04-07 | 2008-06-11 | 日立环球储存科技荷兰有限公司 | 用于利用超导磁体设置传感器反铁磁的方法和设备 |
-
1985
- 1985-12-18 JP JP28510585A patent/JPS62143219A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100394478C (zh) * | 2005-04-07 | 2008-06-11 | 日立环球储存科技荷兰有限公司 | 用于利用超导磁体设置传感器反铁磁的方法和设备 |
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