JPS62145263U - - Google Patents

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JPS62145263U
JPS62145263U JP3372286U JP3372286U JPS62145263U JP S62145263 U JPS62145263 U JP S62145263U JP 3372286 U JP3372286 U JP 3372286U JP 3372286 U JP3372286 U JP 3372286U JP S62145263 U JPS62145263 U JP S62145263U
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JP
Japan
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wafer
holder
rotating shaft
attached
ion beam
Prior art date
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Pending
Application number
JP3372286U
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English (en)
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は、この考案の一実施例に係るイオン処
理装置を部分的に示す横断面図である。第２図は
、第１図のホルダーおよびキヤツチプレート部分
のみを示す側面図である。第３図は、従来のイオ
ン処理装置の一例を部分的に示す横断面図である
。第４図は、第３図のホルダーおよびキヤツチプ
レート部分のみを示す側面図である。 ２……ウエハ、４……処理室、１４……回転軸
、１６……ホルダー、４８……フアラデーカツプ
、５０……イオンビーム、５２……キヤツチプレ
ート。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空容器内でウエハにイオンビームを照射して
    当該ウエハを処理するものであつて、真空容器内
    に挿入された回転軸に、ウエハを着脱可能なホル
    ダーを取り付け、当該回転軸によつてホルダーを
    ウエハ着脱位置とウエハ処理位置とに回転させる
    ようにしている装置において、前記回転軸に、フ
    アラデーカツプが取り付けられていてイオンビー
    ム計測のためにイオンビームを受け止めるキヤツ
    チプレートを、ホルダーとは所定の角度を持たせ
    て取り付けていることを特徴とするイオン処理装
    置。
JP3372286U 1986-03-08 1986-03-08 Pending JPS62145263U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3372286U JPS62145263U (ja) 1986-03-08 1986-03-08

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3372286U JPS62145263U (ja) 1986-03-08 1986-03-08

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62145263U true JPS62145263U (ja) 1987-09-12

Family

ID=30841595

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3372286U Pending JPS62145263U (ja) 1986-03-08 1986-03-08

Country Status (1)

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JP (1) JPS62145263U (ja)

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