JPS6045437U - 半導体ウエ−ハホルダ - Google Patents

半導体ウエ−ハホルダ

Info

Publication number
JPS6045437U
JPS6045437U JP13669383U JP13669383U JPS6045437U JP S6045437 U JPS6045437 U JP S6045437U JP 13669383 U JP13669383 U JP 13669383U JP 13669383 U JP13669383 U JP 13669383U JP S6045437 U JPS6045437 U JP S6045437U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
main body
wafer holder
shaped main
shaped
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP13669383U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6325736Y2 (ja
Inventor
竹崎 幸也
南 正昭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP13669383U priority Critical patent/JPS6045437U/ja
Publication of JPS6045437U publication Critical patent/JPS6045437U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS6325736Y2 publication Critical patent/JPS6325736Y2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図はウェーハに対するイオン注入装置におけるウェ
ーハの装入を説明するための断面図、第2図はこの考案
の1実施例のウェーハホルダの上面図、第3図は第2図
のAA線部における断面を矢印方向から視た側面断面図
、第4図は別の1実施例のウェーハホルダの上面図、第
5図は第4図のBB線部における断面を矢印方向から視
た側面断面図である。 4・・・・・・ウェーハ、10・・・・・・チェック用
ウェーハ、11・・・・・・ウェーハホルダの円板状本
体、12・・・・・・円板状本体の凹部、13・・・・
・・軸型薄板、14・・・・・・軸型薄板の開孔、15
・・・・・・針状突起、17・・・・・・バヨネットの
爪。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 外径が所定の半導体ウェーハの径に形成された円板状本
    体と、半導体ウェーハを収納するため前記円板状本体の
    1主面に形成された凹部と、前記凹部の径よりも小径の
    円孔が同心に設けられ前記円板状本体の上面を被覆する
    軸型薄板と、前記輪形薄板を円板状本体に着脱自在に取
    着する取着手段とを具備した半導体ウェーハホルダ。
JP13669383U 1983-09-05 1983-09-05 半導体ウエ−ハホルダ Granted JPS6045437U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13669383U JPS6045437U (ja) 1983-09-05 1983-09-05 半導体ウエ−ハホルダ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13669383U JPS6045437U (ja) 1983-09-05 1983-09-05 半導体ウエ−ハホルダ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6045437U true JPS6045437U (ja) 1985-03-30
JPS6325736Y2 JPS6325736Y2 (ja) 1988-07-13

Family

ID=30307269

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13669383U Granted JPS6045437U (ja) 1983-09-05 1983-09-05 半導体ウエ−ハホルダ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6045437U (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6325736Y2 (ja) 1988-07-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS58138340U (ja) ウエハの洗浄・エツチング用キヤリア
JPS6045437U (ja) 半導体ウエ−ハホルダ
JPS6094487U (ja) ウエハ吸着装置
JPS59173546U (ja) レンズ保持チヤツク
JPS6146730U (ja) ウエハ載置用カセツト
JPS6057131U (ja) 保持治具
JPS5939160U (ja) 研磨治具
JPS59173341U (ja) 回転塗布装置
JPS6022836U (ja) 試料ホルダ
JPS59104388U (ja) フロツピ−デイスク装置などのデイスク装置
JPS6132077U (ja) 半導体ウエハ−の運搬用トレイ
JPS60116234U (ja) イオン注入用半導体基板保持装置
JPS5984843U (ja) 半導体製造用キヤリアハンガ
JPS59104330U (ja) 平面チヤツク装置
JPS60109757U (ja) 自動研磨機用試料ホルダ
JPS58120661U (ja) 半導体装置
JPS59104536U (ja) ウエハ−吸着機構
JPS6087654U (ja) 真空チヤツク
JPS5861107U (ja) 研ぎ爪受納具
JPS58138601U (ja) 加工機の被加工物吸着固定装置における被加工物受支体
JPS58195439U (ja) 研磨ウエハ−の検鏡セツト治具
JPS58175992U (ja) 円製図用具
JPS617037U (ja) ペレツト吸着用コレツト
JPS6120047U (ja) 半導体ウエ−ハの載置装置
JPS6068635U (ja) 半導体製造装置