JPS62146295A - 金属の表面処理方法 - Google Patents
金属の表面処理方法Info
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- JPS62146295A JPS62146295A JP28688185A JP28688185A JPS62146295A JP S62146295 A JPS62146295 A JP S62146295A JP 28688185 A JP28688185 A JP 28688185A JP 28688185 A JP28688185 A JP 28688185A JP S62146295 A JPS62146295 A JP S62146295A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、亜鉛、スズ、アルミニウム、銅、鉛、ニッケ
ル等の金属を、個々にメッキした鋼板、前記金属の１種
又は２棟以上と、前記以外の金属とからなる合金をメッ
キした鋼板、及び鋼板の表面に均一性、耐食性、及び塗
装性の優れた、クロメートとシリカの複合皮膜を形成さ
せる金属表面処理方法に関するものである。
ル等の金属を、個々にメッキした鋼板、前記金属の１種
又は２棟以上と、前記以外の金属とからなる合金をメッ
キした鋼板、及び鋼板の表面に均一性、耐食性、及び塗
装性の優れた、クロメートとシリカの複合皮膜を形成さ
せる金属表面処理方法に関するものである。
（従来の技術）
Ｃｒ６＋、Ｃｒ３＋−シリカ系処理液を使用する、従来
の処理方法としては、特公昭４２−１４５０４、特公昭
４５−３８８９１．特開昭５２−１７３４０゜特開昭５
２−１７３４１等にて開示されているが、何れも塗布法
で行われている。従って、耐食性の向上のため皮膜形成
量を多くすると、処理液中のＣｒ６＋、Ｃｒ３＋／シリ
カの配合比で、シリカ付着量が増加するため、被処理金
属と形成皮膜の固着性が低下し、塗装性能が劣化すると
いう傾向があった。
の処理方法としては、特公昭４２−１４５０４、特公昭
４５−３８８９１．特開昭５２−１７３４０゜特開昭５
２−１７３４１等にて開示されているが、何れも塗布法
で行われている。従って、耐食性の向上のため皮膜形成
量を多くすると、処理液中のＣｒ６＋、Ｃｒ３＋／シリ
カの配合比で、シリカ付着量が増加するため、被処理金
属と形成皮膜の固着性が低下し、塗装性能が劣化すると
いう傾向があった。
又、これらの塗布法では、皮膜形成量をコントロールす
るためには、処理液の濃度を変えるか、塗布ロールの形
状又はロール圧を変える等の手段を必要とするので、皮
膜形成量を迅速に、しかも適正にコントロールすること
が困難であり、さらに、塗布法においては皮膜の均一性
を欠く等の問題を有していた。
るためには、処理液の濃度を変えるか、塗布ロールの形
状又はロール圧を変える等の手段を必要とするので、皮
膜形成量を迅速に、しかも適正にコントロールすること
が困難であり、さらに、塗布法においては皮膜の均一性
を欠く等の問題を有していた。
次にＣｒ’＋ 系処理液で陰極電解処理する方法として
は、特公昭４７−４４４１７（亜鉛メッキ鋼板をＣｒＯ
３Ｈ２ＳＯ４処理液で陰極電解処理する方法人特公昭４
８−４３０１９ （Ｃｒ０３−重金属イオン系処理液で
陰極電解処理をする方法）等が挙げられる。一般に、こ
れらＣｒ’＋ 系処理液の陰極電解処理により形成され
る皮膜は、耐食性は不十分であるが、塗装性は良好であ
るといわれている。しかし、その塗装性は、工業的には
必ずしも満足できるものではなかった。
は、特公昭４７−４４４１７（亜鉛メッキ鋼板をＣｒＯ
３Ｈ２ＳＯ４処理液で陰極電解処理する方法人特公昭４
８−４３０１９ （Ｃｒ０３−重金属イオン系処理液で
陰極電解処理をする方法）等が挙げられる。一般に、こ
れらＣｒ’＋ 系処理液の陰極電解処理により形成され
る皮膜は、耐食性は不十分であるが、塗装性は良好であ
るといわれている。しかし、その塗装性は、工業的には
必ずしも満足できるものではなかった。
（発明の解決しようとする問題点）
一般に塗布法によるＣｒ６＋、Ｃｒ３＋−シリカ系皮膜
は、耐食性向上のためにクロム付着量を多くすると、処
理液中のＯｒ” 、 Ｃｒ”＋／シリカ配合比で、シリ
カ付着量が増加するため、形成皮膜の固着、及び塗装性
が低下する。
は、耐食性向上のためにクロム付着量を多くすると、処
理液中のＯｒ” 、 Ｃｒ”＋／シリカ配合比で、シリ
カ付着量が増加するため、形成皮膜の固着、及び塗装性
が低下する。
本発明は、従来のＣｒ６＋、Ｃｒ３＋−シリカ系処理液
塗布法の欠点である、皮膜形成量増加時の塗装性の低下
、及び皮膜の形成量コントロールの困難さを改善し、耐
食性、及び塗装性の優れた皮膜を、金属表面に形成する
ことを目的とするものである。
塗布法の欠点である、皮膜形成量増加時の塗装性の低下
、及び皮膜の形成量コントロールの困難さを改善し、耐
食性、及び塗装性の優れた皮膜を、金属表面に形成する
ことを目的とするものである。
即ち、耐食性向上のために、クロム付着量を多くしても
、塗装性を損なわず、耐食性・塗装性に優れた皮膜を、
金属表面に形成し更には、工業的に安定した表面処理を
行うために、その皮膜の形成量を、容易にしかも迅速・
適正にコントロールできることを実現しようとするもの
である。
、塗装性を損なわず、耐食性・塗装性に優れた皮膜を、
金属表面に形成し更には、工業的に安定した表面処理を
行うために、その皮膜の形成量を、容易にしかも迅速・
適正にコントロールできることを実現しようとするもの
である。
（問題点の解決手段）
本発明は、亜鉛、スズ、アルミニウム、銅、ニッケル等
の金属を、個々にメッキした鋼板、前記金属の１種又は
２種以上と、前記以外の金属とからなる合金をメッキし
た鋼板、及び鋼板の表面を、本発明の処理液で陰極電解
処理することにより、金属表面に耐食性、塗装性及び均
一性の優れた、クロメートとシリカの複合皮膜を形成さ
せるものであり、特に素地との固着性が強固で、塗装性
に優れた皮膜を形成させることにある。
の金属を、個々にメッキした鋼板、前記金属の１種又は
２種以上と、前記以外の金属とからなる合金をメッキし
た鋼板、及び鋼板の表面を、本発明の処理液で陰極電解
処理することにより、金属表面に耐食性、塗装性及び均
一性の優れた、クロメートとシリカの複合皮膜を形成さ
せるものであり、特に素地との固着性が強固で、塗装性
に優れた皮膜を形成させることにある。
上記の諸問題を解決する、金属表面方法として、種々検
討を行った結果、Ｃｒ’＋イオン、及びＣｒ”＋イオン
を含有する水溶液に、シリカ及び／又はケイ酸塩を配合
して、コロイダルシリカとして存在せしめた処理液で、
金属表面を陰極電解処理する方法、即ち、Ｃｒ６＋イオ
ン５−１２０り／Ｌ、 Ｃｒ３＋イオン０．０１〜５．
０ ？／ｌ 、 シリカ及び／又はケイ酸塩をコロイ
ダルシリカとして５〜ｌ ００ ｙ／ｌを含む処理液に
て、金属表面を陰極電解処理することを特徴とする、金
属の表面処理方法。により前記諸問題が解決できること
を見出した。
討を行った結果、Ｃｒ’＋イオン、及びＣｒ”＋イオン
を含有する水溶液に、シリカ及び／又はケイ酸塩を配合
して、コロイダルシリカとして存在せしめた処理液で、
金属表面を陰極電解処理する方法、即ち、Ｃｒ６＋イオ
ン５−１２０り／Ｌ、 Ｃｒ３＋イオン０．０１〜５．
０ ？／ｌ 、 シリカ及び／又はケイ酸塩をコロイ
ダルシリカとして５〜ｌ ００ ｙ／ｌを含む処理液に
て、金属表面を陰極電解処理することを特徴とする、金
属の表面処理方法。により前記諸問題が解決できること
を見出した。
（作用）
本発明における処理液中のＣｒ’＋とじては、無水クロ
ム酸、重クロム酸アンモニウム、及び重クロム酸のアル
カリ金属塩類の一種又は化合物が任意に適用できる。Ｃ
ｒ６＋イオンの濃度は５〜１２０ｙ／ｌ、特に好ましく
は１０〜７０ｒ／ｌである。
ム酸、重クロム酸アンモニウム、及び重クロム酸のアル
カリ金属塩類の一種又は化合物が任意に適用できる。Ｃ
ｒ６＋イオンの濃度は５〜１２０ｙ／ｌ、特に好ましく
は１０〜７０ｒ／ｌである。
−１役に、Ｃｒ６＋ の濃度が低いと、被処理金属を連
続して処理するとき、皮膜の生成効率が低下したり、生
成する皮膜を均一にすることが困難になるので、工業的
に安定した処理を行うためには、５？／１が限度である
。又、１２０？／１よりも高い濃度にしても、生成する
皮膜の特注に変化はないが、余り濃度が高いと、被処理
金属によって、処理液の外に持ちだされる量が多く、不
経済になるので工業的にはｌ ２０ ｔ ／ ｔが限度
と考えられる。
続して処理するとき、皮膜の生成効率が低下したり、生
成する皮膜を均一にすることが困難になるので、工業的
に安定した処理を行うためには、５？／１が限度である
。又、１２０？／１よりも高い濃度にしても、生成する
皮膜の特注に変化はないが、余り濃度が高いと、被処理
金属によって、処理液の外に持ちだされる量が多く、不
経済になるので工業的にはｌ ２０ ｔ ／ ｔが限度
と考えられる。
Ｃｒ イオンとしては、Ｃｒ の炭酸化合物として
、或いはＣｒ６＋とアルコール類、でんぷん類、及びタ
ンニン酸等の有機物との酸化還元反応生成物として、処
理液に加えることもできる。Ｃｒ３＋ イオンを配合す
ることにより、陰極電解処理によるクーロン量に対する
皮膜形成効率が高くなり被膜の固着性 、耐食性、塗装
性の浸れた皮膜を得ることができる。
、或いはＣｒ６＋とアルコール類、でんぷん類、及びタ
ンニン酸等の有機物との酸化還元反応生成物として、処
理液に加えることもできる。Ｃｒ３＋ イオンを配合す
ることにより、陰極電解処理によるクーロン量に対する
皮膜形成効率が高くなり被膜の固着性 、耐食性、塗装
性の浸れた皮膜を得ることができる。
Ｃｒ イオンの濃度は、０．０１〜５．ｏ ｔ ／
Ｌ、 特に好ましくは、０．０５〜２．０？／ｌであ
る。なお本発明においてはＣｒ” ／ Ｃｒ’＋イオン
の比が１１５０〜〕／３である場合に塗装性を改善する
傾向にある。
Ｌ、 特に好ましくは、０．０５〜２．０？／ｌであ
る。なお本発明においてはＣｒ” ／ Ｃｒ’＋イオン
の比が１１５０〜〕／３である場合に塗装性を改善する
傾向にある。
次に、本発明のシリカ、ケイ酸塩等は、コロイダルシリ
カを形成させるために、処理液に加えられ、一般に水中
で、負に帯電した無水ケイ酸の超微粒子（１〜１００ｍ
μ）として存在しているど言われている。シリカ及び／
又はケイ酸塩の濃度は５〜１００？／７．特に好ましく
は１０〜５０ｒ ／ ｔである。５１／ｌよυも低い濃
度では、良好な皮膜が形成され難く、耐食性、塗装性が
不良である。又、１００ ｙ ／ ｔよりも高い濃度に
してもそれ以上の効果はなく、シリカ及びケイ酸塩等が
沈殿したり、被処理金属によって、処理液の外に持ちだ
される量が多く不経済になるので、工業的には］、 Ｏ
Ｏｙ ／ ｌが限度と考えられる。
カを形成させるために、処理液に加えられ、一般に水中
で、負に帯電した無水ケイ酸の超微粒子（１〜１００ｍ
μ）として存在しているど言われている。シリカ及び／
又はケイ酸塩の濃度は５〜１００？／７．特に好ましく
は１０〜５０ｒ ／ ｔである。５１／ｌよυも低い濃
度では、良好な皮膜が形成され難く、耐食性、塗装性が
不良である。又、１００ ｙ ／ ｔよりも高い濃度に
してもそれ以上の効果はなく、シリカ及びケイ酸塩等が
沈殿したり、被処理金属によって、処理液の外に持ちだ
される量が多く不経済になるので、工業的には］、 Ｏ
Ｏｙ ／ ｌが限度と考えられる。
処理液のｐＨは特定するものではないが、その値を０．
６〜６の範囲から任意に選ぶことにより、一層好ましい
結果が得られる。ｐＨ０，６より低い処理液は、効果を
確認するだめの処理液の製造が困難である。又ｐＨ６よ
り高くても、形成される皮膜の特性に変化はないが、余
り高いとシリカ、及びケイ酸塩等や、処理液に溶出する
被処理金属の金属イオンが沈殿するため、工業的に安定
した処理を行うためにはｐＨ６が限度と考えられる。
６〜６の範囲から任意に選ぶことにより、一層好ましい
結果が得られる。ｐＨ０，６より低い処理液は、効果を
確認するだめの処理液の製造が困難である。又ｐＨ６よ
り高くても、形成される皮膜の特性に変化はないが、余
り高いとシリカ、及びケイ酸塩等や、処理液に溶出する
被処理金属の金属イオンが沈殿するため、工業的に安定
した処理を行うためにはｐＨ６が限度と考えられる。
処理液のｐＨをコントロールするためには、水酸化アン
モニウム、アルカリ金属水酸化物、及びアルカリ金属炭
酸化合物等から任意に選んで、処理液に加えることがで
きる。しかしながら、本発明の陰極電解処理後、水洗し
ないで乾燥する場合には、水酸化アンモニウムの使用に
限定される。
モニウム、アルカリ金属水酸化物、及びアルカリ金属炭
酸化合物等から任意に選んで、処理液に加えることがで
きる。しかしながら、本発明の陰極電解処理後、水洗し
ないで乾燥する場合には、水酸化アンモニウムの使用に
限定される。
処理液の温度としては、常温〜７０℃であり、７０′Ｃ
より高くしても、不経済になるので、工業的には’７０
℃が限度である。
より高くしても、不経済になるので、工業的には’７０
℃が限度である。
次に、陰極電解処理は、被処理金属を陰極にして行われ
るが、本処理前に被処理金属の表面を清浄にしておく必
要がある。しかしながら、清浄度が完壁でなくても、本
発明の効果は一応達成される。陰極における電流密度と
しては、３〜８０Ａ／ｄｎ？の範囲で行われるが、３
Ａ ／ ｄｉよりも低い時は、良好な皮膜が形成され難
く、耐食性、塗装性が不良である。又、８０Ａ／ｄ７７
１″ より高くしても、それ以上の効果は少い。
るが、本処理前に被処理金属の表面を清浄にしておく必
要がある。しかしながら、清浄度が完壁でなくても、本
発明の効果は一応達成される。陰極における電流密度と
しては、３〜８０Ａ／ｄｎ？の範囲で行われるが、３
Ａ ／ ｄｉよりも低い時は、良好な皮膜が形成され難
く、耐食性、塗装性が不良である。又、８０Ａ／ｄ７７
１″ より高くしても、それ以上の効果は少い。
最後に、陰極電解処理時間で［Ｆ］るが、肛屏時間は、
形成皮膜量（クロム付着量）を所望の範囲とするために
コントロールされる。クロム付着量を変動する要因とし
ては色々挙げられるが、本発明の方法においては、処理
液の各成分の濃度、ｐＨ１温度、及び電流密度等をそれ
ぞれ本発明の、好ましい条件に固定しておいても、電解
時間を変えることにより被処理金属に応じて、それぞれ
所望のクロム付着量を制御することができる。又、その
逆に電解時刻を固定して、電流密度を変えることにより
クロム付着量を制御することもできる。
形成皮膜量（クロム付着量）を所望の範囲とするために
コントロールされる。クロム付着量を変動する要因とし
ては色々挙げられるが、本発明の方法においては、処理
液の各成分の濃度、ｐＨ１温度、及び電流密度等をそれ
ぞれ本発明の、好ましい条件に固定しておいても、電解
時間を変えることにより被処理金属に応じて、それぞれ
所望のクロム付着量を制御することができる。又、その
逆に電解時刻を固定して、電流密度を変えることにより
クロム付着量を制御することもできる。
本発明における、電流密度、及びクーロン量と皮膜形成
量の関係例として、被処理金属を鋼板とした場合につい
て第１図に示す。第１図を作製するために適用した、電
解処理条件は、第６表の通りである。
量の関係例として、被処理金属を鋼板とした場合につい
て第１図に示す。第１図を作製するために適用した、電
解処理条件は、第６表の通りである。
本発明により、陰極電解処理された金属は、水洗したの
ち乾燥して、防食用又は塗装下地用として適用されるが
、水洗せずにスクイジ−ロールを通した後、乾燥して適
用することもできる。又、必要に応じては、一般に行わ
れているクロメート水溶液、及び防食性樹脂化合物によ
る、後処理もできる。
ち乾燥して、防食用又は塗装下地用として適用されるが
、水洗せずにスクイジ−ロールを通した後、乾燥して適
用することもできる。又、必要に応じては、一般に行わ
れているクロメート水溶液、及び防食性樹脂化合物によ
る、後処理もできる。
本発明における、好ましいクロム付着量は、１０〜３０
０ｍ９／ｎｔ″であり、より好ましい範囲は、２０〜１
５０ ｍ９７ ｍ”である。又、好ましいシリカ付着量
は、Ｓｌとして３〜３０ ｍ９７ ｍ”、より好ましい
範囲は５〜２ｏｍ９／ｒｒ？である。
０ｍ９／ｎｔ″であり、より好ましい範囲は、２０〜１
５０ ｍ９７ ｍ”である。又、好ましいシリカ付着量
は、Ｓｌとして３〜３０ ｍ９７ ｍ”、より好ましい
範囲は５〜２ｏｍ９／ｒｒ？である。
又、本発明は、先に述べたごとく、処理液中にＣｒ
が、Ｃｒ ／Ｃｒ の比として１７５０〜／ ５０
存在することにより、陰極電解処理によるクーロン量に
対する皮膜形成効率が高くなり、耐食性、塗装性の優れ
た皮膜を得ることができる。
が、Ｃｒ ／Ｃｒ の比として１７５０〜／ ５０
存在することにより、陰極電解処理によるクーロン量に
対する皮膜形成効率が高くなり、耐食性、塗装性の優れ
た皮膜を得ることができる。
（実施例）
本発明の、作用効果を明確にするため、幾つかの実施例
、及び、比較例を挙げ、具体的に説明する。
、及び、比較例を挙げ、具体的に説明する。
実施例−１
公知の方法で清浄にした電気亜鉛メッキ鋼板を、次の条
件で陰極電解処理し、処理後水洗し、乾燥した試料を比
較例−１と比較した結果、第１表に示すように、本発明
の陰極電解処理皮膜は、従来のＣｒ６＋、Ｃｒ３＋−シ
リカ系塗布性皮膜と比較し、良好な皮膜の固着性、均一
性、耐食性及び塗装性を示した。
件で陰極電解処理し、処理後水洗し、乾燥した試料を比
較例−１と比較した結果、第１表に示すように、本発明
の陰極電解処理皮膜は、従来のＣｒ６＋、Ｃｒ３＋−シ
リカ系塗布性皮膜と比較し、良好な皮膜の固着性、均一
性、耐食性及び塗装性を示した。
ａｒ” ８．１ ？／ｌ
Ｃｒ” ２． Ｏグ／ｌ （ｃｒ’＋
をメタノールで還元）スノーチック、ｃｏ ２５０
．Ｏｙ／ｌ （日産化学製 ５ｆ０２２０％含有のコロ
イド 溶液） （このときのｐＨば１．５であった。）〔陰極電解条件
〕 電解時間 ３〜１２秒（所定のクロム付着量を得る
ため、電解時間を調整 した。） ′電流密度 １０Ａ／ｄｎｓ’ 電解温度 ５０°Ｃ 比較例−１ 公知の方法で清浄にした電気亜鉛メッキ鋼板に、実施例
−１で使用した処理液を、ロール塗布法で塗布した後、
乾燥した試料を比較試料とし、第１表に示す。このとき
の、クロム付着量の調整は、処理液の塗布量を変えるこ
とにより調整した。
をメタノールで還元）スノーチック、ｃｏ ２５０
．Ｏｙ／ｌ （日産化学製 ５ｆ０２２０％含有のコロ
イド 溶液） （このときのｐＨば１．５であった。）〔陰極電解条件
〕 電解時間 ３〜１２秒（所定のクロム付着量を得る
ため、電解時間を調整 した。） ′電流密度 １０Ａ／ｄｎｓ’ 電解温度 ５０°Ｃ 比較例−１ 公知の方法で清浄にした電気亜鉛メッキ鋼板に、実施例
−１で使用した処理液を、ロール塗布法で塗布した後、
乾燥した試料を比較試料とし、第１表に示す。このとき
の、クロム付着量の調整は、処理液の塗布量を変えるこ
とにより調整した。
実施例−２
公知の方法で清浄にした鋼板を、実施例−１と同じ処理
液を使用し、次の条件で陰極電解処理し、処理後水洗し
、乾燥した試料を比較例−２と比較した結果、第２表に
示すように、本発明の陰極電解処理皮膜は、従来のＣｒ
” 、 Ｃｒ”＋−シリカ系塗布法皮膜と比較し、良好
な皮膜の固着性、均一性、耐食性、及び塗装性を示した
。
液を使用し、次の条件で陰極電解処理し、処理後水洗し
、乾燥した試料を比較例−２と比較した結果、第２表に
示すように、本発明の陰極電解処理皮膜は、従来のＣｒ
” 、 Ｃｒ”＋−シリカ系塗布法皮膜と比較し、良好
な皮膜の固着性、均一性、耐食性、及び塗装性を示した
。
電解時間 １秒
電流密度 １０〜３ｏＡ／ｄ？ｙ＋″（所定のクロ
ム付着量を得るため、電流密 度を調整した。） 電解温度 ３０″Ｃ 比較例−２ 公知の方法で清浄にした鋼板に、実施例−２で使用した
処理液を、ロール塗布法で塗布した後乾燥した試料を、
比較試料とし第２表に示す。このときの、クロム付着量
の調整は、処理液の塗布量を変えることにより調整した
。
ム付着量を得るため、電流密 度を調整した。） 電解温度 ３０″Ｃ 比較例−２ 公知の方法で清浄にした鋼板に、実施例−２で使用した
処理液を、ロール塗布法で塗布した後乾燥した試料を、
比較試料とし第２表に示す。このときの、クロム付着量
の調整は、処理液の塗布量を変えることにより調整した
。
実施例−３
公知の方法で清浄にした電気亜鉛メッキ鋼板を、次の条
件で陰極電解処理し、処理後水洗し、乾燥しだ試料を比
較例−３と比較した結果、第３表に示すように、本発明
の陰極電解処理皮膜は比較例−３の陰極電解処理皮膜と
比較し、良好な耐食性、及び塗装性を示した。
件で陰極電解処理し、処理後水洗し、乾燥しだ試料を比
較例−３と比較した結果、第３表に示すように、本発明
の陰極電解処理皮膜は比較例−３の陰極電解処理皮膜と
比較し、良好な耐食性、及び塗装性を示した。
ｃｒ −ｙｌｏ、＊Ｐ／ｌ、及びｃｒ３＋ ＝ ３．
Ｏｙ／ｌ（Ｃｒ３＋をタンニン酸により還元）の処理
液の中に、アプライドＡＴ２０Ｑ（注）を各々２５，５
０゜ｘｓｏｙ／Ａ添加。このときのｐＨは、２．９であ
った。
Ｏｙ／ｌ（Ｃｒ３＋をタンニン酸により還元）の処理
液の中に、アプライドＡＴ２０Ｑ（注）を各々２５，５
０゜ｘｓｏｙ／Ａ添加。このときのｐＨは、２．９であ
った。
（注）無電化製 コロイダルシリカ２０％溶液〔陰極電
解条件〕 電解時間 ２秒 電流密度 １５Ａ／ａｍ’ 電解温度 ３０°Ｃ 比較例−３ 公知の方法で清浄にした電気亜鉛メッキ鋼板を、次の処
理液を使用し、実施例−３と同じ陰極電解条件で処理し
た試料を、比較例−３とし、第３表に示す。
解条件〕 電解時間 ２秒 電流密度 １５Ａ／ａｍ’ 電解温度 ３０°Ｃ 比較例−３ 公知の方法で清浄にした電気亜鉛メッキ鋼板を、次の処
理液を使用し、実施例−３と同じ陰極電解条件で処理し
た試料を、比較例−３とし、第３表に示す。
Ｃｒ” ＝ １０．１ ｔ ／ １１及びＣｒ３”＝３
．０ ？ ／ Ｌ（Ｃｒ をタンニン酸により還元）
の処理液、及びこの処理液に、アプライドＡＴ２０Ｑ（
注 前述）を１ｏ、ｏｐ／を添加。
．０ ？ ／ Ｌ（Ｃｒ をタンニン酸により還元）
の処理液、及びこの処理液に、アプライドＡＴ２０Ｑ（
注 前述）を１ｏ、ｏｐ／を添加。
このときのｐＨは、２．９であった。
電解時間 ２秒
電流密度 １５Ａ／ｄｒｒ？
電解温度 ３０℃
実施例−４
公知の方法で清浄にした電気亜鉛メッキ鋼板を、次の条
件で陰極電解処理し、処理後水洗し、乾燥した試料を比
較例−４と比較した結果、第４表に示すように、本発明
の陰極電解処理皮膜は比較例−４の皮膜と比較し、良好
な耐食性、及び塗装性を示した。
件で陰極電解処理し、処理後水洗し、乾燥した試料を比
較例−４と比較した結果、第４表に示すように、本発明
の陰極電解処理皮膜は比較例−４の皮膜と比較し、良好
な耐食性、及び塗装性を示した。
Ｃｒ” ５．０？／Ｌ
Ｃｒ３” ０．０１ ｎ （Ｃ
ｒ’＋をでＵ勺で還元）アエロジル２００ ３０．０
＃ （日本アエロジル製８１０２水酸化カリウ
ムでｐＨを５．ＯＫ調整。
ｒ’＋をでＵ勺で還元）アエロジル２００ ３０．０
＃ （日本アエロジル製８１０２水酸化カリウ
ムでｐＨを５．ＯＫ調整。
電解時間 ４秒
電流密度 ３．６．９Ａ／ｄｉ
電解温度 ３０°Ｃ
比較例−４
公知の方法で清浄にした電気亜鉛メッキ鋼板を、実施例
−４と同じ処理液を使用し、電流密度Ｏ１及び１．５Ａ
／ｄｒｒ？ で処理した試料を比較例−４とし、第４
表に示す。
−４と同じ処理液を使用し、電流密度Ｏ１及び１．５Ａ
／ｄｒｒ？ で処理した試料を比較例−４とし、第４
表に示す。
電解時間 ４秒
電流密度 ０．１．５ Ａ／ａイ
電解温度 ３０’Ｃ
実施例−５
公知の方法で清浄にした電気スズメッキ鋼板を、次の条
件で陰極電解処理し、処理後水洗し、乾燥した試料を比
較例５と比較した結果、第５表に示すように、本発明の
陰極電解処理皮膜は比較例−５の陰極電解処理皮膜と比
較し、皮膜生成効率が高く、良好な耐食性、及び塗装性
を示した。
件で陰極電解処理し、処理後水洗し、乾燥した試料を比
較例５と比較した結果、第５表に示すように、本発明の
陰極電解処理皮膜は比較例−５の陰極電解処理皮膜と比
較し、皮膜生成効率が高く、良好な耐食性、及び塗装性
を示した。
Ｃｒ −１５９／ｌ、及びＮａ２Ｏ−８１０２をＳ
１０２と１２ ｔ ／ Ｌ添加した処理液に、Ｃｒ３＋
／Ｃｒ’＋ の比で１１５０．１／１０．１／３になる
ように、ｃ ｒ３ ＋イオン（炭酸クロムを使用）を添
加し、水酸化アンモニウムによりｐＨを３．５に調整。
１０２と１２ ｔ ／ Ｌ添加した処理液に、Ｃｒ３＋
／Ｃｒ’＋ の比で１１５０．１／１０．１／３になる
ように、ｃ ｒ３ ＋イオン（炭酸クロムを使用）を添
加し、水酸化アンモニウムによりｐＨを３．５に調整。
電解時間 ２秒
電流密度 １５Ａ／ｄイ
電解温度 ３０℃
比較例−５
公知の方法で清浄にした電気スズメッキ鋼板を、次の処
理液を使用し、実施例−５と同じ陰極電解条件で処理し
た試料を、比較例−５とし、第５表に示す。
理液を使用し、実施例−５と同じ陰極電解条件で処理し
た試料を、比較例−５とし、第５表に示す。
Ｃｒ −１５？／ｌ、及びＮａ２Ｏ−８ｉ０２を５ｉ
０２と１２ｙ／ｌ添加した処理液、及びＣｒ”＋／ Ｃ
ｒ’＋の比で１ ／ １００、ｌ ／ ２．５になるよ
うに、ｃ ｒ３＋イオン（炭酸クロムを使用）を添加し
、水酸化アンモニウムによりｐＨを３．５に調整。
０２と１２ｙ／ｌ添加した処理液、及びＣｒ”＋／ Ｃ
ｒ’＋の比で１ ／ １００、ｌ ／ ２．５になるよ
うに、ｃ ｒ３＋イオン（炭酸クロムを使用）を添加し
、水酸化アンモニウムによりｐＨを３．５に調整。
電解時間 ２秒
電流密度 １５Ａ／ｄｉ
電解温度 ３０℃
〔評価方法〕
１ 皮膜の固着性
皮膜にセロファンテープ（５０＋＋ｏｎ幅）を貼り、急
速に剥離したあとの、皮膜中のＣｒ、Ｓｉの残留量を、
チで表示。１００チが最良である。
速に剥離したあとの、皮膜中のＣｒ、Ｓｉの残留量を、
チで表示。１００チが最良である。
２ 皮膜の均一性
皮膜のむらの状態を肉眼観察し、◎、○、Δ、×の４段
階で評価し、◎が最良である。
階で評価し、◎が最良である。
３、耐食性
３−１塩水噴霧試験
。ｌ５−Ｚ−２３７１に準拠した塩水噴霧試験により、
特定時間後の発錆状態を肉眼で判定し、◎、○、Δ、×
の４段階で評価し、◎が最良である。
特定時間後の発錆状態を肉眼で判定し、◎、○、Δ、×
の４段階で評価し、◎が最良である。
４ 塗装性（塗装；市販のアルキッドメラミン系白色塗
料を、２７〜３０／！塗装。） 基盤目エリクセン試験 塗膜に１個間隔の基盤目を１００マス切ったのち、エリ
クセン試験機で７ｗｎ押し出し、セロファンテープで剥
離試験を行い、塗膜の剥離の程度を肉眼で判定し、◎、
○、Δ、×の４段階で評価し、◎が最良である。
料を、２７〜３０／！塗装。） 基盤目エリクセン試験 塗膜に１個間隔の基盤目を１００マス切ったのち、エリ
クセン試験機で７ｗｎ押し出し、セロファンテープで剥
離試験を行い、塗膜の剥離の程度を肉眼で判定し、◎、
○、Δ、×の４段階で評価し、◎が最良である。
（発明の効果）
本発明により形成される皮膜では、クロム付着量は、陰
極電解時の電流密度、電解時間、即ちクーロン量によっ
て容易に制御され、シリカ付着量は陰極電解条件によら
ずほぼ一定であり、前述の塗布法における問題点、つま
υ、耐食性向上のためにクロム付着量を多くすると、シ
リカ付着量もまた増加し、形成皮膜の固着性、及び塗装
性が低下するという欠点が改善され、耐食性、及び皮膜
固着性、５装・注の浸れた、均一な皮膜を、工業的に安
定して得ることができる。
極電解時の電流密度、電解時間、即ちクーロン量によっ
て容易に制御され、シリカ付着量は陰極電解条件によら
ずほぼ一定であり、前述の塗布法における問題点、つま
υ、耐食性向上のためにクロム付着量を多くすると、シ
リカ付着量もまた増加し、形成皮膜の固着性、及び塗装
性が低下するという欠点が改善され、耐食性、及び皮膜
固着性、５装・注の浸れた、均一な皮膜を、工業的に安
定して得ることができる。
第１図は電流密度、及びクーロン量と皮膜形成量の関係
を示す。
を示す。
Claims (1)
- Ｃｒ＾６＾＋イオン５〜１２０ｇ／ｌ、Ｃｒ＾３＾＋イ
オン０．０１〜５．０ｇ／ｌ、シリカ及び／又はケイ酸
塩をコロイダルシリカとして５〜１００ｇ／ｌを含む処
理液にて、金属表面を陰極電解処理することを特徴とす
る、金属の表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28688185A JPS62146295A (ja) | 1985-12-21 | 1985-12-21 | 金属の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28688185A JPS62146295A (ja) | 1985-12-21 | 1985-12-21 | 金属の表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62146295A true JPS62146295A (ja) | 1987-06-30 |
Family
ID=17710204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28688185A Pending JPS62146295A (ja) | 1985-12-21 | 1985-12-21 | 金属の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62146295A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022091481A1 (ja) * | 2020-10-28 | 2022-05-05 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 缶用鋼板およびその製造方法 |
-
1985
- 1985-12-21 JP JP28688185A patent/JPS62146295A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022091481A1 (ja) * | 2020-10-28 | 2022-05-05 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 缶用鋼板およびその製造方法 |
| JPWO2022091481A1 (ja) * | 2020-10-28 | 2022-05-05 |
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