JPS62148452A - 新規な液晶性物質及び液晶組成物 - Google Patents
新規な液晶性物質及び液晶組成物Info
- Publication number
- JPS62148452A JPS62148452A JP60287956A JP28795685A JPS62148452A JP S62148452 A JPS62148452 A JP S62148452A JP 60287956 A JP60287956 A JP 60287956A JP 28795685 A JP28795685 A JP 28795685A JP S62148452 A JPS62148452 A JP S62148452A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- formula
- methylhexyl
- benzene
- methyloctyl
- Prior art date
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- Granted
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は、強誘電性液晶組成物の成分として有用で、か
つ、化学的安定性に優れた新規な液晶性化合物ならびに
この液晶性化合物の少くとも1種を含有する液晶組成物
に関する。
つ、化学的安定性に優れた新規な液晶性化合物ならびに
この液晶性化合物の少くとも1種を含有する液晶組成物
に関する。
(従来技術)
1980年、クラークおよびラゲルバル(アプライド・
フイジクス・レターズ、36 、899 、1980
)によって発表された強誘電液晶の光スイツチング現象
を利用した表示方式は、従来のネマティック液晶を用い
た表示方式にはないすぐれた性質、すなわち高速応答性
を有しており、次世代表示素子として注目をあびている
。
フイジクス・レターズ、36 、899 、1980
)によって発表された強誘電液晶の光スイツチング現象
を利用した表示方式は、従来のネマティック液晶を用い
た表示方式にはないすぐれた性質、すなわち高速応答性
を有しており、次世代表示素子として注目をあびている
。
強誘電液晶は、1975年、アール・ビー・メイアーら
によって初めて見出されたものであるが(ル・ジュルナ
ール・ドウ・フイジク36L−6(+(1975))、
液晶物質が強誘電性を示すには、次の条件を満足しなけ
ればならない。
によって初めて見出されたものであるが(ル・ジュルナ
ール・ドウ・フイジク36L−6(+(1975))、
液晶物質が強誘電性を示すには、次の条件を満足しなけ
ればならない。
■ 分子構造中に不斉炭素原子を有し、かつ、光学活性
であること。
であること。
(9分子長軸方向に垂直な永久双極子モーメントを有す
ること。
ること。
■ カイラルスメクテイツクC相(SmC”相)を有す
ること。
ること。
従来の代表的な強誘電液晶を構造式その他により次に示
す。
す。
Cr78 t −→EimH” ←→5InC−→Sm
A ←→工s。
A ←→工s。
(a)は、メイアーらにより見出された最初の強誘電液
晶物質であり、(1)lは、自発分極の大きい化合物と
して知られている。いずれも、シック塩基であり、水分
に不安定である。(C)は、水分には安定であるがSm
C”相の温度範囲が狭い。
晶物質であり、(1)lは、自発分極の大きい化合物と
して知られている。いずれも、シック塩基であり、水分
に不安定である。(C)は、水分には安定であるがSm
C”相の温度範囲が狭い。
(発明の開示)
本発明者らは、化学的に安定で、強誘電性液晶組成物成
分として有用な新規化合物を提供することに成功した。
分として有用な新規化合物を提供することに成功した。
本発明に係る新規化合物は、化学的に安定な物質であっ
て、液晶組成物成分として使用した場合に、動作温度範
囲の広い表示素子を提供することができるものである。
て、液晶組成物成分として使用した場合に、動作温度範
囲の広い表示素子を提供することができるものである。
すなわち、本発明に係る化合物は、液晶組成物において
SmC”相の温度範囲を拡張する成分として有用なもの
である。
SmC”相の温度範囲を拡張する成分として有用なもの
である。
以下に本発明の詳細な説明する。
本発明に係る新規化合物は、一般式(11(式中、Rは
炭素原子数1−18のアルキル基であり、nは3〜7の
整数を表わし、本の符号は光学活性原子を示すものであ
る) で表わされる液晶性化合物である。
炭素原子数1−18のアルキル基であり、nは3〜7の
整数を表わし、本の符号は光学活性原子を示すものであ
る) で表わされる液晶性化合物である。
本発明に係る化合物は、次の図式により示される合成ル
ートにより製造することができる。
ートにより製造することができる。
図式中に示された(1)〜(×1)の記号は、いずれも
実施例中の対応する各化合物に符されている。
実施例中の対応する各化合物に符されている。
以下に、本発明に係る化合物およびその製造例ならびに
使用例を実施例によって具体的に説明する。
使用例を実施例によって具体的に説明する。
実施例1
(S) −4−オクチルビフェニル−4′−イルp−(
4−メチルヘキシル)オキシベンゾエート(×)の合成 (a) 4−アセトキシ−4/−カブリリルビフェニ
ル(1)の合成 無水塩化アルミニウム1262、塩化メチレン400C
Cの混合物へ、攪拌しながらカブリリルクロライド92
2を滴下し、次に、これに、4−アセトキシビフェニル
80 tを塩化メチレン溶液として室温下で、滴下した
。同温度で、5時間反応させた後、反応液を希塩酸中へ
注加した。遊離した塩化メチレン層をよく水洗し、芒硝
で乾燥させた。溶媒を留去した後、エタノールより2回
再結晶することにより、839の4−アセトキシ−4/
−カプリリルビフェニルfi)ヲ得た。
4−メチルヘキシル)オキシベンゾエート(×)の合成 (a) 4−アセトキシ−4/−カブリリルビフェニ
ル(1)の合成 無水塩化アルミニウム1262、塩化メチレン400C
Cの混合物へ、攪拌しながらカブリリルクロライド92
2を滴下し、次に、これに、4−アセトキシビフェニル
80 tを塩化メチレン溶液として室温下で、滴下した
。同温度で、5時間反応させた後、反応液を希塩酸中へ
注加した。遊離した塩化メチレン層をよく水洗し、芒硝
で乾燥させた。溶媒を留去した後、エタノールより2回
再結晶することにより、839の4−アセトキシ−4/
−カプリリルビフェニルfi)ヲ得た。
(b) 4−オクチル−4/−ヒドロキンビフェニル
(11)の合成 反応容器に4−アセトキシ−4′−カブリリルビフェニ
ル(1)92 t 、 )エチレングリコール450C
C185%苛性カリ602(水100CCへ溶解)およ
び85%抱水ヒドラジン852を仕込み、還流下に、3
時間攪拌した。次に、反応系内の水を留去しなから22
0 ’Cまで昇温させ、同温度で4時間反応させた。放
冷後、反応液を希塩酸中へ注加し、析出物をイソプロピ
ルエーテル(IPE )で抽出した。IPE層をよく水
洗した後、芒硝で乾燥させた。工PEを留去し、残留分
をエタノールより再結晶することにより667の4−オ
クチル−4′−ヒドロキシビフェニル(ii) ヲ(l
fc。m、11.139〜l・10°C (c)(81p−(4−メチルヘキシル)オキシ安息香
酸メチル(iii)の合成 反応容器にp−ヒドロキ7安息香酸メチル257、(8
1−4−メチルヘキ/ルブロマイド(Mol。
(11)の合成 反応容器に4−アセトキシ−4′−カブリリルビフェニ
ル(1)92 t 、 )エチレングリコール450C
C185%苛性カリ602(水100CCへ溶解)およ
び85%抱水ヒドラジン852を仕込み、還流下に、3
時間攪拌した。次に、反応系内の水を留去しなから22
0 ’Cまで昇温させ、同温度で4時間反応させた。放
冷後、反応液を希塩酸中へ注加し、析出物をイソプロピ
ルエーテル(IPE )で抽出した。IPE層をよく水
洗した後、芒硝で乾燥させた。工PEを留去し、残留分
をエタノールより再結晶することにより667の4−オ
クチル−4′−ヒドロキシビフェニル(ii) ヲ(l
fc。m、11.139〜l・10°C (c)(81p−(4−メチルヘキシル)オキシ安息香
酸メチル(iii)の合成 反応容器にp−ヒドロキ7安息香酸メチル257、(8
1−4−メチルヘキ/ルブロマイド(Mol。
cryst、 Liq、Cryst It4237−2
−t71984の反応例に従い合成。1)、 p、 7
1〜72°C/ 23.5 mmHg ) 30 ?、
無水炭酸カリウム、167およびシクロヘキサノン30
0CCを仕込み、130〜140°Cで5時間攪拌した
。
−t71984の反応例に従い合成。1)、 p、 7
1〜72°C/ 23.5 mmHg ) 30 ?、
無水炭酸カリウム、167およびシクロヘキサノン30
0CCを仕込み、130〜140°Cで5時間攪拌した
。
反応液を水に注加し、次いで、遊離した有機層をベンゼ
ンで抽出した。このベンゼン層をよく水洗した後、芒硝
で乾燥させた。溶媒を留去し、残留分を減圧蒸留して(
S)−p−(4−メチルヘキシル)オキ7安息香酸メチ
ル(iii) 37.5 ?を得た。1)、p、 13
6〜137°C/ 0 、4 mmHg(d) (S
l−p −(4−メチルヘキシル)オキシ安息香酸(1
v)の合成 反応容器に、(S)−p−(4−メチルヘキシル)オキ
シ安息香酸メチル(iii) 37.5 ?、メタノー
ル200CCオヨび95%苛性ソーダ182(水100
CCに溶解)を仕込み、還流下で、4時間攪拌した。
ンで抽出した。このベンゼン層をよく水洗した後、芒硝
で乾燥させた。溶媒を留去し、残留分を減圧蒸留して(
S)−p−(4−メチルヘキシル)オキ7安息香酸メチ
ル(iii) 37.5 ?を得た。1)、p、 13
6〜137°C/ 0 、4 mmHg(d) (S
l−p −(4−メチルヘキシル)オキシ安息香酸(1
v)の合成 反応容器に、(S)−p−(4−メチルヘキシル)オキ
シ安息香酸メチル(iii) 37.5 ?、メタノー
ル200CCオヨび95%苛性ソーダ182(水100
CCに溶解)を仕込み、還流下で、4時間攪拌した。
反応液を希塩酸中に注加し、析出物をイソプロピルエー
テル(IPE )で抽出した。このIPE層をよく水洗
した後、芒硝で乾燥させた。工PEを留去した後、残留
分をヘキサンより再結晶して(S)−p−(4−メチル
ヘキシル)オキシ安息香酸(iv)34S’を得た。m
、 1)、 118〜125.5°C(e) (8)
−p −(4−メチルヘキシル)オキシ安息香酸クロラ
イド(v)の合成 反応容器に、(S) −p−(ll−メチルヘキシル)
オキ/安息香酸347、ベンゼン150CCを仕込み、
還流下に攪拌しながら塩化チオニル357を滴下した。
テル(IPE )で抽出した。このIPE層をよく水洗
した後、芒硝で乾燥させた。工PEを留去した後、残留
分をヘキサンより再結晶して(S)−p−(4−メチル
ヘキシル)オキシ安息香酸(iv)34S’を得た。m
、 1)、 118〜125.5°C(e) (8)
−p −(4−メチルヘキシル)オキシ安息香酸クロラ
イド(v)の合成 反応容器に、(S) −p−(ll−メチルヘキシル)
オキ/安息香酸347、ベンゼン150CCを仕込み、
還流下に攪拌しながら塩化チオニル357を滴下した。
次いで、同温度で6時間反応させた後、溶媒と過剰の塩
化チオニルを留去した。残留分を減圧蒸留して(S)−
p−(4−メチルヘキシル)オキシ安息香酸クロライド
M 32.79を得た。
化チオニルを留去した。残留分を減圧蒸留して(S)−
p−(4−メチルヘキシル)オキシ安息香酸クロライド
M 32.79を得た。
1)、 p、 133°C/ 0 、3 mmHg(f
) (S) ’ 4−オクチルビフェニル−4′−イ
ルp−(4−メチルヘキシル)オキシベンゾエート(×
)の合成 反応容器に、4−オクチル−4/−ヒドロキシビフェニ
ル(li12f、ベンゼン30CC、ヒ’) ’、;ン
0.67を仕込み、攪拌しながら、室温下、(S)−1
)−(4−メチルヘキシル)オキシ安息香酸クロライド
M 2 ?を滴下した。室温下で2時間、さらに還流下
で3時間、反応させた後、反応液を水に注加した。遊離
したベンゼン層をよく水洗し、芒硝で乾燥させた。
) (S) ’ 4−オクチルビフェニル−4′−イ
ルp−(4−メチルヘキシル)オキシベンゾエート(×
)の合成 反応容器に、4−オクチル−4/−ヒドロキシビフェニ
ル(li12f、ベンゼン30CC、ヒ’) ’、;ン
0.67を仕込み、攪拌しながら、室温下、(S)−1
)−(4−メチルヘキシル)オキシ安息香酸クロライド
M 2 ?を滴下した。室温下で2時間、さらに還流下
で3時間、反応させた後、反応液を水に注加した。遊離
したベンゼン層をよく水洗し、芒硝で乾燥させた。
ベンゼンを留去し、残留分をアセトンより2回再結晶し
て(S) −4−オクチルビフェニル−4′−イルp
−(ll−メチルヘキシル)オキシベンゾエート(幻1
.37を得た。
て(S) −4−オクチルビフェニル−4′−イルp
−(ll−メチルヘキシル)オキシベンゾエート(幻1
.37を得た。
このものの含量は、液体クロマトグラフィーにて99%
以上、薄層クロマトグラフィーにて1スポツトであった
。また、赤外線吸収ス啄りトル測定によれば、特性値は
、2800〜3000m−’、17 =l Ocm 、
1260 cm であった。また、マススペクトル分
析では、500に分子イオンピークが認められ、このも
のの化学構造が支持された。
以上、薄層クロマトグラフィーにて1スポツトであった
。また、赤外線吸収ス啄りトル測定によれば、特性値は
、2800〜3000m−’、17 =l Ocm 、
1260 cm であった。また、マススペクトル分
析では、500に分子イオンピークが認められ、このも
のの化学構造が支持された。
このものを、メトラーホットステージFP−82にはさ
み、偏光顕微鏡下で、相変化を観察したところ以下のよ
うであった。
み、偏光顕微鏡下で、相変化を観察したところ以下のよ
うであった。
108 ヤ125 153
Cry8を一一−→SmC←−−→Ch←−−→工SO
実施例2〜・1 実施例■に準拠して、同ちりにして、各種の誘導体を合
成し、相転移温度を測定した結果を表1に示す。〔表中
、Rは、前記一般式(1)におけるRであシ、それによ
り各化合物を示す〕実施例5 (S) −4−オクチルビフェニル−,1/−イルp−
(6−メチルオクチル)オキシベンゾニーt−(xi)
の合成 (a)(Si6−メチルオクチルブロマイド(vl)の
合成 反応容器に粉末マグネシウム13.89およびテトラヒ
ドロフラン(水素化リチウムアルミニウムで処理した後
に蒸留して精製)160ccを仕込み、これに(S)
−2−メチルブチルブロマイド(Mo1.Crest、
Li(1,Cr3’St 4837−521978の
反応例に従って合成1)、p、 123〜124°C)
78 fを滴下してグリニヤール試薬を調製した。
実施例2〜・1 実施例■に準拠して、同ちりにして、各種の誘導体を合
成し、相転移温度を測定した結果を表1に示す。〔表中
、Rは、前記一般式(1)におけるRであシ、それによ
り各化合物を示す〕実施例5 (S) −4−オクチルビフェニル−,1/−イルp−
(6−メチルオクチル)オキシベンゾニーt−(xi)
の合成 (a)(Si6−メチルオクチルブロマイド(vl)の
合成 反応容器に粉末マグネシウム13.89およびテトラヒ
ドロフラン(水素化リチウムアルミニウムで処理した後
に蒸留して精製)160ccを仕込み、これに(S)
−2−メチルブチルブロマイド(Mo1.Crest、
Li(1,Cr3’St 4837−521978の
反応例に従って合成1)、p、 123〜124°C)
78 fを滴下してグリニヤール試薬を調製した。
別に、反応容器に、1,4−ジブロモブタン゛1237
、テトラヒドロフラン(THF ) 350 cc 。
、テトラヒドロフラン(THF ) 350 cc 。
およびQ、l mol / tのジリチウムテトラクロ
ロキュープレート−THF浴液(Li2CuC74/
THF )18ccを仕込み、0°C以下で、上記のグ
リニヤール試薬を滴下した。
ロキュープレート−THF浴液(Li2CuC74/
THF )18ccを仕込み、0°C以下で、上記のグ
リニヤール試薬を滴下した。
0°C以下で1時間、10″Cで1時間、さらに室温下
で1時間攪拌した後、反応液を希塩酸中に注加した。遊
離した有機層をベンゼンで抽出し、ベンゼン層を充分に
水洗した。ベンゼン層を芒硝で乾燥させた後、溶媒を留
去し、残留分を減圧蒸留して(S) −6〜メチルオク
チルブロマイド(vi)60 ?を得た。b、p、 1
02〜114°C/ 27 mmHg(t)) (S
)−p−(6〜メチルオクチル)オキシ安息香酸メチル
(viOの合成 反応容器にp−ヒドロキシ安息香酸メチル40.3?、
(S) −6−メチルオクチルブロマイド502、無水
炭酸カリウム677およびシクロヘキサノン350CC
を仕込み、120〜125゛Cで5時間攪拌した。
で1時間攪拌した後、反応液を希塩酸中に注加した。遊
離した有機層をベンゼンで抽出し、ベンゼン層を充分に
水洗した。ベンゼン層を芒硝で乾燥させた後、溶媒を留
去し、残留分を減圧蒸留して(S) −6〜メチルオク
チルブロマイド(vi)60 ?を得た。b、p、 1
02〜114°C/ 27 mmHg(t)) (S
)−p−(6〜メチルオクチル)オキシ安息香酸メチル
(viOの合成 反応容器にp−ヒドロキシ安息香酸メチル40.3?、
(S) −6−メチルオクチルブロマイド502、無水
炭酸カリウム677およびシクロヘキサノン350CC
を仕込み、120〜125゛Cで5時間攪拌した。
次に、反応液を水に注加し、遊離した有機層をエチルエ
ーテルで抽出した。エーテル層をよく水洗し、芒硝で乾
燥させた。溶媒留去後、残留分を減圧蒸留して(Sl
p (6−メチルオクチル)オキシ安息香酸メチル
〜1i155.59を得た。
ーテルで抽出した。エーテル層をよく水洗し、芒硝で乾
燥させた。溶媒留去後、残留分を減圧蒸留して(Sl
p (6−メチルオクチル)オキシ安息香酸メチル
〜1i155.59を得た。
b、p、 169〜171°C/ l 、OmmHg(
C) (S) p (6−メチルオクチル)オキ
シ安息香酸(vii+)の合成 反応容器に(S) −p −(6−メチルオクチル)オ
キシ安息香酸メチル549.95チ苛性ンーダ209(
水200CCに溶解)、メタノール300CCを仕込み
、還流下3時間攪拌した。反応液を希塩酸中へ注加し、
析出物をベンゼンで抽出した。ベンゼン層をよく水洗し
た後、芒硝で乾燥させた。
C) (S) p (6−メチルオクチル)オキ
シ安息香酸(vii+)の合成 反応容器に(S) −p −(6−メチルオクチル)オ
キシ安息香酸メチル549.95チ苛性ンーダ209(
水200CCに溶解)、メタノール300CCを仕込み
、還流下3時間攪拌した。反応液を希塩酸中へ注加し、
析出物をベンゼンで抽出した。ベンゼン層をよく水洗し
た後、芒硝で乾燥させた。
溶媒を留去後、残留分をヘキサンより再結晶して、(S
)〜p−(6−メチルオクチル)オキシ安息香酸(vi
ti) 43 、19を得た。m、 1)、 126.
5〜127°C(d)(Sip−(6−メチルオクチル
)オキシ安息香酸クロライド(1×)の合成 反応容器に(S) −p =(6−メチルオクチル)オ
キシ安息香酸487およびベンゼン2000Cヲ仕込み
、還流下、攪拌しながら塩化チオニル・+5 rを滴下
した。同己度で6時間反応させた後、ベンゼンと過剰の
塩化チオニルを留去した。残留分を減圧蒸留して(Sl
’ p−(6−メチルオクチル)オキシ安息香酸クロ
ライド(ix) 18 Si’を得た。
)〜p−(6−メチルオクチル)オキシ安息香酸(vi
ti) 43 、19を得た。m、 1)、 126.
5〜127°C(d)(Sip−(6−メチルオクチル
)オキシ安息香酸クロライド(1×)の合成 反応容器に(S) −p =(6−メチルオクチル)オ
キシ安息香酸487およびベンゼン2000Cヲ仕込み
、還流下、攪拌しながら塩化チオニル・+5 rを滴下
した。同己度で6時間反応させた後、ベンゼンと過剰の
塩化チオニルを留去した。残留分を減圧蒸留して(Sl
’ p−(6−メチルオクチル)オキシ安息香酸クロ
ライド(ix) 18 Si’を得た。
b、 p、 151 ’C/ 0.25 mmHg(e
) (St−、+−オクチルビフェニル−4′−イル
p−(6−メチルオクチル)オキシベンゾエート(xi
)の合成 反応容器に、4−オクチル−・1′−ヒドロキノビフェ
ニル27、ベンゼン30 CC、ヒ’) シン0.67
を仕込み、攪拌しなから(S) −p −(6−メチル
オクチル)オキシ安息香酸クロライド2.21を滴下し
た。室温下で2時間、さらに還流下で3時間反応させた
後、反応液を水中に注加した。
) (St−、+−オクチルビフェニル−4′−イル
p−(6−メチルオクチル)オキシベンゾエート(xi
)の合成 反応容器に、4−オクチル−・1′−ヒドロキノビフェ
ニル27、ベンゼン30 CC、ヒ’) シン0.67
を仕込み、攪拌しなから(S) −p −(6−メチル
オクチル)オキシ安息香酸クロライド2.21を滴下し
た。室温下で2時間、さらに還流下で3時間反応させた
後、反応液を水中に注加した。
遊離したベンゼン層をよく水洗した後、芒硝で乾燥させ
た。
た。
溶媒留去後、残留分をエタノールより2回再結晶して(
S) −4−オクチルビフェニル−4′−イルp−(6
−メチルオクチル)オキシベンゾエート1.89を得た
。
S) −4−オクチルビフェニル−4′−イルp−(6
−メチルオクチル)オキシベンゾエート1.89を得た
。
このものの含量は、液体クロマトグラフィーにて99%
以上、薄層クロマトグラフィーにて1スポツトであった
。また、赤外線吸収ス啄りトル測定によれば、特性値は
2800〜3000 cm−’、1730 cm−”、
1260 cm−’であった。マスス滅りトル分析では
、528に分子イオンピークが認められ、このものの化
学構造が支持された。このものを、メトラーホットステ
ーシFP−82にはさみ、偏光顎做鏡下で相変化を観察
したところ以下のようであった。
以上、薄層クロマトグラフィーにて1スポツトであった
。また、赤外線吸収ス啄りトル測定によれば、特性値は
2800〜3000 cm−’、1730 cm−”、
1260 cm−’であった。マスス滅りトル分析では
、528に分子イオンピークが認められ、このものの化
学構造が支持された。このものを、メトラーホットステ
ーシFP−82にはさみ、偏光顎做鏡下で相変化を観察
したところ以下のようであった。
87.9 カ 140 154.8Cryst
SmC←−→Ch 工SO実施例6〜8 実施例5に準拠して、同様にして、各種の誘導体を合成
し、相転移温度を測定した結果を表2に示す。〔表中、
Rは、前記一般式(I)におけるRであり、それにより
各化合物を示す〕各実施例で得られた化合物は、広い温
度域にエナンチオトロピックsmc”相を有しており、
強誘電性液晶組成物の温度範囲を拡張する成分としてい
ずれも有効である。
SmC←−→Ch 工SO実施例6〜8 実施例5に準拠して、同様にして、各種の誘導体を合成
し、相転移温度を測定した結果を表2に示す。〔表中、
Rは、前記一般式(I)におけるRであり、それにより
各化合物を示す〕各実施例で得られた化合物は、広い温
度域にエナンチオトロピックsmc”相を有しており、
強誘電性液晶組成物の温度範囲を拡張する成分としてい
ずれも有効である。
実施例9
表面に、t? IJイミド系嵩高分子膜塗布し、ラビン
グ処理した2枚の透明電極を有するガラス基板に、マイ
ラーフィルムをはさんで液晶セルを組立てた。なお、2
枚の基板は、そのラビング方向は平行になるようにされ
、セル間隔は9μmである。この液晶セルに各実施例で
得られた化合物を封入し、等方性液体からSmC”相ま
で徐冷しだ。この液晶セルを2枚の偏光板にはさみ、電
圧を印加し、極性を反転させると表示状態が変化した。
グ処理した2枚の透明電極を有するガラス基板に、マイ
ラーフィルムをはさんで液晶セルを組立てた。なお、2
枚の基板は、そのラビング方向は平行になるようにされ
、セル間隔は9μmである。この液晶セルに各実施例で
得られた化合物を封入し、等方性液体からSmC”相ま
で徐冷しだ。この液晶セルを2枚の偏光板にはさみ、電
圧を印加し、極性を反転させると表示状態が変化した。
このように各実施例で得られた各化合物のSmC”相は
、強誘電性を示し電気光学素子として使用し得るもので
ある。
、強誘電性を示し電気光学素子として使用し得るもので
ある。
本発明に係る化合物は、化学的に安定であって、強誘電
性液晶組成物の温度範囲を拡張する成分として有用なも
のである。
性液晶組成物の温度範囲を拡張する成分として有用なも
のである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは炭素原子数1〜18のアルキル基であり、
nは3〜7の整数を表わし、*の符号は、光学活性原子
を示すものである) で表わされる液晶性化合物。 2)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは炭素原子数1〜18のアルキル基であり、
nは3〜7の整数を表わし、*の符号は光学活性原子を
示すものである) で表わされる液晶性化合物の少くとも1種を含有するこ
とを特徴とする液晶組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60287956A JPS62148452A (ja) | 1985-12-23 | 1985-12-23 | 新規な液晶性物質及び液晶組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60287956A JPS62148452A (ja) | 1985-12-23 | 1985-12-23 | 新規な液晶性物質及び液晶組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62148452A true JPS62148452A (ja) | 1987-07-02 |
| JPH0574582B2 JPH0574582B2 (ja) | 1993-10-18 |
Family
ID=17723918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60287956A Granted JPS62148452A (ja) | 1985-12-23 | 1985-12-23 | 新規な液晶性物質及び液晶組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62148452A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01254645A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-11 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 光学活性アリールエステル化合物 |
-
1985
- 1985-12-23 JP JP60287956A patent/JPS62148452A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01254645A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-11 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 光学活性アリールエステル化合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0574582B2 (ja) | 1993-10-18 |
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