JPS62153246A - 酢酸エチルの精製方法 - Google Patents
酢酸エチルの精製方法Info
- Publication number
- JPS62153246A JPS62153246A JP29488685A JP29488685A JPS62153246A JP S62153246 A JPS62153246 A JP S62153246A JP 29488685 A JP29488685 A JP 29488685A JP 29488685 A JP29488685 A JP 29488685A JP S62153246 A JPS62153246 A JP S62153246A
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- Japan
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- ethyl acetate
- catalyst
- aldehydes
- product
- distillation
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は酢酸エチルの精製方法に関する。高純度に精製
された酢酸エチルは特にウレタン樹脂、試薬、銀塩写真
フィルム等の用途に用いられる。
された酢酸エチルは特にウレタン樹脂、試薬、銀塩写真
フィルム等の用途に用いられる。
従来の技術
従来、酢酸エチルの工業的製法として、アセトアルデヒ
ドを原料としてアルミニウムアルコラードを主体とした
触媒によりティッシェンコ反応を行って粗酢酸エチルを
製造し、次いで未反応アセトアルデヒドや副生エタノー
ル、ジエチルアセタール等を蒸留により除いて製造する
のが一般的である（製造工程図全集第２巻４２２〜４２
３ページ昭和４３年初版 化学工業社）。通常の蒸留後
の酢酸エチルになお残存する不純物としてはごく微量の
アセトアルデヒド、エチルビニルエーテル、エタノール
、ジエチルアセクール、クロトンアルデヒド、その他が
あり、ウレタン樹脂、試薬、銀塩写真フィルム等の用途
によっては微量の不飽和化合物、アルデヒド類、アセタ
ール類、アルコール類の不純物でも問題になる場合があ
る。
ドを原料としてアルミニウムアルコラードを主体とした
触媒によりティッシェンコ反応を行って粗酢酸エチルを
製造し、次いで未反応アセトアルデヒドや副生エタノー
ル、ジエチルアセタール等を蒸留により除いて製造する
のが一般的である（製造工程図全集第２巻４２２〜４２
３ページ昭和４３年初版 化学工業社）。通常の蒸留後
の酢酸エチルになお残存する不純物としてはごく微量の
アセトアルデヒド、エチルビニルエーテル、エタノール
、ジエチルアセクール、クロトンアルデヒド、その他が
あり、ウレタン樹脂、試薬、銀塩写真フィルム等の用途
によっては微量の不飽和化合物、アルデヒド類、アセタ
ール類、アルコール類の不純物でも問題になる場合があ
る。
酢酸エチル中の微量の不純物を除去する方法として、微
量の不純物を含む酢酸エチルを酸性白土、活性白土、ベ
ントナイト、シリカアルミナ又はゼオライトと接触させ
た後、低沸分離蒸留とすることにより酢酸エチルを精製
する方法が知られている（特開昭５７−８１４３６号公
報）。
量の不純物を含む酢酸エチルを酸性白土、活性白土、ベ
ントナイト、シリカアルミナ又はゼオライトと接触させ
た後、低沸分離蒸留とすることにより酢酸エチルを精製
する方法が知られている（特開昭５７−８１４３６号公
報）。
発明が解決しようとする問題点
従来の方法においては、酢酸エチル中に不純物として含
有されるアルデヒド類の除去はまだ満足できるものでは
ない。
有されるアルデヒド類の除去はまだ満足できるものでは
ない。
問題を解決するための手段
本発明方法によると、微量のアルデヒド類を含有する酢
酸エチルを、アルデヒド類の０．２〜１０倍モル債の一
級アミン化合物の存在下、触媒に接触させた後、蒸留す
ることによりアルデヒド類をほとんど含有しない高純度
（９９，９９％以上）の酢酸エチルを得ることができる
。
酸エチルを、アルデヒド類の０．２〜１０倍モル債の一
級アミン化合物の存在下、触媒に接触させた後、蒸留す
ることによりアルデヒド類をほとんど含有しない高純度
（９９，９９％以上）の酢酸エチルを得ることができる
。
本発明方法の原料となる酢酸エチルとしては、工業用と
して製造されている純度９９．０％以上のものが用いら
れるが、不純物として含まれるアルデヒド類（アセトア
ルデヒド、クロトンアルデヒド等）の量が５００ｐｐｍ
以上の場合は、あらかじめ蒸留で５００ｐｐｍ以下にし
てお（ことが望ましい。
して製造されている純度９９．０％以上のものが用いら
れるが、不純物として含まれるアルデヒド類（アセトア
ルデヒド、クロトンアルデヒド等）の量が５００ｐｐｍ
以上の場合は、あらかじめ蒸留で５００ｐｐｍ以下にし
てお（ことが望ましい。
又、酢酸エチルに含まれる不純物としては、アルデヒド
類の外にジエチルアセタール、エチルビニルエーテル等
があるが、これらは−級アミン化合物添加に先立って例
えば、強酸性陽イオン交換樹脂の交換基の２〜３０％部
分がＨ型であるものに適量の水添加による通液処理であ
らかじめ除去しておくことが望ましい。
類の外にジエチルアセタール、エチルビニルエーテル等
があるが、これらは−級アミン化合物添加に先立って例
えば、強酸性陽イオン交換樹脂の交換基の２〜３０％部
分がＨ型であるものに適量の水添加による通液処理であ
らかじめ除去しておくことが望ましい。
強酸性陽イオン交換樹脂としては、例えば市販のアンバ
ーリスト１５（ＭＲ型；ローム アンドハース社製）、
ダイヤイオンＨＰＫ−２５（ハイポーラス型；三菱化成
社製）、デュオライトＣ−２６（ポーラス型；デュオラ
イト インターナショナル社製）があげられる。−級ア
ミン化合物としては酢酸エチルより高沸点のものが好ま
しく、たとえばヘプチルアミン、２エチルヘキシルアミ
ン、エチレンジアミン、ジエチルトリアミン、トリエチ
レンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、プロピレ
ンジアミン、モノエタノールアミン、モノイソプロパツ
ールアミン、アニリン、トルイジン、シクロヘキシルア
ミン等が用いられる。
ーリスト１５（ＭＲ型；ローム アンドハース社製）、
ダイヤイオンＨＰＫ−２５（ハイポーラス型；三菱化成
社製）、デュオライトＣ−２６（ポーラス型；デュオラ
イト インターナショナル社製）があげられる。−級ア
ミン化合物としては酢酸エチルより高沸点のものが好ま
しく、たとえばヘプチルアミン、２エチルヘキシルアミ
ン、エチレンジアミン、ジエチルトリアミン、トリエチ
レンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、プロピレ
ンジアミン、モノエタノールアミン、モノイソプロパツ
ールアミン、アニリン、トルイジン、シクロヘキシルア
ミン等が用いられる。
触媒としては、活性白土、酸性白土、ベントナイト、シ
リカアルミナ又はゼオライトがあげられる。
リカアルミナ又はゼオライトがあげられる。
触媒を充填する装置は形式に限定されるものではないが
、固定床に充填して連続に通液する装置が工業上実用的
である。通塔条件としてはＬＨ３Ｖ（液流量Ｌ／Ｈ／触
媒充填量Ｌ）が１．０〜３．０で、その際の通塔液の温
度としては１０〜５０℃、好ましくは２０〜３５℃であ
る。温度が低いと反応が遅く、又、５０℃を越えると酢
酸エチルの加水分解が無視できなくなる。
、固定床に充填して連続に通液する装置が工業上実用的
である。通塔条件としてはＬＨ３Ｖ（液流量Ｌ／Ｈ／触
媒充填量Ｌ）が１．０〜３．０で、その際の通塔液の温
度としては１０〜５０℃、好ましくは２０〜３５℃であ
る。温度が低いと反応が遅く、又、５０℃を越えると酢
酸エチルの加水分解が無視できなくなる。
蒸留条件としては、例えば蒸留塔を２塔用い、１塔目の
段数２０〜４０段還流比５〜１０及び低沸点留分の割合
５〜１０％；２塔目の段数２０〜４０段還流比０．５〜
１．５及び高沸点留分め割合５〜１５％である。
段数２０〜４０段還流比５〜１０及び低沸点留分の割合
５〜１０％；２塔目の段数２０〜４０段還流比０．５〜
１．５及び高沸点留分め割合５〜１５％である。
かかる蒸留により、純度９９．９９％以上の酢酸エチル
を得ることができる。
を得ることができる。
以下に実施例及び参考例を示す。
実施例１
粒状活性白土 ニフカナイ）Ｇ−１５３（日本活性白土
社製）を反応器に１４２充填し、あらかじめジエチルア
セクールを加水分解した後、モノエタノールアミンを濃
度２００ｐｐｍになるよう添加した酢酸エチルを１８０
０ｇ／Ｈで通液し液を得る（この液を反応器出口液と称
す）。この反応器出口液をそのまま２塔の連続蒸留にか
け、１塔目では低沸点留分を還流比１２で１３０ ｇ／
Ｈ分離し、２塔目では還流比１．０で１５５０ｇ／）（
の製品を得た。製品の各種試験の結果を第１表を示す。
社製）を反応器に１４２充填し、あらかじめジエチルア
セクールを加水分解した後、モノエタノールアミンを濃
度２００ｐｐｍになるよう添加した酢酸エチルを１８０
０ｇ／Ｈで通液し液を得る（この液を反応器出口液と称
す）。この反応器出口液をそのまま２塔の連続蒸留にか
け、１塔目では低沸点留分を還流比１２で１３０ ｇ／
Ｈ分離し、２塔目では還流比１．０で１５５０ｇ／）（
の製品を得た。製品の各種試験の結果を第１表を示す。
また製品を褐色ガラス瓶に入れ常温で３５日放置しても
過酸化物試験は合格であった。なお製品中のＮ分は検出
限界ｌｐｐｍの分析で検出されなかった。
過酸化物試験は合格であった。なお製品中のＮ分は検出
限界ｌｐｐｍの分析で検出されなかった。
第 １ 表
ＥｔＯＨ； エタノ −ル ＡｃＴＬ
； ジエチルアセクールＣｒ１ｌＯ； クロトンアルデ
ヒド ＨＡＣ： 酢酸ＮＤ；検出されな
い ＴＲ；痕跡、Ｉ Ｐ Ｐ Ｍ以下分析法 ＪＩＳ−に−８３６１を一部改訂した試験法である。
； ジエチルアセクールＣｒ１ｌＯ； クロトンアルデ
ヒド ＨＡＣ： 酢酸ＮＤ；検出されな
い ＴＲ；痕跡、Ｉ Ｐ Ｐ Ｍ以下分析法 ＪＩＳ−に−８３６１を一部改訂した試験法である。
（１）過酸化物
試料２０ｍ１→共栓試験管にとる→ヨウ化カリウム溶液
２．５ｍｌ＋水２．５ｍｌ→振る→１時間放置・・・黄
変しない。（合格） （２） アルデヒド 試料１０ｍ１＝共栓試験管にとるーネスラー溶液ＩＱｍ
ｌ−１０秒間激しく振る一１分間放置・・・水槽が濁り
を生じないし変色しない。
２．５ｍｌ＋水２．５ｍｌ→振る→１時間放置・・・黄
変しない。（合格） （２） アルデヒド 試料１０ｍ１＝共栓試験管にとるーネスラー溶液ＩＱｍ
ｌ−１０秒間激しく振る一１分間放置・・・水槽が濁り
を生じないし変色しない。
（合格）
（３）硫酸着色物質（特開昭５７−８１４３６の方法に
準じた）試料５ｍｌ→ｌＯ℃以下に冷却→３０℃を越え
ないようにして硫酸５ｍｌを１０分間で滴下しながらか
きまぜる→湯浴中で５０℃±１℃に１時間保つ→冷却後
色相を判定 （４）各成分分析のうちで水分はカールフィッシャー法
、酢酸は中和滴定法、その他はガスクロマトグラフィー
による。
準じた）試料５ｍｌ→ｌＯ℃以下に冷却→３０℃を越え
ないようにして硫酸５ｍｌを１０分間で滴下しながらか
きまぜる→湯浴中で５０℃±１℃に１時間保つ→冷却後
色相を判定 （４）各成分分析のうちで水分はカールフィッシャー法
、酢酸は中和滴定法、その他はガスクロマトグラフィー
による。
（以下の表においても単位、略称及び分析法は同じ）
実施例２
実施例１において、−級アミン化合物としてモノエタノ
ールアミンの代わりにジエチレントリアミン３００ｐｐ
ｍ用いた他は実施例１と同様に行い製品を得た。その製
品の各種試験結果を第２表に示す。又、常温３０日放置
試験についても過酸化物試験は合格であった。
ールアミンの代わりにジエチレントリアミン３００ｐｐ
ｍ用いた他は実施例１と同様に行い製品を得た。その製
品の各種試験結果を第２表に示す。又、常温３０日放置
試験についても過酸化物試験は合格であった。
第 ２ 表
実施例３
実施例１において、活性白土の代わりにゼオライト ゼ
オラムＡ−３（東洋曹達工業社製）を用いる以外は実施
例１と同様に行い製品を得た。
オラムＡ−３（東洋曹達工業社製）を用いる以外は実施
例１と同様に行い製品を得た。
製品の分析結果を第３表に示す。
第 ３ 表
実施例４
実施例１において、活性白土の代わりにシリカアルミナ
（８揮化学社製）を用いる以外は実施例１と同様に行い
製品を得た。製品の分析結果を第４表に示す。
（８揮化学社製）を用いる以外は実施例１と同様に行い
製品を得た。製品の分析結果を第４表に示す。
第 ４ 表
参考例１
酢酸エチルにモノエタノールアミンをｆｉ度２００ｐｐ
ｍ添加し、触媒を用いずに申、に８０℃１時間還流後、
実施例１と同様の蒸留方法で得た製品はアルデヒド試験
が不合格であった。
ｍ添加し、触媒を用いずに申、に８０℃１時間還流後、
実施例１と同様の蒸留方法で得た製品はアルデヒド試験
が不合格であった。
結果を第５表に示す。
第 ５ 表
参考例２
ニッカナイ）Ｇ−１５３を用いてジエチルアセクールが
約２００ｐｐｍ存在し、水分２００ｐｐｍに調整した酢
酸エチルを一級アミン化合物を添加せずに通液した後、
実施例１と同様に２塔の連続蒸留にかけた。蒸留直後の
製品は過酸化物試験は合格であったが、褐色ガラス瓶に
常温で２０日放置したものは過酸化物試験が不合格であ
った。
約２００ｐｐｍ存在し、水分２００ｐｐｍに調整した酢
酸エチルを一級アミン化合物を添加せずに通液した後、
実施例１と同様に２塔の連続蒸留にかけた。蒸留直後の
製品は過酸化物試験は合格であったが、褐色ガラス瓶に
常温で２０日放置したものは過酸化物試験が不合格であ
った。
結果を第６表に示す。
第 ６ 表
＊２０日後不合格
発明の効果
本発明により、アルデヒド類をほとんど含有しない高純
度の酢酸エチルを得ることができる。
度の酢酸エチルを得ることができる。
Claims (2)
- （１）微量のアルデヒド類を含有する酢酸エチルを、ア
ルデヒド類の０．２〜１０倍モル量の一級アミン化合物
の存在下、触媒に接触させた後、蒸留することを特徴と
する酢酸エチルの精製方法。 - （２）触媒が活性白土、酸性白土、ベントナイト、シリ
カアルミナ又はゼオライトである特許請求の範囲第１項
記載の精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29488685A JPS62153246A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 酢酸エチルの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29488685A JPS62153246A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 酢酸エチルの精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62153246A true JPS62153246A (ja) | 1987-07-08 |
| JPH0572899B2 JPH0572899B2 (ja) | 1993-10-13 |
Family
ID=17813519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29488685A Granted JPS62153246A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 酢酸エチルの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62153246A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100422598B1 (ko) * | 1996-06-20 | 2004-08-16 | 미쯔비시 레이온 가부시끼가이샤 | 니트릴의정제방법 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4831087A (ja) * | 1971-08-25 | 1973-04-24 | ||
| JPS5223017A (en) * | 1975-08-13 | 1977-02-21 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | Process for purification of (meth) acrylic acid or its esters |
| JPS5781436A (en) * | 1980-11-10 | 1982-05-21 | Tokuyama Sekiyu Kagaku Kk | Purification of ethyl acetate |
-
1985
- 1985-12-26 JP JP29488685A patent/JPS62153246A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4831087A (ja) * | 1971-08-25 | 1973-04-24 | ||
| JPS5223017A (en) * | 1975-08-13 | 1977-02-21 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | Process for purification of (meth) acrylic acid or its esters |
| JPS5781436A (en) * | 1980-11-10 | 1982-05-21 | Tokuyama Sekiyu Kagaku Kk | Purification of ethyl acetate |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100422598B1 (ko) * | 1996-06-20 | 2004-08-16 | 미쯔비시 레이온 가부시끼가이샤 | 니트릴의정제방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0572899B2 (ja) | 1993-10-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |