JPS62159149A - 電子写真感光体 - Google Patents

電子写真感光体

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JPS62159149A
JPS62159149A JP29726285A JP29726285A JPS62159149A JP S62159149 A JPS62159149 A JP S62159149A JP 29726285 A JP29726285 A JP 29726285A JP 29726285 A JP29726285 A JP 29726285A JP S62159149 A JPS62159149 A JP S62159149A
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立木 繁雄
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    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、保護層を有する電子写真感光体に関する。
(従来の技術) 光導電性物質を感光材料として利用する電子写真感光体
において、光導電性物質としては、従来、セレン、酸化
亜鉛、酸化チタン、硫化カドミウム等の無機系光導電性
物質が主に用いられてきた。
しかし、これらの多くは、一般に毒性が強く、廃棄する
方法にも問題がある。
一方、有機光導電性化合物を使用すると、無機系光導電
性物質を利用する場合に比べて、一般に毒性が弱く、更
に透明性、可撓性、軽量性1価格等の点において有利で
あるので最近広く研究されてきている。
その中で電荷の発生と輸送という機能を分離した複合型
感光体は、従来、有機光導電・性化合物を使用した感光
体の大きな欠点であった感度を大幅に向上させることが
できるだめ、近年急速な進歩を遂けつつある。
(発明が解決しようとする問題点) これらの複合型感光体をカールソン法による電子写真装
置に適用した場合には、まず感光体表面に静電潜像を形
成し1次に異符号に帯電した一般にトナーと称する現像
剤により、トナー画像を他の基体、例えば紙等に転写、
定着し、コピーを得ることができる。この際感光体表面
にわずかに残在しているトナーをブラシやブレード等を
用いて除去(クリーニング)する必要がある。
このように現像、転写、クリーニングの工程を繰り返す
ことにより、感光体の表面は摩耗し、損傷を受け、その
結果、転写画像が不鮮明になり、場合によっては電荷輸
送層や電荷発生層の剥離を生じることにより、感光体の
寿命は著しく短くなる。このような問題から感光体には
強固な耐久性が要求されている。
そこで耐久性を向上させるため、特開昭52−7692
8号公報、特開昭54−17732号公報などで開示さ
れているように表面に保護層を設けることが提案されて
いる。しかし従来の保護層のように熱可塑性樹脂を用い
た場合には耐摩耗性の効果も十分でなく、また熱硬化性
樹脂を用いると保護層形成時に高温、長時間が必要なた
め、その間に下層の電荷発生層や電荷輸送層中の材料が
熱劣化するため電子写真特性が低下してしまうこと、更
に耐摩耗性を向上するだめ保護層の膜厚を厚くする必要
があることから、電子写真特性における残留電位の増加
や感度の低下を招きやすいという欠点があり、電子写真
特性を損なわない耐摩耗性の高い保護層の開発が望まれ
ている。
したがって本発明は、前記のような要求を満足し、電子
写真特性及び耐久性に優れた電子写真感光体を提供する
ことを目的とする。
(問題点を解決するための手段) 本発明は特定の保護層を設けることによって前記の問題
点を解決したものである。
すなわち、本発明は、導電層の上に、電荷を発生する有
機顔料を含有する電荷発生層、電子供与性電荷輸送性物
質を含有する電荷輸送層及び保護層を順次積層した電子
写真感光体において、該保護層が、 (a)数平均分子11500以下で、メラミン核1個当
りに結合ホルムアルデヒド数が2〜4個及びメチロール
基数が1〜2個であるブチルエーテル化メラミン・ホル
ムアルデヒド樹脂。
(b)ポリビニルアセタール樹脂 並びに (c)電子供与性カルボン酸化合物及び/又は電子供与
性ポリカルボン酸無水物 の硬化皮膜を含有してなる電子写真感光体に関する。
本発明になる電子写真感光体に用いられる材料について
以下に詳述する。
まず本発明において導電層とは、導電処理した紙又はプ
ラスチックフィルム、アルミニウムのような金属箔を積
層したプラスチックフィルム、金属板、金属ドラム等の
導電体である。
電荷発生層に含まれる電荷を発生する有機顔料としては
、アゾキシベンゼン系、ジスアゾ系、トリスアゾ系、ベ
ンズイミダゾール系、多環式キノリン系、インジゴイド
系、キナクリドン系、フタロシアニン系、ペリレン系、
メチン系等の光照射によって電荷を発生することが知ら
れている顔料を使用できる。これらの顔料は、例えば、
特開昭47−37453号、特開昭47−37544号
、特開昭47−18543号、特開昭47−18544
号。
特開昭48−43942号、特開昭48−70538号
、特開昭49−1231号、特開昭49−105536
号、特開昭50−75214号、特開昭50−9273
8号公報等に開示されている。特に特開昭58−182
640号公報及びヨーロッパ特許出願公開第92255
号公報に記載されているτ、τ′。
η及びη′型型金金属フタロシアニン長波長にまで高感
度を有し、ダイオードレーザ−を搭載したプリンター用
の電子写真感光体としても有効である。このようなもの
のほか光照射により電荷担体を発生する任意の有機顔料
を使用することができる。
また電荷発生層に、電子写真感光体に通常使用される結
合剤、可塑剤、流動性付与剤、ピンホール抑制剤等の添
加剤を必要に応じて用いることができる。結合剤として
は、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂
、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメタ
クリル酸メチル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等が挙げ
られる。また、熱及び/又は光硬化性樹脂も使用できる
。いずれにしても電気絶縁性で通常の状態で皮膜を形成
しうる樹脂であれば特に制限はない。
電荷発生層中、結合剤は、前記有機顔料に対して300
重量%以下の量で使用する。300重量%を越えると、
電子写真特性が低下する。
可塑剤としてはノ・ロゲン化パラフィン、ジメチルナフ
タリン、ジブチルフタレート等が挙げられる。流動性付
与剤としては、モダフロー(モンサントケミカル社製)
、アクロナール4F(パス7社製)等が挙げられ、ピン
ホール抑制剤としては。
ベンゾイン、ジメチルフタレート等が挙げられる。
これらは、各々、前記有機顔料に対して5重量%以下で
使用するのが好ましい。
電荷輸送層に用いる電子供与性電荷輸送性物質は、正電
荷担体(正孔)を搬送する機能を有するものであって、
具体的には、カルバゾール、3−フエニル力ルバゾール
、2−フェニルインドール。
2−フェニルナフタリン、オキサジアゾール、オキサト
リアゾール、1−フェニル−3−(4−ジエチルアミノ
スチリル)−5−(4−ジエチルアミノフェニル)ヒラ
ゾリン、2−フェニル−4−(4−ジエチルアミノフェ
ニル)−5−フェニルオキサゾール、トリフェニルアミ
ン、イミダゾール等の低分子化合物、ポIJ−N−ビニ
ルカルバゾール、ハロゲン化ポリ−N−ビニルカルバゾ
ール。
ポリビニルピレン、ポリビニルインドロキノキサリン、
ポリビニルベンゾチオフェン、ポリビニルアントラセン
、ポリビニルアクリジン、ポリビニルピラゾリン等の高
分子化合物、これらの誘導体等がある。
電荷輸送層にも電荷発生層と同様な結合剤、可塑剤、流
動性付与剤、ピンホール抑制剤等を必要に応じて用いる
ことができる。この中で結合剤は電荷輸送性物質に対し
、電子写真特性が低下しないように400重量%以下が
好ましく、低分子化合物を用いるときはこれに対しては
被膜特性の関係上50重量%以上が好ましい。その他の
添加剤は、各々、電荷輸送性物質に対して5重量%以下
が好ましい。
次に、保護層について説明する。
本発明の保護層は、特定のブチルエーテル化メラミン・
ホルムアルデヒド樹脂、ポリビニルアセタール樹脂並び
に電子供与性カルボン酸化合物及び/又は電子供与性ポ
リカルボン酸無水物の硬化皮膜によって主に形成される
が、この硬化皮膜はこれらを含む塗膜を加熱により硬化
させて得ることができる。
本発明において用いられるブチルエーテル化メラミン・
ホルムアルデヒド樹脂の数平均分子量は1.500以下
であり、数平均分子量が1,500を越えると反応性が
低下する。また該樹脂はメラミン核1個当り結合ホルム
アルデヒドを2〜4個有する。
4個を越えると反応性が低下し、2個未満では該樹脂の
貯蔵安定性が悪くなり、硬化塗膜がもろくなる。更に該
樹脂はメラミン核1個あだりメチロール基を1〜2個有
するものである。メチロール基の数が2個を越えると該
樹脂の貯蔵安定性が劣り、硬化塗膜がもろくなる。また
、1個未満では反応性が劣る。
このようなブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂は、メラミンをブタノールに溶解し、これにホル
ムアルデヒドを滴下することによって付加反応及びブチ
ルエーテル化反応を行う方法、或いはメラミン及びホル
ムアルデヒドをブタノールに溶解させ、この溶液を加熱
して付加反応及びブチルエーテル化反応を行う方法によ
って製造できる。これらの方法において反応は硝酸、塩
酸、硫酸、燐酸、p−トルエンスルホン酸等の酸性触媒
を添加し、酸性下、好ましくはpH3〜6で行うのが好
ましく、反応温度はブタノールの還流温度、好ましくは
約90〜100Cであるのが好ましい。本発明において
は、メラミン1モルに対してブタノール4〜5モル及び
ホルムアルデヒド3〜7モルを使用して、前記の反応を
実施するのが好ましい。  ′ 本発明の保護層に用いられるブチルエーテル化メラミン
・ホルムアルデヒド樹脂は、従来のメラミン樹脂に比べ
て低温硬化が可能になるため保護層形成時に電子写真感
光体を熱劣化させることなく、かつ、耐摩耗性の高い保
護層が形成できる。
本発明におけるポリビニルアセタール樹脂ハ。
数平均分子量がs、ooo〜250,000  のもの
が好ましく、下記の式■〜■又は■〜■の繰り返し単位
を有するものである。
(ただし、Rは水素又はメチル基等のアルキル基である
) ■、ビニルアルコールグループ 式1〜■の繰り返し単位は、ビニルアセタールグループ
が70重量%以上、ビニルアルコールグループが4〜2
5重量%及び酢酸ビニルグループが26重量%以下の樹
脂が用いられるのが好ましい。この中で特にビニルアル
コールグループの比率は重要で4重量%未満であると前
記のブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂
と組み合わせて加熱硬化により保護層を形成する際の硬
化反応が遅く、保護層の耐摩耗性も悪くなりゃすい。ま
だ25重量%を越えると保護層がもろくなる傾向がある
。ポリビニルアセタール樹脂の製造法の一例を述べると
まず酢酸ビニルモノマーを重合しポリ酢酸ビニルを合成
する。ポリ酢酸ビニルをケン化してポリビニルアルコー
ルを製造する。
この際、一部に酢酸ビニルグループが残存する。
次にブチルアルデヒドやホルムアルデヒドなどのアルデ
ヒド類を加えてアセタール化を行うことによりポリビニ
ルアセタール樹脂を製造することができる。
本発明になる保護層を形成するにはブチルエーテル化メ
ラミン・ホルムアルデヒド樹脂とポリビニルアセタール
樹脂は、重量比前者/後者が9515から30/70の
比率で配合するのが好ましく、特に80/20から50
150の比率が最適である。このような比率以外では耐
摩耗性が低下する傾向がある。
以上説明した特定のブチルエーテル化メラミン・ホルム
アルデヒド樹脂とポリビニルアセタール樹脂からなる硬
化皮膜でも、従来知られている保護層と比較して、比較
的低温で短時間の硬化条件により耐摩耗性に優れ、硬化
中に生じる感光体の熱劣化による電子写真特性の低下を
防ぐことができる。
しかし、本発明は、さらに、電子供与性カルボン酸化合
物及び/又は電子供与性ポリカルボン酸無水物を使用す
ることにより、下記の特長を付加するものである。
(1)電子供与性カルボン酸化合物及び/又は電子供与
性ポリカルボン酸無水物が硬化反応を促進するので、よ
り低温、短時間で硬化反応を完了させることができる。
この結果、硬化反応中の感光体の熱劣化に伴なう電子写
真特性の低下を著しく小さくできる。
(2)上記のように硬化反応が促進されるため、保護層
の耐摩耗性がさらに向上し、感光体を長寿命にできる。
(3)上記カルボン酸及び酸無水物は電子供与性である
ため、この性質が保護層に導入される。この結果として
保護層への正孔の注入が効率よく行なわれ、感度の低下
及び光照射後の残留電位の増加を極めて小さくできる。
従って、保護層を厚くすることができ、感光体の寿命を
より長くすることができる。
上記電子供与性カルボン酸化合物としては、電子供与基
、例えばアミン基、水酸基、・・ロゲン。
アルコキシル基、アルキル基などで一つ以上置換された
芳香環を一つ以上及びカルボキシル基を有する化合物及
び電子供与性の骨核及びカルボキシル基を有する化合物
があり、前者としては、4−アミノ安息香酸、4−ジメ
チルアミノ安息香酸。
3.4−ビス(ジメチルアミノ)安息香酸、3゜4,5
−トリス(ジメチルアミノ)フタル酸、サリチル酸、4
−クロル−サリチル酸、3,4−ジブロモ安息香酸、3
.4−ジメトキシ安息香酸、3.4.5−)ジメトキシ
安息香酸、2. 4. 5−トリメトキシ安息香酸、3
,4.5−1リメトキシフェニル酢酸、ジフェニルアミ
ン−2−カルボン酸、2.5−ピリジンジカルボン酸、
 3. 4゜5−トリメトキシフタル酸、3−エチル−
4,5−ジメトキシ安息香酸、3,4−ジメトキシ−5
−クロルフェニルプロピオン酸、4−t−7”チル−5
−メトキシ安息香酸、1−力ルボキシ−2゜3−ジメチ
ルアミノナフタレン、1.8−ジカルボキシ−2,3,
4−トリメトキシナフタレン、2−カルボキシ−3,6
,7−トリメトキシアントラセン、2−カルボキシ−3
,6−ビス(ジメチルアミノ)アントラセンなどがあり
、後者としては、オキサゾール、オキシジアゾール、ピ
ラゾリン、スチルベンヒドラゾン、ビロール、イミダゾ
ール、カルバゾール、インドール等及びこれらの誘導体
等の電子供与性化合物の1@以上のカルボキシル基によ
る置換体があり、具体的には2−(2−カルボキシ−4
−ジエチルアミン)フェニル−1,3−オキサゾール、
1−(4−カルボキシ)フエ二一3−(4−ジエチルア
ミノスチリル)−5−(4−ジエチルアミノ)フェニル
ピラゾリン、α−フェニル−4’−N、N’−ジカルボ
キシフェニルアミノスチルペン、N−メチル−N −カ
ルボキシフェニルヒドラゾノ−3−メチリデン−9−エ
チルカルバソール、ヒロール−2−カルボン酸等がある
前記電子供与性ポリカルボン酸無水物とは、上記電子供
与性カルボン酸化合物のうち、カルボキシル基を2個以
上有するものの酸無水物であり。
具体的には、3.4.5−)リス(ジメチルアミノ)フ
タル酸無水物、3,4.5−トリメトキシフタル酸無水
物、1,8−ジカルボキシ−2,3゜4−トリメトキシ
ナフタレンの酸無水物等がある。
前記電子供与性カルボン酸化合物及び電子供与性ポリカ
ルボン酸無水物は、これらのうち一種以上が使用され、
その使用量は、前記ブチルエーテル化メラミン・ホルム
アルデヒド樹脂及びポリビニルアセタール樹脂の総量に
対して0.1〜40重量%が好ましく特に1〜20重量
%が好ましい。
この使用量が少なすぎると前記した特長を発揮しがたく
なりやすく、多すぎると保護層の耐湿性が低下する傾向
がある。
本発明における保護層には、さらに、前記電荷発生層及
び電荷輸送層に用いてもよい流動性付与剤、ピンホール
抑制剤等の添加剤を含有させてもよい。
本発明に係る電子写真感光体は、導電層の上に電荷発生
層、電荷輸送層及び保護層を順次積層した構造を有する
この電子感光体において、電荷発生層の厚さは0.00
1〜10 ttmが好ましく、特に0.2〜5μmが好
ましい。電荷発生層が0.001μm未満では電子写真
特性(特に感度)が劣る傾向があり、10μmを越える
と残留電位が増大する傾向がある。
電荷輸送層の厚さは5〜50μmが好ましく、特に8〜
20μmが好ましい。5μm未満では初期電位が低くな
る傾向があり、50μmを越えると感度が低下する傾向
がある。
保護層の厚さは0.01〜10μmが好ましく、特に0
.1〜5μmが好ましい。0.01μm未満では保護層
としての効果が少なく、耐久性が劣りやすくなり、10
μmを越えると感度が劣り、残留電位が増大する傾向に
ある。
電荷発生層を形成する方法として、有機顔料のみを用い
る場合には、真空蒸着で行うこともできるが、有機顔料
並びに場合により結合剤及び添加剤をアセトン、メチル
エチルケトン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレ
ン、塩化メチレン。
トリクロルエタン等の溶剤に均一に溶解又は分散させた
後、塗布し乾燥して形成することもできる。
電荷輸送層を形成する場合には電荷輸送性物質。
結合剤及び場合により添加剤を前記の電荷発生層の場合
と同様な溶剤に均一に溶解した後、塗布し乾燥して形成
することができる。
本発明になる保護層を形成する場合には、前記したブチ
ルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂、ポリビ
ニルアセタール樹脂、電子供与性カルボン酸化合物及び
/又は電子供与性ポリカルボン酸無水物並びに必要に応
じてその他の添加剤等を溶剤に均一に溶解した後、塗布
し加熱硬化して形成することができる。このときの加熱
温度は90〜140Cが好ましい。
もよい。
本発明になる電子写真感光体を用いて複写又は印刷を行
う場合には、従来と同様に表面に負帯電。
露光を施した後、現像を行い、普通紙等の被転写物上に
画像を転写し、定着すればよい。
(実施例) 次に、実施例に基づいて本発明を詳述するが、本発明は
これに限定されるものではない。
火工の例中に用いる各材料を次に列記する。括弧内には
略号を示す。
(1)電荷を発生する有機顔料 τ型無金属フタロシアニン(τ−H2P C)(2) 
 電荷輸送性物質 2−(p−ジメチルアミノ)フェニル−4−(p−ジメ
チルアミノ)フェニル−5−(O−クロロフェニル)−
1,3−オキサゾール(OXZ)(3)  結合剤 (5) 電荷発生層用結合剤 シリコーンフェス:KR−255 〔信越化学工業(株)商品名〕 ■ 電荷輸送層用結合剤 ホリエステル樹脂:ハイロン200 〔東洋紡績(株)商品名〕 (4)保護層用材料 囚 ブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂
(BMF) (BMF−1の合成) 攪拌機、還流冷却器、温度計を装着したフラスコ中にメ
ラミン126g、n−ブタノール444g及び61チ硝
酸水溶液0.2gを入れ、100Cに昇温した後、パラ
ホルムアルデヒド169gを30分間に6回に分けて等
間隔で添加し、その後還流温度で30分間反応させ、水
分を除去し、加熱残分が50%になるように脱溶剤を行
った。得られた樹脂溶液の粘度は、ガードナー(25C
)でBであった。
(BMF−2の合成) BMF−1の合成と同様の装置を用い、メラミン126
g、n−ブタノール444g、61%硝酸水溶液0.2
g及びパラホルムアルデヒド169gを混合して仕込み
、100Cに昇温後、30分間反応させた。その後、還
流脱水を30分行い。
水分を除去すると共に、加熱残分が50チになるように
脱溶剤を行った。得られた樹脂溶液の粘度は、ガードナ
ー(25r)でCであった。
(BML;”−3の合成) BMF’−1の合成と同様の装置を用い、パラホルムア
ルデヒド217.5g、n−ブタノール444g及びメ
ラミン126gを秤り取り、90〜100Cで30分間
付加反応を行った。その後40〜45Cに冷却しフタル
酸0.1gを加え、酸性条件下で還流脱水及び脱溶を行
った。この後、加熱残分が50俤になるよう調整した。
このときの粘度は(ガードナー/25C)Bであった。
BMF−1,BMF−2及びBMF−3のメラミン核1
個当りの結合ホルムアルデヒド数、ブチルエーテル基数
及びメチロール基数並びに数平均分子量を下記の表1に
示す。
但し、結合ホルムアルデヒド数は、仕込み量と亜硫酸ソ
ーダ法による未反応ホルムアルデヒド量の測定により求
め、ブチルエーテル基数はブタノールの仕込み量と内部
標準溶として5ec−ブチルアルコールを使用したガス
クロマトグラフィーによる未反応のブタノールの測定に
より求め、メチロール基は、上記ブチルエーテル基数と
NMRスペクトルから求めた。また、数平均分子量はゲ
ル透過クロマトグラフィーにより標準ポリスチレンの検
量線を利用して行った。     以下余白表1 ブチ
ルエーテル化メラミン樹脂の特性(0ポリビニルアセタ
ール樹脂 0ポリビニルブチラール樹脂(AI):デンカブチラー
ル +3000−1 〔電気化学工業(株)〕 0ポリビニルホルマール!脂(A2):デンカホルマー
ル +20 〔電気化学工業(株)〕 (各樹脂の特性を表2に示す) 0 電子供与性カルボン酸化合物又は電子供与性ポリカ
ルボン酸無水物 o3,4.5−)リメトキシフェニル酢酸o3,4−ビ
ス(ジメチルアミノ)無水フタル酸 0ピロール−2−カルボン酸 比較例1 τ−H2P C2−Og s シリコーンフェス4.0
g及びテトラヒドロフラン94gをボールミル(日本化
学陶業製3寸ポットミル)を用いて8時間混練した。得
られた顔料分散液をアプリケーターによりアルミニウム
板(厚さ0.1 tea )上に塗工し、100Cで1
5分間乾燥して厚さ約1.0μmの電荷発生層を形成し
た。
次にOXZ 5gとバイロン200 15gをテトラヒ
ドロフラン140gに混合し、完全に溶解させた。得ら
れた溶液を前記の電荷発生層上にアプリケーターにより
塗工し、9(lで20分乾燥して15μmの電荷輸送層
を形成した。
比較例2〜3 比較例1と同様な方法で電荷発生層及び電荷輸送層を形
成した上にBMF−3,40g (固形分で20g)及
びインプロパツール60gからなる溶液をアプリケータ
ーにより塗工した。保護層の乾燥条件及び膜厚を表3に
示す。
比較例4〜5 比較例1と同様な方法で電荷発生層及び電荷輸送層を形
成した上にBMF’−1,40g(固形分で20g)及
びインプロパツール60gからなる溶液をアプリケータ
ーにより塗工し、110Cで1時間加熱して厚さ1〜3
μmの保護層を形成した。
比較例6〜7 比較例1と同様な方法で電荷発生層及び電荷輸送層を形
成した上にBMF−1,32g (固形分で16g)、
ポリビニルブチラール樹脂4g及びインプロパツール6
4gからなる溶液をアプリケーターにより塗工した。保
護層の乾燥条件及び膜厚を表3に示す。
実施例1〜8 比較例1と同様な方法で電荷発生層及び電荷輸送層を形
成した上に表3に示す組成比率の保護層溶液(テトラヒ
ドロ7ラン/イソプロパツール=1/1〔重量比〕の混
合溶剤を使用)をアプリケーターにより塗工した。保護
層の乾燥条件及び膜厚を表3に示す。
得られた電子写真感光体の電子写真特性を静電記録紙試
験装置(川口電機製5P−428)を用いて測定した。
この結果を表3に示す。
なお表中の初期電位Vo(V)はダイナミック測定で負
5kVのコロナを10秒間放電したときの帯電電位を示
し、暗減衰(VK)はその後暗所において30秒間放置
したときの電位保持率を示し、Eso及びEysは、1
0 tuxt7)白色光を照射し、電位がそれぞれ50
%、75%低下するに要した光量値(tx−s )を示
す。残留電位VRは10 luxの白色光を30秒間照
射した後の表面電位を示す。
また、摩擦試験機(スガ試験機製)を用いて、電子写真
感光体の表面をガーゼで摺動し、表面の摩耗傷が保護層
を通ってその下の層に達するまでの摺動回数で耐摩耗性
を評価した。尚、比較例1の場合はガーゼの繊維跡が目
視で確認できるまでの摺動回数を測定した。結果を表4
に示す。更に比較例1〜7及び実施例1〜8の電子写真
感光板を画像評価機を用いて連続印字テストを行い1画
質が低下するまでの耐刷寿命を評価した。その結果も表
4に併わせで示す。
以下余白 比較例1は電子写真特性は優れているが保護層が設けら
れていないために耐摩耗性が200回と極めて劣る。ま
た、本発明の範囲外のメラミン樹脂(BMF−3)を保
護層材料に用いた場合(比較例2.3)、硬化温度が低
温(110tll”)では硬化不足のため耐摩耗性向上
の効果はなく(比較例2)、硬化温度を高温(160C
)にし、かつ硬化時間を3時間と長くし、また膜厚を3
μmと厚くした結果、耐摩耗性はやや向上した(比較例
3)。しかし電子写真特性の低下、即ちE5G+E75
1VRの増大が著しく、その結果初期から地肌汚れが発
生し画像評価が不能であった。
また1本発明の範囲内にあるメラミン樹脂を単独で用い
た場合(比較例4.5)、低温硬化が可能となり耐摩耗
性も向上するが、膜厚が1μmでは耐刷寿命も15,0
00枚とまだ低く(比較例4)、膜厚を3μmと厚くす
ると耐摩耗性は向上するが。
E5゜* E75 * ”Rが増加しく電子写真特性が
低下し)、地肌汚れが発生した(比較例5)。
一方、本発明の範囲内にあるブチルエーテル化メラミン
・ホルムアルデヒド樹脂及びポリビニルブチラール樹脂
を併用した場合(比較例6.7)、やはり低温、短時間
で硬化が進み、膜厚が0.5μmと薄くても耐摩耗性は
大幅に向上し耐刷寿命は65,000枚になる(比較例
6)。しかし更に耐摩耗性及び耐刷寿命を上げるために
保護層の膜厚を3μmに厚くすると、高温、長時間乾燥
した比較例3と比較すれば、Eso + E75 t 
Vaの増加は少ないものの画像に地肌汚れが発生し、た
(比較例7)。
しかるに実施例1〜8に示すように本発明になる保護層
を用いると比較例6〜7に比べて更に低温短時間で硬化
し、かつ耐摩耗性も保護層の膜厚が0.5μmの比較例
6と実施例3及び6、また同じく3μmの比較例3,5
.7と実施例1及び5をそれぞれ比較すると、著しく向
上していることがわかる。また、比較例5,7と実施例
1,2゜5及び8を比較するとわかるように、保護層の
膜厚を厚くしても電子写真特性の低下、即ちE50yE
75、及びVRの増加は殆んどなく保護層のない比較例
1に匹敵する良好な電子写真特性を維持していることが
わかった。勿論、実施例の場合、保護層の膜厚を増加し
た分だけ耐摩耗性及び耐刷寿命も増加している。
このように本発明になる実施例1〜8は良好な電子写真
特性を維持しつつ耐摩耗性が著しく向上し、その結果1
00,000枚以上の耐刷寿命を有していることが確認
された。
(発明の効果)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、導電層の上に、電荷を発生する有機顔料を含有する
    電荷発生層、電子供与性電荷輸送性物質を含有する電荷
    輸送層及び保護層を順次積層した電子写真感光体におい
    て、該保護層が、(a)数平均分子量1500以下で、
    メラミン核1個当りに結合ホルムアルデヒド数が2〜4
    個及びメチロール基数が1〜2個であるブチルエーテル
    化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂、(b)ポリビニル
    アセタール樹脂 並びに (c)電子供与性カルボン酸化合物及び/又は電子供与
    性ポリカルボン酸無水物 の硬化皮膜を含有してなる電子写真感光体。
JP29726285A 1985-12-30 1985-12-30 電子写真感光体 Granted JPS62159149A (ja)

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