JPS6216416B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6216416B2
JPS6216416B2 JP1173180A JP1173180A JPS6216416B2 JP S6216416 B2 JPS6216416 B2 JP S6216416B2 JP 1173180 A JP1173180 A JP 1173180A JP 1173180 A JP1173180 A JP 1173180A JP S6216416 B2 JPS6216416 B2 JP S6216416B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
engraving
black
cutting
white
original image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1173180A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS56109352A (en
Inventor
Masaaki Seshimo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SEJIMO CHOKOKUSHO JUGEN
Original Assignee
SEJIMO CHOKOKUSHO JUGEN
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SEJIMO CHOKOKUSHO JUGEN filed Critical SEJIMO CHOKOKUSHO JUGEN
Priority to JP1173180A priority Critical patent/JPS56109352A/ja
Publication of JPS56109352A publication Critical patent/JPS56109352A/ja
Publication of JPS6216416B2 publication Critical patent/JPS6216416B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光電式倣い彫刻機を使用して彫刻画を
製作する際使用する彫刻用原画に係る。
従来賞状、感謝状、家紋、写真等を彫刻板に、
好ましくは金属板に倣い彫刻機を使用して彫刻す
るには、通常はポジの原画を該彫刻機の走査シリ
ンダに取付け、彫刻板をボードシリンダに取付け
て倣い彫刻を行わせて製作する。この際、ポジの
原画の白と黒の濃淡に応じてボードシリンダに対
設したカツタヘツドのバイトに切込み深さを与え
るように製御することにより対応する彫刻画を製
作する。この従来の方法では、白の連続した広い
部分ではバイトは深く送り込まれた状態で連続切
削を行うので、例えば一様な白の部分に対応する
彫刻画の部分は、倣い彫刻機のシリンダの回転と
カツタヘツドの横送りにより、スパイラル状に一
定切込みの切削線の平行線によつて形成される。
従つて全体としては云はゞ平行に並んだ長い切削
線の集合の彫刻画が得られる。
かゝる彫刻画は比較的単純な美術効果を与える
のみならず、連続切削のために、通常よく使用さ
れる金属板においてはバイトの摩耗は大きく、短
時間で彫刻不能となる場合も多く、長時間に亘る
切削は不可能であつた。また切削くずが長く連続
してバイトにからまり、切削を妨害した。さらに
原画のハーフトーンの部分のコントラストを忠実
に彫刻画に再現することが不可能等種々の不具合
があつた。
かゝる欠陥を除去した、而も簡易な彫刻方法と
して、本出願人はこの出願と同日付で新規な彫刻
方法を出願しているが、それでは白黒のポジの原
画を用いまたは透明なポジ原画に、白紙を下に重
畳して用い、それらに更に一様に班点を分布させ
た透明フイルムをその上に重畳してこれを彫刻用
原画として使用して倣い彫刻を行つて彫刻画を製
作する方法が提案されている。
本発明は上記発明の原理に基づくものであつ
て、上記発明と同様の効果を有する彫刻用原画を
提供せんとするものである。
本発明に係る彫刻用原画は、原画のネガを引伸
して製作する彫刻用原画に例えば黒又は白の班点
を一様に分布させたことを特徴とする。
例えば、距離0.5mmに直径0.2mmφの班点を彫刻
用原画に一様に分布せしむるには、もとの原画の
ネガを引伸しを行つて彫刻用原画を焼付ける際、
その上に上記班点をもつた透明フイルムを重量し
て行えば容易にできる。
かくして出来た彫刻用原画を彫刻機に取付け、
従来通りの方法で倣い彫刻を行えば、原画の黒い
部分に設けた白い班点のため、それに対応する彫
刻画の部分は対応して点々と切削を行うので、全
体としてコントラストの軟らかな彫刻画を得る。
またこの際にも、中間濃淡の部分においても、班
点に対応する点の信号によつて、不連続切削を行
い、バイトの慣性による効果によつて再現性の忠
実な濃淡を彫刻しえて、ハーフトーンを効果的に
再現し得る。
本発明によれば最初に班点を一様に分布させた
透明フイルムたつた1枚を用いて容易に多数の彫
刻用原画を製作し準備することが出来、またそれ
を用いた倣い彫刻作業も複数個同時にかつ容易に
行いうるという効果を有するものである。
そのほか、不連続切削によるバイト摩耗減少、
切削くずのからまりつきの防止等、同様な効果を
有するものであることは云うまでもない。
本発明を実施例につき図面を参照しながら詳細
に説明しよう。
第1図は、本発明に係る彫刻用原画の説明用拡
大図であつて、A,B,Cはそれぞれ黒い部分、
Cは白い部分、Bは中間の黒さの部分を示し、全
体にわたつて、白い班点が一様に分布されてい
る。Cの部分は、白い班点は実際には見えない
が、その輪郭を点線で示す。
第2図は、第1図に示す原画を用いて作製した
彫刻画の拡大平面図を示し、A′,B′,C′はそれ
ぞれ第1図のA,B,Cに対応する。彫刻即ち切
削の方向を上部の矢印で示す。図で明らかなよう
に、A′はAに示す白の班点に対応する位置に切
削による伸びた楕円形或いはむしろ菱形の地肌色
の切削痕が彫刻板の黒色皮膜を切削して不連続的
に形成されるが、全体として黒い部分である。
B′はBに示す白い班点に対応する位置にA′にお
けると同様の不連続切削痕が彫刻板の黒色皮膜を
切削して形成されるとともに、これらの切削痕の
間を中間の黒に対応する深さの切削条痕が連結す
ることが示される。全体として見れば中間の黒の
部分である。次にC′はCに示す、白い班点のみ
ならず残りの部分も白い部分に対応するので、白
に対応する深さの切削条痕が平行に形成され、相
互に連続して全体として地肌色の部分となる。
かように本発明に係る原画の一様に分布した白
い班点により、黒色皮膜を設けた彫刻板に、原画
の黒白ならびにその中間の黒に対応した、彫刻画
が得られる。
第3図は第2図のYY線に沿つた拡大断面図で
あつて、原画において黒及び中間の黒であつた部
分に対応するA′,B′においては、表面に依然と
して黒色皮膜を部分的にのこすが、原画において
白であつた部分に対応するC′においては、黒色
皮膜は完全に削り取られていることがよく判る。
第4図、第5図及び第6図はそれぞれA′,
B′,C′のX1X1,X2X2,X3X3線に沿つた拡大断面
図である。
なお班点は通常は白とするが、これは一般に原
画は白ばかりと云うのはまづ見当らないからであ
つて、それに近い場合には黒い班点を一様に分布
させてもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る彫刻用原画の説明用拡大
図、第2図は第1図示の原画を使用した彫刻画の
拡大平面図、第3図は第2図のYY線に沿つた拡
大断面図、第4図、第5図、第6図はそれぞれ第
2図におけるX1X1,X2X2,X3X3線に沿つた拡大
断面図である。 Aは原画の黒い部分、Bは原画の中間の黒の部
分、Cは原画の白い部分、A′はAに対応する彫
刻画の部分、B′はBに対応する彫刻画の部分、
C′はCに対応する彫刻画の部分である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 光電式倣い彫刻機に使用する彫刻用原画であ
    つて、もとの原画のネガから製作する彫刻用原画
    上に一様に班点を分布させて成る彫刻用原画。
JP1173180A 1980-02-01 1980-02-01 Original negative for engraving Granted JPS56109352A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1173180A JPS56109352A (en) 1980-02-01 1980-02-01 Original negative for engraving

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1173180A JPS56109352A (en) 1980-02-01 1980-02-01 Original negative for engraving

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS56109352A JPS56109352A (en) 1981-08-29
JPS6216416B2 true JPS6216416B2 (ja) 1987-04-13

Family

ID=11786169

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1173180A Granted JPS56109352A (en) 1980-02-01 1980-02-01 Original negative for engraving

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JP (1) JPS56109352A (ja)

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JPS56109352A (en) 1981-08-29

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