JPS62167740A - ４−ヒドロキシ−４−メチルシクロヘキサ−２，５−ジエン−１−オンの製造法 - Google Patents
４−ヒドロキシ−４−メチルシクロヘキサ−２，５−ジエン−１−オンの製造法Info
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- JPS62167740A JPS62167740A JP887986A JP887986A JPS62167740A JP S62167740 A JPS62167740 A JP S62167740A JP 887986 A JP887986 A JP 887986A JP 887986 A JP887986 A JP 887986A JP S62167740 A JPS62167740 A JP S62167740A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、４−ヒドロキシ−４−メチルシクロヘキサ−
２，５−ジエン−１−オンの新規な製造法に関するもの
であり、さらに詳しくは、ｐ−クレゾールを次亜ハロゲ
ン除塩で酸化して、４−ヒドロキシ−４−メチルシクロ
ヘキサ−２，５−ジエン−１−オンを得る方法に関する
。
２，５−ジエン−１−オンの新規な製造法に関するもの
であり、さらに詳しくは、ｐ−クレゾールを次亜ハロゲ
ン除塩で酸化して、４−ヒドロキシ−４−メチルシクロ
ヘキサ−２，５−ジエン−１−オンを得る方法に関する
。
４−ヒドロキシ−４−メチルシクロヘキサ−２，５−ジ
エン−１−オン（以下ＨＭＣＤと略記する）は、（１）
の構造式を持った化合物である。
エン−１−オン（以下ＨＭＣＤと略記する）は、（１）
の構造式を持った化合物である。
ＨＭＣＤは、希硫酸存在下で処理することによって、２
−メチル−１，４−ハイドロキノン（２１Ｋ変換するこ
とができる、このものは、高機能エンジニアリングプラ
スチックの１種である全芳香族ポリエステル樹脂の原料
として極めて有用な化合物である。
−メチル−１，４−ハイドロキノン（２１Ｋ変換するこ
とができる、このものは、高機能エンジニアリングプラ
スチックの１種である全芳香族ポリエステル樹脂の原料
として極めて有用な化合物である。
従来、ＨＭＣＤを合成する方法として幾つかの方法が知
られている。
られている。
（１）ｐ−クレゾールを過塩素酸タリウム（ｌｉｔ）で
酸化する方法（５ｙｎ−＋ｈｅｓｉｓ １９７７（１
）、（２）４−メチルヒドロキシルアミンを希硫酸で酸
化する方法、（“実験化学横座“有機化合物の合成（１
）上巻、２０１頁、丸首（３）４−メチルフェニルアジ
ドを希硫酸で酸化する方法、（同上） 併し、これら既知の方法は、工業的規模での実施には、
原料の調達、反応の遂行に難点があり必ずしも望ましい
方法ではなかった。斯かるとき、本発明者は、新規な着
想をもってＨＭＣＤを提供する方法の完成に取組みここ
に本発明に到達した。
酸化する方法（５ｙｎ−＋ｈｅｓｉｓ １９７７（１
）、（２）４−メチルヒドロキシルアミンを希硫酸で酸
化する方法、（“実験化学横座“有機化合物の合成（１
）上巻、２０１頁、丸首（３）４−メチルフェニルアジ
ドを希硫酸で酸化する方法、（同上） 併し、これら既知の方法は、工業的規模での実施には、
原料の調達、反応の遂行に難点があり必ずしも望ましい
方法ではなかった。斯かるとき、本発明者は、新規な着
想をもってＨＭＣＤを提供する方法の完成に取組みここ
に本発明に到達した。
本発明はｐ−クレゾールと次亜ハロゲン酸塩を反応させ
ることを特徴とする４−ヒドロキシ−４−メチルシクロ
ヘキサ−２，５−ジエン−１−オンの製造法である。
ることを特徴とする４−ヒドロキシ−４−メチルシクロ
ヘキサ−２，５−ジエン−１−オンの製造法である。
本発明の方法を行なう一般的な操作法はｐ−クレゾール
を適当な溶媒に溶解した液と次亜ハロゲン酸塩の溶液又
はスラリー液を適当な時間接触混合させるだけで目的を
達成することができる。
を適当な溶媒に溶解した液と次亜ハロゲン酸塩の溶液又
はスラリー液を適当な時間接触混合させるだけで目的を
達成することができる。
本発明においては、一般的には次亜ハロゲン酸塩の水溶
液を用いるのが適当であるが、水に溶解しない塩の場合
には懸濁した形で用いることができる。又、かならずし
も水溶液である必要はなく有機溶媒に懸濁した状態で用
いろこともできる。
液を用いるのが適当であるが、水に溶解しない塩の場合
には懸濁した形で用いることができる。又、かならずし
も水溶液である必要はなく有機溶媒に懸濁した状態で用
いろこともできる。
次亜ハロゲン酸塩としては次のような化合物を用いるこ
とができる。次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウ
ム、次亜塩素酸マグネシウム、次亜塩素酸バリウム、次
亜臭素酸ナトリウム、次亜臭素酸カリウム、次亜臭素酸
カルシウムなどが適当である。
とができる。次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウ
ム、次亜塩素酸マグネシウム、次亜塩素酸バリウム、次
亜臭素酸ナトリウム、次亜臭素酸カリウム、次亜臭素酸
カルシウムなどが適当である。
次に次亜ハロゲン酸塩の濃度は０，０１〜５０チ好まし
くは０．５〜１０チである。次亜ハロゲン酸塩はｐ−ク
レゾールに対して１〜３倍モル程度用いるのが好適であ
る。ｐ−クレゾールを溶解する有機溶媒としてはｐ−ク
レゾールを溶解する能力のある化合物であればどの様な
ものでも使用できるが、水とある程度の親和性を持って
いるような化合物が好ましく具体的にはアセトニトリル
、酢酸エチル、プロピオン酸エチル、メタノール、エタ
ノール、エチルエーテル、アセトン、ベンゼン、塩化メ
チンる二硫化炭素等である、これらのゲん 中でも経済性本４率等からみるとカルボン酸エステルが
好ましい。溶媒量はｐ−クレゾールに対して０．１〜５
０倍重量、好ましくは５〜２０倍である。反応温度は通
常−５０〜１５０℃で好ましくは０〜５０℃である。
くは０．５〜１０チである。次亜ハロゲン酸塩はｐ−ク
レゾールに対して１〜３倍モル程度用いるのが好適であ
る。ｐ−クレゾールを溶解する有機溶媒としてはｐ−ク
レゾールを溶解する能力のある化合物であればどの様な
ものでも使用できるが、水とある程度の親和性を持って
いるような化合物が好ましく具体的にはアセトニトリル
、酢酸エチル、プロピオン酸エチル、メタノール、エタ
ノール、エチルエーテル、アセトン、ベンゼン、塩化メ
チンる二硫化炭素等である、これらのゲん 中でも経済性本４率等からみるとカルボン酸エステルが
好ましい。溶媒量はｐ−クレゾールに対して０．１〜５
０倍重量、好ましくは５〜２０倍である。反応温度は通
常−５０〜１５０℃で好ましくは０〜５０℃である。
反応液からの生成物の回収は、反応終了後反応液を有機
層と水層に分液し、水層はさらに有機溶媒（例えば酢酸
エチル）で抽出し、有機層と合わせ、溶媒の溜去を行い
得られた反応生成物をアセトン等の有機溶媒に溶解Ｉ２
、更にエチルエーテル又はｎ−ヘキサンで再結晶を行な
いＨＭＣＤを得ることができる。 “次に実施例を
あげて説明するが本発明は実施例に限定されるものでは
ない。
層と水層に分液し、水層はさらに有機溶媒（例えば酢酸
エチル）で抽出し、有機層と合わせ、溶媒の溜去を行い
得られた反応生成物をアセトン等の有機溶媒に溶解Ｉ２
、更にエチルエーテル又はｎ−ヘキサンで再結晶を行な
いＨＭＣＤを得ることができる。 “次に実施例を
あげて説明するが本発明は実施例に限定されるものでは
ない。
実施例１
ｐ−クレゾール５．４！ｉを酢酸エチル５４献に溶解し
た液と水５４属を混合し攪拌しながら６チ次亜塩素酸ナ
トリウムの水溶液１８６罰を１８０分かけて滴下し、滴
下終了後６ｏ分攪拌した。反応終了後有機層と水層を分
離し、次いで有機層を無水硫酸ナトリウムでの乾燥、沢
過し溶媒留去後、エチルエーテル、ｎ−ヘキサンで再結
晶を行ない得られた結晶を分析し２．４ｇのＨＭＣＤの
生成を確認した。
た液と水５４属を混合し攪拌しながら６チ次亜塩素酸ナ
トリウムの水溶液１８６罰を１８０分かけて滴下し、滴
下終了後６ｏ分攪拌した。反応終了後有機層と水層を分
離し、次いで有機層を無水硫酸ナトリウムでの乾燥、沢
過し溶媒留去後、エチルエーテル、ｎ−ヘキサンで再結
晶を行ない得られた結晶を分析し２．４ｇのＨＭＣＤの
生成を確認した。
実施例２
ｐ−クレゾール５．４．９１酢酸ｎ−プロピル５４疵、
水５４ｍ１の混合溶液を攪拌下３％次亜塩素酸ナトリウ
ムの水溶−Ｑ１８６ｄを１８０分か＋滴下し、滴下終了
後３０分攪拌した。反応終了後実施例１と同じ方法で処
理し２．０．９のＨＭＣＤの生成を確認した。
水５４ｍ１の混合溶液を攪拌下３％次亜塩素酸ナトリウ
ムの水溶−Ｑ１８６ｄを１８０分か＋滴下し、滴下終了
後３０分攪拌した。反応終了後実施例１と同じ方法で処
理し２．０．９のＨＭＣＤの生成を確認した。
処施例６
ｐ−クレゾール５．４１１、酸ｆｆｌエテル５４ ｍｌ
、水５４駐の混合溶液を攪拌下１％次亜塩素酸ナトリウ
ムの水浴液５５８ｍｂを１８０分かけ滴下し、部下終了
後３０分攪拌した、反応終了後実施例１と同じ方法で処
理し２．３９のＨＭＣＤの生成を確認した。
、水５４駐の混合溶液を攪拌下１％次亜塩素酸ナトリウ
ムの水浴液５５８ｍｂを１８０分かけ滴下し、部下終了
後３０分攪拌した、反応終了後実施例１と同じ方法で処
理し２．３９のＨＭＣＤの生成を確認した。
Claims (1)
- ｐ−クレゾールと次亜ハロゲン酸塩を反応させることを
特徴とする４−ヒドロキシ−４−メチルシクロヘキサ−
２，５−ジエン−１−オンの製造法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP887986A JPS62167740A (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | ４−ヒドロキシ−４−メチルシクロヘキサ−２，５−ジエン−１−オンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP887986A JPS62167740A (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | ４−ヒドロキシ−４−メチルシクロヘキサ−２，５−ジエン−１−オンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62167740A true JPS62167740A (ja) | 1987-07-24 |
Family
ID=11704957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP887986A Pending JPS62167740A (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | ４−ヒドロキシ−４−メチルシクロヘキサ−２，５−ジエン−１−オンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62167740A (ja) |
-
1986
- 1986-01-21 JP JP887986A patent/JPS62167740A/ja active Pending
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