JPS58178000A - ケトコラン酸又はそのエステル類の製造方法 - Google Patents

ケトコラン酸又はそのエステル類の製造方法

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JPS58178000A
JPS58178000A JP5826582A JP5826582A JPS58178000A JP S58178000 A JPS58178000 A JP S58178000A JP 5826582 A JP5826582 A JP 5826582A JP 5826582 A JP5826582 A JP 5826582A JP S58178000 A JPS58178000 A JP S58178000A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は1又は2以上の水酸基を有するフラン1波又は
そのエステル類を次亜塩素酸アルカリ又はアルカリ土類
金属塩を用いてその水酸基を部分的又は全て酸化して各
浬ケトコラン酸又はそのエステル類を製造する方法に関
する。
本発明の方法は水酸基を有するコシン1浚又はそのエス
テル類、例えは、コールre (胆汁酸、3α、7α、
12α−トリヒドロキノコラン醒)やその少くとも1つ
の水酸基を除いた各攬エステル類の水酸基を選択的酸化
又は全酸化して各種ケトコラン酸又はケトコラン酸のエ
ステル類の製造等に利用されるが、これらの化合物は近
年胆石溶解剤等の医薬品として注目されているケノデオ
キシコール酸(3α、7α−ジヒドロキシコラン酸)や
ウルソデオキシコール酸(3α、7β−ジヒドロキシコ
ラン酸)の合成過程に於ける中間体等として有用な物質
である。
従来、1又は2以上の水酸基を有するフラン酸又はその
エステル類の1部の水酸基の選択的酸化又は全ての水酸
基の全酸化の方法としては、酢酸溶媒中でクロム酸や重
クロム酸カリ等を用いる方法(ジャーナル・オフ゛・ジ
・アメリカン・ケミカル・ソサエティー第72巻、55
30頁、1950年等)が知られているが、この方法で
は排水中に有害なりロムが多量に混入し、その処理に多
大の費用を要すること及び目的生成物中にもクロムが付
層混入するため、その除去精製にも繁雑な労力を要する
等の難点があった。
斯る難点を克服するための方法として特公昭45−20
493号、同50−12434号、同52−33638
号公報では酸化剤として次亜塩素酸ソーダの水溶液を用
いる方法が提案されている。
しかし、これらの公知の方法では、歌化反応の選択性が
低かったり、反応液中に原料化合物が溶解しないため反
応操作上の難点があったり、工業的な製造法として必ず
しも適当な方法とは言い難い。
例えば、特公昭52−33638号公報では・酢酸やプ
ロピオン酸等の低級脂肪酸又はこれとメタノール、エタ
ノール等の低級アルコールとの混合物を溶媒とし、これ
に原料コール酸エステル類を溶解して次亜塩素酸ソーダ
のアルカリ水溶液を用いてその水酸基を部分酸化又は全
酸化して目的とするケトコラン酸エステル類を選択率良
く製造する方法が提案されているが、しかし本発明者ら
の実験によれば上記原料溶液に次亜塩素酸ソーダのアル
カリ水f6dを添加した時点で原料化合物が反応、液中
に析出するため、その後の反応はスラリー状態にて進行
し反応液の均一な攪拌が困難となる。
ばならないが、酢酸やプロピオン酸のような酸を多量に
用いることは反応液のPHを下げることになり、それが
次亜塩素酸ソーダの分解を促進するため反応上不都合で
あると共に前記溶媒は本来全て水溶性のものであるため
溶媒と水の分離が困難であり、回収するにしても廃棄す
るにしても多大な経済的な負担は免れない。
本発明者らは、これら公知の方法の欠点を解決し、高純
度の目的物を選択率良く合成し、しかも反応を経済的有
利に実施しべく稲々検討をした結果、本発明の方法を完
成するに至った。
即ち、本発明は、1又は2以上の水酸基を有するフラン
酸又はその工、ステル類を疎水性有機溶媒中にて次亜塩
素酸アルカリ又はアルカリ土類金属塩の水溶液を用いて
、分子中の水酸基の少くとも1つを酸化してケトコラン
酸又はそのエステル類を製造する方法を提供せんとする
ものである。
以下、本発明の方法について更に具体的に説明する。
本発明の方法に於いて使用すべき疎水性有機溶媒は実質
的に水と混和せず、原料物質や生成物と反応したり分解
したりしないものであって、原料のヒドロキシコラン酸
(又はエステル)類及び目的生成物のケトコラン酸(又
はエステル)類を比較的良く溶解するものであれば特に
制限はない。
ここで、実質的に水と混和しないとの意味は溶媒と水の
相互の溶解度が全く無いものに限られるものではなく、
溶媒と水の2成分系では互いに可成りの溶解度があるも
のでも、反応条件下にて原料等を溶解した状態で有機層
と水層の実質的に2相に分離し得るものであれば使用す
ることができるものである。かかる溶媒としては、例え
ば、脂肪族、脂環族、芳香族の炭化水素、ハロゲン化炭
化水素、エーテル、ケトン、エステル等、更に具体的に
は例えば、n−ぺフラン、n−ヘキサン、n−へブタン
、ンクロヘキサン、べ/ゼ/、トルエ/、キシレン、エ
チルベンゼ/、クロルベンゼン、ジクロルベンゼン、ブ
ロムベンゼン、ジクロルメタ/、クロロホルム、四塩化
炭素、ジクロルエタン、トリクロルエタン、クロルベン
ゼン、ジクロルベンゼン、フロムベンゼン、イノプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトンの中から適当な
ものが選ばれる。これら溶媒は単独でも混合物でもいず
れでも用いることができる。反応はこれらの有機溶媒中
に原料のヒドロキシコラン酸(水溶液を添加して、好ま
しくは充分な攪拌下に行われる。
反応条件については必ずしも厳密な制限はないが、反応
温度はθ〜30℃程度で行うことが好筐しく、また、反
応液のP Hは高過ぎると反応が非常に遅くなるため、
好ましくはP H10以下とすることが望ましい。次亜
塩素酸アルカリ金属塩は通常次亜塩素酸ソーダ、又は次
亜塩素酸カリが用いられ、これらは、次亜塩素酸ソーダ
(又はカリ)の他に苛性ソーダ(又はカリ)や炭酸ソー
ダ(又はカリ)等を含むアルカリ水溶液として用いられ
る。又次亜塩素酸アルカリ土類金属塩は通常さらし粉が
用いられる。その使用量は酸化すべき゛コラン酸(又は
エステル)の水改基1モル当り有効塩素として10〜1
5モル、好ましくは11〜1゜3モル程度が適当である
。同、使用する次亜塩素酸fルカリ又はアルカリ土類金
属塩水浴液のアルカリ度及び量によって反応液のP H
が上述した如きlOを越えてしまう場合には、P l−
1調整のため反応液中に適当な酸を加えることが望まし
い。この場合に使用すべき酸としては強酸よりは弱酸の
方が好ましいが、反応液中に5r浴性であること、反応
条件下に安定で原料及び目的物と反応したり分解したり
しないものであれば良い。具体的には、例えば、酢酸、
/ユウ酸、クエン酸、ホウ酸、す/酸等が挙げられる。
P tlの下限については厳密な制限はないが4以上と
することが好ましく、この範囲内で適宜酸の量を加減す
ることが適当である。
1^j、本発明の反応は無触媒でも充分進行し、所期の
目的を達成することができるが、これに加えホスホニウ
ム塩または大環状エーテル(クラウンエーテル)の少く
ともl mを用いることは反応速度の向上に効果的であ
り、特に、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド
、トリブチルベンジルアンモニウムクロライド、トリエ
チルベンジルアンモニウムクロライド、N−ベンジルピ
コリニウムクロライド、18−クラウン−6等は良好で
ある。尚、これら触媒は反応液のP Hがアルカリ性側
にて効果的であり、従って、触媒を用いる場合には反応
液のPHは8〜10、好ましくは9前後に調整すること
が望ましい。触媒の使用量については特に制限はないが
、通常は原料化合物1部(重量部)に対してo、 o 
o i〜0.2部、好ましくは0.01〜0.1部程度
が適当である。
反応時間は反応に供すべき原料や溶媒の種類、反応流度
、PH,触媒の有無、種類及びその量等により最適範囲
は異なるが、通常の条件下ではlO分〜2時間程度にて
行われる。
かくの如き本発明の方法によれば、分子中にl水酸基の
酸化によるそれぞれ対応するケトコラ/酸やそれらのエ
ステル類の製造に於いて、目的とする化合物を高純度且
高選択率にて経済的有利に取得することができる。これ
ら応用例の代表的な例をいくつか示せば、例えば・次の
ようなものが挙げられる。
:+−ル酸から、3α、12α−ジヒドロオキシ=7−
ケドコラン酸、3α−ヒドロオキシ−7゜12−ジケト
コラン酸又は、テヒドロコール酸、コール酸メチルから
、3α# 12αニジヒドロオキ7−7−ケトコラン酸
メチル、3α−ヒドロオキ7−7.12−ジケトコラン
酸メチル又はテヒドロコール酸メチル、ケノデオキシコ
ール酸から3α−ヒドロオキ/−7−ケトコラ/酸、又
は3゜7−ジケトコラン酸、ケノデオキシコール酸メチ
ルから3α−ヒドロオキシ−7−ケトコラン酸メチル、
又は3.7−ジケトコラン酸メチル、3α−アセトオキ
/−7α・12α−ジヒドロオキ/フラン酸メチルから
3α−アセトオキシ−7−ケドー12α−ヒドロオキシ
コラン酸メチル又は3α−アセトオキシ7.12−ジケ
トコラン酸メチル、3α−プロピオニルオキシ−7α、
12α−ジヒドロオキシコラン酸メチルから3α−プロ
ピオニルオキシ−7−ケト−12α−ヒドロオキシコラ
ン酸メチル、又は3α−プロピオニルオキンー7.12
−ジケトコラン酸メチル、3α、7α−ジアセトオキシ
−12α−ジヒドロオキシコラン酸メチルから3α、7
α−ジアセトオキシ−12−ケトコラン酸メチル、3α
、7α−ジブ−ピオニルオキシ−12α−ジヒドロオキ
シコラン酸メチルから3α、7α−ジプロピオニルオキ
シー12−ケトコラン酸メチル等。
以下、本発明の方法について代表的な例を示し、更に具
体的に説明するが、これらは単なる例示であシ、本発明
はこれらのみに限定されないことは1うまでもない。
実施例1 3α、7α−ジアセトオキシ−12α−ヒドロオキ/フ
ラノ酸メチル10Fをジクロルメタン3omlK溶解さ
せる。酢酸1.59と水iorを加え次III已塩素酸
ソーダ(有効塩素濃度12.6%)13゜32を10〜
15℃で攪拌下に15分間で滴下する。滴下終了後、同
温度でさらに1時間攪拌する。
ついで有機層を5%炭酸水素ナトリウム水溶液とlO%
塩化ナトリウム水溶液で洗滌し有機層を乾燥後、溶媒を
減圧下留去して3α、7α−ジアセトオキ/−12−ケ
トコラン酸メチル、融点180〜2℃、9.9 f/ 
(収率99%)を得た。
実施例2 3α、7α−ジアセトオキシ−12α−ヒドロオキ/コ
ラン酸メチル102をベンゼン100rneに溶解させ
る。50%ベンジルトリブチルアンモニウムクロライド
1. Ofを加え、別に10%リン酸水浴液でP 11
8に調製された次也塩素酸ソーダ水浴液(有効塩素濃度
94%) 17.8 fを10〜13℃で撹拌下に15
分間で滴下する。滴下終了後、同棉度でさらに1時間攪
拌する。ついで、有機ノーを5チ炭酸水素ナトリウム水
浴液とlθ%塩化す) IJウム水溶液で洗滌し有機層
を乾燥後、溶媒を減圧下留去して3α、7α−ジアセト
オキシ−12−ケトコラン酸メチル、融点180〜2℃
9、9 ? (収率99チ)を得た。
実施例3 コール酸メチル1tをジクロルメタン4rnlに溶解さ
せる。10%酢酸水溶液6fを加え、次亜塩素酸ソーダ
(有効塩素濃度12.6チ) 4.81を10〜15℃
で攪拌下栓々に滴下する。滴下終了後同温度でさらに1
時間攪拌し、有機層を5チ炭酸水素ナトリウム水溶液と
10%塩化ナトリウム水溶液で洗滌し、さらに乾燥後減
圧下溶媒を留去しテヒドロコール酸メチル、融点240
〜2℃、0962(収率97%)を得た。
実施例4 コール酸メチル17をジクロルメタン4−に溶解させる
。10チ酢酸水溶液4vを加え、次亜塩素酸ソーダ(有
効塩素126チ)32vを0〜5℃で攪拌下栓々に滴下
する。滴下終了後同温度でさらに1時間攪拌し、有機層
を5チ炭酸水素ナトリウム水溶液と10%塩化ナトリウ
ム水溶液で洗滌し、さらに乾燥後減圧下溶媒を留去し3
α−ヒドロオキ7−7.12−ジケトコラン酸メチル、
融点147〜9℃、0.9 e ? (収率97%)を
得た。
実施例5 3α−アセトオキンー7α、12α−ジヒドロオキ/コ
ラン酸メチル17をベンゼンxorn1.に溶解させる
。10%酢酸水浴液でPH8に調整された次亜塩素酸ソ
ーダ水溶液(有効塩素濃度9.6チ) 1.57を0〜
5℃で攪拌下栓々に滴下する。滴下終了後、同温度でさ
らに1時間攪拌する。有機層を5%炭酸水素す) IJ
ウム水溶液と10%塩化ナトリウム水溶液で洗滌し、有
機層を乾燥後減圧F溶媒を留去して、3α−アセトオキ
シ−7〜ケト−12α−ヒドロオキ/コラン酸メチル、
融点154〜6℃、0.97 y (収率97%)を侍
た。
実施例6 ケノデオキ/コール酸2fをテトラヒドロ7う/lO−
に溶解させる。10%酢酸水溶液3fを加え、次亜塩素
酸ソーダ(有効塩素12.6 % )341を0〜5℃
で攪拌下、徐々に滴下する。滴下終了後、同温度でさら
に1時間攪拌する。反応液は静置すると有機層と水層の
二層に分離する。
有機層を飽和食塩水で洗滌し、さらに乾燥後、減圧下溶
媒を留去し3α−ヒドロオキシ−7−ケトコラン酸、融
点198.7201℃、1. s s f (収率93
%)を得た。
特許出願人 昭和電工株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)1又は2以上の水酸基を有するコラン酸又はで−の
    エステル類を疎水性有機浴媒中にて次龍塩素酸アルカリ
    又はアルカリ土類金属塩の水溶rLを用いて、分子中の
    水酸基の少くとも一つを酸化してス11心するケトコラ
    ン酸又はそのエステル類を製造する方法。
JP5826582A 1982-04-09 1982-04-09 ケトコラン酸又はそのエステル類の製造方法 Granted JPS58178000A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8733184B2 (en) 2010-03-10 2014-05-27 Nhk Spring Co., Ltd. Position testing apparatus
US8740506B2 (en) 2010-03-10 2014-06-03 Nhk Spring Co., Ltd. Positioning apparatus

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8733184B2 (en) 2010-03-10 2014-05-27 Nhk Spring Co., Ltd. Position testing apparatus
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