JPH0471079B2 - - Google Patents

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JPH0471079B2
JPH0471079B2 JP57175327A JP17532782A JPH0471079B2 JP H0471079 B2 JPH0471079 B2 JP H0471079B2 JP 57175327 A JP57175327 A JP 57175327A JP 17532782 A JP17532782 A JP 17532782A JP H0471079 B2 JPH0471079 B2 JP H0471079B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ruthenium
compound
hypochlorite
general formula
glucofuranose
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP57175327A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5967296A (ja
Inventor
Takashi Ebisu
Yoshiaki Tateno
Naoki Okamoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Towa Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Towa Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Towa Chemical Industry Co Ltd filed Critical Towa Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP57175327A priority Critical patent/JPS5967296A/ja
Publication of JPS5967296A publication Critical patent/JPS5967296A/ja
Publication of JPH0471079B2 publication Critical patent/JPH0471079B2/ja
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Saccharide Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はグルコフラノース誘導体酸化物の製造
方法に関する。 一般式〔〕で示される化合物は一般式〔〕
で示される化合物を酸化することによつて得られ
る物質で、(a)で示すケトン体と(b)で示す水和物の
両者の形を取り得る。(b)を加熱脱水すると(a)とな
る。
【式】又は 一般式〔〕の化合物は下記に示すようにX線
造影剤として用いられる3−デオキシ−3−ヨー
ド−D−グルコース〔〕の合成中間体として、
又3−デオキシ−3−アミノ−D−グルコース
〔′〕の合成中間体として有用な物質である。 一般式〔〕の化合物は公知の方法によりD−
グルコースをチタール化することにより容易に得
られる物質であるが、この〔〕の物質の酸化方
法として次の方法が知られている。 (1) 無水クロム酸−ピリジン錯体を用いる方法
〔Carbohydr.Res.、26 441−7(1973)〕 (2) DMSO−無水酢酸を用いる方法〔Can.J.
Chem.、44 836(1966)〕 (3) DMSO−五酸化リンを用いる方法〔J.Am.
Chem.Soc.、87 4651(1965)〕 (4) 四酸化ルテニウムによる方法〔Proc.Chem.
Soc.、342(1964)〕 (5) 二酸化ルテニウム−過ヨー素酸による方法
〔Can.J.Chem.、43 3452(1965)〕 (1)の方法はクロムの処理が必要なこと、(2)、(3)
の方法は収率が低く、悪臭を発すること、(4)、(5)
の方法は収率は高いが試薬が極めて高いこと等の
ため工業的生産に適していない。 本発明者等は工業的生産に適した酸化方法を種
種検討したところ、二酸化ルテニウム−次亜塩素
酸塩による方法が工業的生産に適していることを
見い出した。本発明の反応機構を示すと次の通り
である。 即ち次亜塩素酸塩が二酸化ルテニウムを酸化し
て四酸化ルテニウムとし、四酸化ルテニウムが一
般式〔〕の化合物を酸化すると同時に二酸化ル
テニウムとなる。この反応系により高価な二酸化
ルテニウムの使用を節減することができる。 本発明に使用する一般式〔〕の化合物のR1
R2はメチル、エチル又はプロピル等の低級アル
キル基であるが、特にメチル又はエチル基が取扱
上好ましい。酸化剤として次亜塩素酸ナトリウ
ム、次亜塩素酸カルシウム等の次亜塩素酸塩と二
酸化ルテニウムを用いるが塩化ルテニウムや硝酸
ルテニウム等のルテニウム塩も次亜塩酸塩により
酸化され二酸化ルテニウムとなるので使用するこ
とができる。 次に酸化方法について述べると、一般式〔〕
の化合物とルテニウム化合物を水に混合させ、撹
拌下で次亜塩素酸塩水溶液を滴下しつつ酸又はア
ルカリでPHを2〜8を好ましくは3〜5に調節す
る。反応終了後残存する四酸化ルテニウムをイソ
プロピルアルコールにて二酸化ルテニウムに分解
した後、クロロホルム等の溶媒から抽出する。そ
の抽出物から溶媒を除去、結晶化せしめることに
より一般式〔〕の化合物を70〜80%の収率で得
ることができる。 反応時の一般式〔〕の化合物の濃度は水に対
する溶解度の関係で15%以下が好ましい。ルテニ
ウム化合物の量は多いほど反応時間を短縮できる
が、実用的には一般式〔〕の化合物に対して
0.2〜1%(w/w)である。又二酸化ルテニウ
ムは回収して再使用することができる。次亜塩素
酸の使用量は一般式〔〕の化合物1モルに対し
て1〜3モル好ましくは1.5〜2モルである。反
応時の温度は10〜50℃が好ましい。 本発明の酸化方法の特徴は悪臭、廃棄物等公害
をほとんど生じないため工業的生産に適すること
及び次亜塩素酸ナトリウムや次亜塩素酸カルシウ
ムが工業的に多量にかつ安価に製造されているこ
とより、目的の〔〕の化合物を安価に製造でき
る点にある。 実施例 1 1容の丸底フラスコに20gの1,2:5,6
−ジ−o−イソプロピリデン−α−D−グルコフ
ラノース(化合物〔〕)、0.15gの二酸化ルテニ
ウム及び400mlの水を入れ25℃に保温した。 この混合液を撹拌しつつ、これに170mlの次亜
塩素酸水溶液(有効塩素として12%水溶液)を
180分で滴下した。滴下中は10%水酸化ナトリウ
ムでPHを3.5に調整した。更に60分間撹拌後、イ
ソプロピルアルコール10mlを加えて残存する四酸
化ルテニウムを分解した。反応液をクロロホルム
80mlで3回抽出した。クロロホルム層に無水硫酸
マグネシウム10gを加え乾燥した後、液を濃縮
して1,2:5,6−ジ−o−イソプロピリデン
−α−D−リボヘキソフラノース−3−ウロース
(化合物〔〕)の含水結晶16.2gを得た。対理論
収率76.3%、融点112℃、純度97.8%(ガスクロ
マト分析による)。このものは薄層クロマトグラ
フイ(展開液ベンゼン:メタノール=8:1)で
標準物質と同一物質であることが確認された。又
NMR分析の結果、1,2:5,6−ジ−o−イ
ソプロピリデン−α−D−グルコフラノースのδ
=2.50(C−3H)の消滅が見られた。 実施例 2 1容の丸底フラスコに20gの1,2:5,6
−ジ−o−イソプロピリデン−α−D−グルコフ
ラノース(化合物〔〕)、0.16gの三塩化ルテニ
ウム及び400mlの水を入れ25℃に保温した。この
混合液を撹拌しつつ、これを120mlの次亜塩素酸
ナトリウム水溶液(有効塩素として12%水溶液)
を150分で滴下した。以下実施例1と同じ方法で
行つたところ、1,2:5,6−ジ−o−イソプ
ロピリデン−α−D−リボヘキソフラノース−3
−ウロース(化合物〔〕)の含水結晶15.2gを
得た。対理論収率71.6%、融点112℃、純度98.0
%(ガスクロマト分析による)。 実施例 3 1容の丸底フラスコに20gの1,2:5,6
−ジ−o−イソプロピリデン−α−D−グルコフ
ラノース(化合物〔〕)、0.15gの二酸化ルテニ
ウム及び400mlの水を入れ25℃に保温した。この
混合液を撹拌しつつ、これを200mlの次亜塩素酸
カルシウム(有効塩素として10%水溶液)を180
分にて滴下した。滴下中は10%水酸化ナトリウム
水溶液でPH4に調整した。以下実施例1と同じ方
法で行つたところ、1,2:5,6−ジ−o−イ
ソプロピリデン−α−D−リボヘキソフラノース
−3−ウロース(化合物〔〕)の含水結晶15.0
gを得た。対理論収率70.6%融点112℃、純度
97.6%(ガスクロマト分析による)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式〔〕 (但しR1及びR2は炭素数1〜4の低級アルキル
    基)で示されるグルコフラノース誘導体をルテニ
    ウム化合物と次亜塩素酸塩で酸化することによる
    一般式〔〕で示されるグルコフラノース誘導体
    酸化物の製造方法。 【式】又は 2 ルテニウム化合物が二酸化ルテニウム又は三
    塩化ルテニウム、硝酸ルテニウム等のルテニウム
    塩である特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 次亜塩素酸塩が次亜塩素酸ナトリウム又は次
    亜塩素酸カルシウムである特許請求の範囲第1項
    記載の方法。
JP57175327A 1982-10-07 1982-10-07 グルコフラノ−ス誘導体酸化物の製造方法 Granted JPS5967296A (ja)

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JP57175327A JPS5967296A (ja) 1982-10-07 1982-10-07 グルコフラノ−ス誘導体酸化物の製造方法

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JPS5967296A JPS5967296A (ja) 1984-04-16
JPH0471079B2 true JPH0471079B2 (ja) 1992-11-12

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JP57175327A Granted JPS5967296A (ja) 1982-10-07 1982-10-07 グルコフラノ−ス誘導体酸化物の製造方法

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JP4650714B2 (ja) * 2003-09-01 2011-03-16 ナガセケムテックス株式会社 カルボニル化合物の製造方法

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JPS5967296A (ja) 1984-04-16

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