JPS62176532A - 真空処理装置の輸送装置 - Google Patents

真空処理装置の輸送装置

Info

Publication number
JPS62176532A
JPS62176532A JP1568786A JP1568786A JPS62176532A JP S62176532 A JPS62176532 A JP S62176532A JP 1568786 A JP1568786 A JP 1568786A JP 1568786 A JP1568786 A JP 1568786A JP S62176532 A JPS62176532 A JP S62176532A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
vacuum processing
equipment
transportation
gate valve
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1568786A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0329453B2 (ja
Inventor
Shunichi Asuka
飛鳥 俊一
Naoyuki Tamura
直行 田村
Norio Kanai
金井 謙雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP1568786A priority Critical patent/JPS62176532A/ja
Publication of JPS62176532A publication Critical patent/JPS62176532A/ja
Publication of JPH0329453B2 publication Critical patent/JPH0329453B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/006Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
  • Packages (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、真空処理装置の輸送装置に係り、特暑こ真空
容器を真空ベーク処理必要な真空処理装置を輸送するの
に好適な真空処理装置の輸送装置に関するものである。
〔従来の技術〕
真空容器を真空ベーク処理必要、即ち、真空容器内を超
重真空とする必要がある真空処理装置としては、例えば
、分子線エピタキシー装置が挙げられる。分子線エピタ
キシー装置としては、例えば、特開昭59−12471
0号公報に記載されているようなものが知られている。
一般に、このような真空処理袋Rの製造場所と使用場所
とは異なり離れており、製造場所から使用場所へ輸送す
る必要がある。しかし、この輸送時において真空容器内
の大気による汚染をいかにして良好に防止するかについ
ては充分に配慮されているとはいえない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
真空処理装置の製造場所から使用場所への輸送時におい
て真空容器内の大気による汚染防止対策が不充分である
場合、真空処理装置の使用場所への据付後、真空容器の
真空ベーク処理を製造時と同様に再び実施しなければ、
真空容器内を超高真空に排気できないといった問題があ
る。
本発明の目的は、真空処理装置の製造場所から使用場所
への輸送時における真空容器内の大気による汚染を良好
に防止することで、使用場所での真空処理装置据付は後
の真空容器の真空ベーク処理を実施することなしに真空
容器内を超高真空に排気できる真空処理装置の輸送装置
を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的は、真空容器と真空排気装置と駆動手段で作動
する仕切弁とを有する真空処理装置を輸送する装置で、
前記駆動手段と切換え使用可能で前記真空処理装置の輸
送時に前記真空容器の真空を封止し維持可能に前記仕切
弁を作動させる駆動手段を別途具備することで達成され
る。
〔作   用〕
製造場所で真空容器は真空ベーク処理され該真空容器の
真空は製造場所に設置されている駆動手段で作動する仕
切弁で封止される。真空処理装置の輸送時においては、
製造場所に設置されている駆動手段と輸送装置が別途具
備した駆動手段とが切換えられ該駆動手段で仕切弁は引
続き作動させられ、これにより真空容器の真空は封止さ
れ維持される。その後、真空処理装置の使用場所での据
付時・こ輸送装置が別途具備した駆動手段と使用場・所
に設置されている駆動手段とが切換えられ該駆動手段で
仕切弁は引続き作動させられて使用場所で据付けられた
真空処理装置の真空容器の真空は封止される。
このように、真空処理装置の輸送時において真空容器の
真空は封止され維持されるので、真空容器内への大気の
流入がな(真空容器内の大気による汚染が良好に防止さ
れる。
〔実 施 例〕
以下、本発明の一実施例を図面により説明する。
図面で、副翼空槽8の入口と、副翼空槽8と主真空槽9
の間と上記真空槽8.9と主排気ポンプ6の間とにエア
ーシリンダー3により動作する仕切弁4を具備し、エア
ーシリンダー3に圧縮空気を送る圧力調整器2を具備し
た圧縮空気ボンベlを設け、圧縮空気ボンベlとエアー
シリンダー3との間に手動弁7を設けると共に、工場側
からの圧縮空気とエアーシリンダー3との間に手動弁5
を設けている。副翼空槽8.主真空槽9を真空ベーク処
理して超高真空排気後に手動弁7を開け、仕切弁4を閉
じて工場側からの圧縮空気を手動弁5で閉じる。工場側
からの圧縮空気パイプを取はずせば副翼空槽8.主真空
槽9に大気を入れることなく真空状態のままで使用場所
へ輸送できる。
使用場所での据付後は、使用場所の建屋側から圧縮空気
の供給な受は手動弁5を開け、圧縮空気ボンベ!側の手
動弁7を閉じる。
本実施例では、次のような効果がある。
(1)真空槽内への大気の混入な畷輸送できるので、使
用場所での据付は後に真空槽を再び真空べ一りすること
なしに真空槽内を超高真空排気できる。
(2)使用場所での据付は後に真空槽を再び真空ベーク
する必要がないので、真空立上げ時間をこの分だけ短縮
することができる。
なお、本実施例では、仕切弁を、圧縮空気力により作動
する仕切弁としているが、この他に、電磁力や油圧力に
より作動する仕切弁を用いても良い。また、仕切弁をモ
ータで作動する弁とし該モータに電気供給するバッテリ
ーを輸送装置に設けるようにしても良い。
〔発明の効果〕
本発明によれば、真空処理装置の製造場所から使用場所
への輸送時における真空容器内の大気による汚染を良好
に防止できるので、使用場所での真空処理装置据付は後
の真空容器の真空ベーク処理を実施することなしに該真
空容器内を超高真空に排気できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
図面は、本発明の一実施例の真空処理装置の輸送装置の
構成図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、真空容器と真空排気装置と駆動手段で作動する仕切
    弁とを有する真空処理装置を輸送する装置において、前
    記駆動手段と切換え使用可能で前記真空処理装置の輸送
    時に前記真空容器の真空を封止し維持可能に前記仕切弁
    を作動させる駆動手段を別途具備したことを特徴とする
    真空処理装置の輸送装置。
JP1568786A 1986-01-29 1986-01-29 真空処理装置の輸送装置 Granted JPS62176532A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1568786A JPS62176532A (ja) 1986-01-29 1986-01-29 真空処理装置の輸送装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1568786A JPS62176532A (ja) 1986-01-29 1986-01-29 真空処理装置の輸送装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62176532A true JPS62176532A (ja) 1987-08-03
JPH0329453B2 JPH0329453B2 (ja) 1991-04-24

Family

ID=11895664

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1568786A Granted JPS62176532A (ja) 1986-01-29 1986-01-29 真空処理装置の輸送装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62176532A (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0329453B2 (ja) 1991-04-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6039770A (en) Semiconductor device manufacturing system having means for reducing a pressure difference between loadlock and processing chambers
JPH0159007B2 (ja)
JPH04206547A (ja) 装置間搬送方法
CN109737306B (zh) 放射性料液输送装置和系统
JPS62176532A (ja) 真空処理装置の輸送装置
JP2020098854A (ja) 流体制御用ガスボックス
JP3163675B2 (ja) 機械式インターフェース装置
CN108385162A (zh) 一种用于多晶硅铸锭炉抽真空系统的智能化节能装置
CN208667899U (zh) 一种用于多晶硅铸锭炉抽真空系统的智能化节能装置
JP2893588B2 (ja) 真空炉の蓋の固定方法
CN204644463U (zh) 真空处理设备
JPS63307273A (ja) 基板に薄層をスパツタする装置
JPH041349Y2 (ja)
JPH0615159A (ja) 自動真空排気装置
CN221400624U (zh) 一种气闭风门
JP2558385B2 (ja) 真空装置
JPH0648844Y2 (ja) ウエハ−導入用仕切りバルブ
JPS6332177A (ja) 真空排気装置
SU1134235A1 (ru) Бокс дл обработки предметов
JP2001156143A (ja) 半導体処理装置
JP2705439B2 (ja) 処理装置
JP2002270663A (ja) ロードロック装置とその運転方法
JPS63111938A (ja) 真空処理装置
JPH02102194A (ja) 気相成長装置
SU712362A1 (ru) Вакуумный захват