JPS62177197A - 分散メツキ液 - Google Patents
分散メツキ液Info
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- JPS62177197A JPS62177197A JP1747386A JP1747386A JPS62177197A JP S62177197 A JPS62177197 A JP S62177197A JP 1747386 A JP1747386 A JP 1747386A JP 1747386 A JP1747386 A JP 1747386A JP S62177197 A JPS62177197 A JP S62177197A
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- Japan
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- dispersion
- dispersion plating
- plated film
- plating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ａ、 産業上の利用分野
本発明は被膜の特性を改良した分散メッキ液に関する。
ｂ、 従来の技術
分散メッキ法による表面処理は、共析微粒子と金属マト
リックスから構成される被膜を基材金属とに形成して、
金属表面に新しい性質を与える方法である。
リックスから構成される被膜を基材金属とに形成して、
金属表面に新しい性質を与える方法である。
この方法に用いられる共析微粒子には、炭化珪素（ＳＩ
Ｃ）、アルミナ（Ａ ｌ 、０り）、窒化珪素（ｓ＋１
ｓａ）、ダイヤモンド（Ｃ）などの硬！微粒子や、窒化
硼素（ＢＮ） 。
Ｃ）、アルミナ（Ａ ｌ 、０り）、窒化珪素（ｓ＋１
ｓａ）、ダイヤモンド（Ｃ）などの硬！微粒子や、窒化
硼素（ＢＮ） 。
セリサイト、テフロンなどの潤滑性微粒子などがある。
そしてこれらの共析微粒子と金属マトリックスとの各種
の組合せによって、耐摩耗性、潤滑性、耐熱性、耐食性
などの性能を備えた分散メッキ被膜を基材金属上に施す
ことができる。
の組合せによって、耐摩耗性、潤滑性、耐熱性、耐食性
などの性能を備えた分散メッキ被膜を基材金属上に施す
ことができる。
Ｃ０発明が解決しようとする問題点
以上の分散メッキ被膜によってえられる耐摩耗性、潤滑
性等の性能は、分散メッキ被膜を構成する金属マトリッ
クス自体によるものではなく、そこに共析されている共
析微粒子によるものであり、金属マトリックスは補助的
役割を果しているのにすぎない、特に、耐摩耗性、耐熱
性を備えるＮ１−Ｐ−５ｉＣ。
性等の性能は、分散メッキ被膜を構成する金属マトリッ
クス自体によるものではなく、そこに共析されている共
析微粒子によるものであり、金属マトリックスは補助的
役割を果しているのにすぎない、特に、耐摩耗性、耐熱
性を備えるＮ１−Ｐ−５ｉＣ。
Ｎ１−Ｐ−Ａ ｊ！ ｇｏｓ、 Ｎ１−Ｐ−５ＩＪ＊＋
あるいはＮ１−Ｐ−ダイヤモンド等の分散メッキ破膜に
おいては、ＳｉＣ＋ Ａ １ ｚＯｘ。
あるいはＮ１−Ｐ−ダイヤモンド等の分散メッキ破膜に
おいては、ＳｉＣ＋ Ａ １ ｚＯｘ。
Ｓ＋Ｊａ あるいはダイヤモンド等の硬質微粒子のもつ
機能を充分発揮しうるように金属マトリックスを構成す
ることが必要である。
機能を充分発揮しうるように金属マトリックスを構成す
ることが必要である。
ところがＮ１−Ｐ合金マトリックスが充分な硬さを備え
ていない場合、あるいは高温雰囲気においてマトリック
スの硬さが劣化した場合１、二のマトリックス表面に突
出して共析している微粒子は、分散メッキ被膜の相手側
部材によって与えられる面圧により、マトリックス内に
埋没してしまう。そのため分散メッキ被膜表面は巨視的
にみれば華−の金属マトリックスのみによる表面と何等
変わらず、共析微粒子のもつ機能が全く発揮されないと
いう問題点を生ずる。
ていない場合、あるいは高温雰囲気においてマトリック
スの硬さが劣化した場合１、二のマトリックス表面に突
出して共析している微粒子は、分散メッキ被膜の相手側
部材によって与えられる面圧により、マトリックス内に
埋没してしまう。そのため分散メッキ被膜表面は巨視的
にみれば華−の金属マトリックスのみによる表面と何等
変わらず、共析微粒子のもつ機能が全く発揮されないと
いう問題点を生ずる。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、前記従来技
術の問題点を解消してなる分散メッキ液を堤供しようと
するものである。
術の問題点を解消してなる分散メッキ液を堤供しようと
するものである。
ｄ、 問題点を解決するための手段
本発明は前記問題点を解決するため、スルファミン酸二
ンケル液を基本として、これに分散材を懸濁した分散メ
ッキ液に、塩化アンモニウムを５〜５０ｇ／ｌ、好まし
くは２０〜４０ｇ／ Ｉｔ、の割合で添加するようにし
たものである。
ンケル液を基本として、これに分散材を懸濁した分散メ
ッキ液に、塩化アンモニウムを５〜５０ｇ／ｌ、好まし
くは２０〜４０ｇ／ Ｉｔ、の割合で添加するようにし
たものである。
以下、本発明について図面を参照しながら詳細に説明す
る。
る。
分１１にメッキの金属マトリックスとしてＮｉ、 Ｃｕ
。
。
Ｎｉ−Ｃ０，Ｎ１−１’あるいはＺｎなどが使用されて
いるが、最も（吏用されているのはＮｉマトリックスで
あり、このうち耐熱性がある程度考慮されたＮ１−Ｐ合
金マトリ、クスが多く使用される。そしてこの旧−Ｐ合
金マトリックスを形成するためのニッケル浴としては、
電流密度を比較的高くすることができ、生産性の高いス
ルファミン酸ニッケル浴が有利である。このスルファミ
ン酸ニッケル浴の組成の一例を第１表に示す。
いるが、最も（吏用されているのはＮｉマトリックスで
あり、このうち耐熱性がある程度考慮されたＮ１−Ｐ合
金マトリ、クスが多く使用される。そしてこの旧−Ｐ合
金マトリックスを形成するためのニッケル浴としては、
電流密度を比較的高くすることができ、生産性の高いス
ルファミン酸ニッケル浴が有利である。このスルファミ
ン酸ニッケル浴の組成の一例を第１表に示す。
第１表
スルファミン酸 （Ｈｉ（Ｓｏ、＋ ・Ｎ１ｈ）ｘ ・
４１１！Ｏ）： ５００（ｇ／ Ｉｔ ）ニッケル液 塩化二７ケＪｌ／ （ＮＩＣｊ！ １６１＋、ｏ）
： １５ 〃硼 ＃
（１１２８０り） Ｆ４５
〃Ｐ化合物 （Ｐ） ： ０．１〜４
．２ 〃炭化珪素 （ＳＩＣ） ： １００
〜１５０ ＃このスルフ１ミン酸ニツケル浴は、温浴の
管理上に発生する問題として、低Ｐｉｔ、浴温７０℃以
上。
４１１！Ｏ）： ５００（ｇ／ Ｉｔ ）ニッケル液 塩化二７ケＪｌ／ （ＮＩＣｊ！ １６１＋、ｏ）
： １５ 〃硼 ＃
（１１２８０り） Ｆ４５
〃Ｐ化合物 （Ｐ） ： ０．１〜４
．２ 〃炭化珪素 （ＳＩＣ） ： １００
〜１５０ ＃このスルフ１ミン酸ニツケル浴は、温浴の
管理上に発生する問題として、低Ｐｉｔ、浴温７０℃以
上。
あるいは局部加熱等が原因で、スルファミン酸ニッケル
が分解し、硫酸アルミニウムが副生ずる。
が分解し、硫酸アルミニウムが副生ずる。
そして次式に示すようにこの硫酸アンモニウムを構成す
るアンモニウムイオン：ＮＨ４’および硫酸イオン：
ｓｏ、”−の両者が、メッキ液に対して悪影響をもた
らす因子となる。
るアンモニウムイオン：ＮＨ４’および硫酸イオン：
ｓｏ、”−の両者が、メッキ液に対して悪影響をもた
らす因子となる。
ＳＯｚ ・ＮＨｚ−＋ ＩｈＯ＝ＮＨ４゜＋ＳＯ４”−
その結果、メッキ液の内部応力（電着応力）が高くなり
、また、メッキ被膜が脆くなるなどの症状を呈し、やが
てメッキ液は使用できなくなる。
その結果、メッキ液の内部応力（電着応力）が高くなり
、また、メッキ被膜が脆くなるなどの症状を呈し、やが
てメッキ液は使用できなくなる。
本発明者等は、このメッキ液中に、特にＮｔｌｚ”イオ
ンが存在することによって、メッキ被膜が跪くなる事実
に着目したものであって、このメッキ被膜が跪くなるこ
とは、裏をかえせばメッキ被膜が固くなることであり、
本発明においては前記第１表に示すスルファミン酸ニッ
ケル浴に対し、特にＮ１（４°イオンを添加し、硬いメ
ッキ被膜を形成しようとするものである。
ンが存在することによって、メッキ被膜が跪くなる事実
に着目したものであって、このメッキ被膜が跪くなるこ
とは、裏をかえせばメッキ被膜が固くなることであり、
本発明においては前記第１表に示すスルファミン酸ニッ
ケル浴に対し、特にＮ１（４°イオンを添加し、硬いメ
ッキ被膜を形成しようとするものである。
本発明では、添加する旧１．°イオンとして、たとえば
塩化アルミニウムエ旧＋４Ｃｆｆｉを用いる。このＮｉ
ｌ、Ｃｊ！のメッキ液への添加量は、多すぎる場合は、
いわゆる不純物としての作用が大きくなり好ましくない
、第１図は、スルファミン酸ニッケル浴に対する旧１．
ＣＩ濃度すなわち添加量とメッキ液の内部応力並びにメ
ッキ被膜硬さとの関係を明らかにしたものである０図か
ら明らかなように旧１４Ｃｊ！添加量が少ないとメッキ
被膜の硬さの向上は期待できず、多すぎると剥離を生じ
、弊害が大きくなる。したがってその添加量は５〜５０
（ｇ／ｊり、好ましくは２０〜４０（ｇ／ Ｊ ）が
適量である。
塩化アルミニウムエ旧＋４Ｃｆｆｉを用いる。このＮｉ
ｌ、Ｃｊ！のメッキ液への添加量は、多すぎる場合は、
いわゆる不純物としての作用が大きくなり好ましくない
、第１図は、スルファミン酸ニッケル浴に対する旧１．
ＣＩ濃度すなわち添加量とメッキ液の内部応力並びにメ
ッキ被膜硬さとの関係を明らかにしたものである０図か
ら明らかなように旧１４Ｃｊ！添加量が少ないとメッキ
被膜の硬さの向上は期待できず、多すぎると剥離を生じ
、弊害が大きくなる。したがってその添加量は５〜５０
（ｇ／ｊり、好ましくは２０〜４０（ｇ／ Ｊ ）が
適量である。
以上のようにスルファミン酸ニッケル浴にたとえば硬質
微粒子のＳｉＣ）Ｉｉ−懸濁させて、これに旧１ａＣｐ
。
微粒子のＳｉＣ）Ｉｉ−懸濁させて、これに旧１ａＣｐ
。
を添加してえられたＮ１−Ｐ−ＳｉＣ分散ニフケルーリ
ン合金メッキ被膜は、強固なマトリックスを備え、その
被膜硬さがより高められたものとなる。よって、このメ
ッキ被膜に対面する相手材の面圧に対しても、ＳｉＣ粒
子をマトリックス表面に突出させ続けることができる。
ン合金メッキ被膜は、強固なマトリックスを備え、その
被膜硬さがより高められたものとなる。よって、このメ
ッキ被膜に対面する相手材の面圧に対しても、ＳｉＣ粒
子をマトリックス表面に突出させ続けることができる。
ｅ、 実施例
次に本発明に係るメッキ液の一例を第２表に示す。
第２表
（薬品名） （濃度）スルファミ
ン酸ニッケル液： ５００ （ｇ／７２）塩化ニッケル
；１５ “ 硼 酸
： ４５ ４次 亜 リ ン 酸
： ０．６
〃塩化アンモニウム ＝３５＃炭
化 珪 素 ＝ １０
０〜１５０ 〃サッカリンソーダ ： ３
〃この第２表に示すメッキ液で形成されたメ・ツキ
被膜と、前記第１表のそれとの比較、すなわち、熱処理
温度に対応する両者の硬度の関係を第２図に示す。
ン酸ニッケル液： ５００ （ｇ／７２）塩化ニッケル
；１５ “ 硼 酸
： ４５ ４次 亜 リ ン 酸
： ０．６
〃塩化アンモニウム ＝３５＃炭
化 珪 素 ＝ １０
０〜１５０ 〃サッカリンソーダ ： ３
〃この第２表に示すメッキ液で形成されたメ・ツキ
被膜と、前記第１表のそれとの比較、すなわち、熱処理
温度に対応する両者の硬度の関係を第２図に示す。
この図から明らかなようにＮＨ４ＣＪを添加した場合の
メッキ被膜の硬度は、各熱処理温度において、添加しな
い場合のそれより一段と高いことが判る。
メッキ被膜の硬度は、各熱処理温度において、添加しな
い場合のそれより一段と高いことが判る。
第３表は本発明の他のメ・ツキ液の一例を示す。
第３表
（薬品名） Ｎ濃度）スルファ
ミン酸ニッケル液： ５００ （ｇ／ｊり塩化ニッケル
：１５〃 硼 酸
： ４５ 〃次亜リン酸ソーダ
： １ 〜塩化アンモニウム ＝３５〃
炭 化 珪 素 ＝ １
００〜１５０ 〃サッカリンソーダ ：
３ 〃この第３表に示すメッキ液で形成されたメ・ツ
キ被膜と、これからＮＨ２Ｃｌをを除いた従来方式によ
るメッキ被膜との関係を第２図と同様に比較した結果を
第３図に示す。第２図の場合と同様に本発明によるメッ
キ被膜は硬度において優れていることが判る。
ミン酸ニッケル液： ５００ （ｇ／ｊり塩化ニッケル
：１５〃 硼 酸
： ４５ 〃次亜リン酸ソーダ
： １ 〜塩化アンモニウム ＝３５〃
炭 化 珪 素 ＝ １
００〜１５０ 〃サッカリンソーダ ：
３ 〃この第３表に示すメッキ液で形成されたメ・ツ
キ被膜と、これからＮＨ２Ｃｌをを除いた従来方式によ
るメッキ被膜との関係を第２図と同様に比較した結果を
第３図に示す。第２図の場合と同様に本発明によるメッ
キ被膜は硬度において優れていることが判る。
第４表は本発明に係る他のメッキ浴の一例を示す。
第４表
（薬品名） （？Ｍ度）スルファ
ミン酸ニッケル液 ： ５００ （ｇ／Ｉｔ）塩化
ニッケル ：１５〃 硼 酸
： ４５ 〃塩化アンモニウム ：
３５〃炭 化 珪 素
： １００〜１５０ 〃サッカリンソーダ
： ３ 〃この第４表に示すメッキ液においてＮ１
１．Ｃ１濃度の変化と内部応力との関係を第４図に示す
。また、この第４表に示すメッキ液で形成されたメッキ
被膜と、これよりＮＨ４Ｃ７！を除いた従来方式による
メッキ被膜との比較を第５図に示す。図から明らかなよ
うに本発明に係るメッキ液で形成されたメッキ被膜の硬
度は、一段と高い値を示している。
ミン酸ニッケル液 ： ５００ （ｇ／Ｉｔ）塩化
ニッケル ：１５〃 硼 酸
： ４５ 〃塩化アンモニウム ：
３５〃炭 化 珪 素
： １００〜１５０ 〃サッカリンソーダ
： ３ 〃この第４表に示すメッキ液においてＮ１
１．Ｃ１濃度の変化と内部応力との関係を第４図に示す
。また、この第４表に示すメッキ液で形成されたメッキ
被膜と、これよりＮＨ４Ｃ７！を除いた従来方式による
メッキ被膜との比較を第５図に示す。図から明らかなよ
うに本発明に係るメッキ液で形成されたメッキ被膜の硬
度は、一段と高い値を示している。
ｆ、 発明の効果
以上のように、本発明に係る分散メッキ液によれば、ス
ルファミン酸ニッケル液を基本とし、分散材を懸濁して
なる分散メッキ液に、所定量のアンモニウムイオン、た
とえば塩化アンモニウムを添加することによって、従来
方式のものに比較して耐摩耗性、耐熱性、耐潤滑性の優
れた分散メッキ被膜かえられる。
ルファミン酸ニッケル液を基本とし、分散材を懸濁して
なる分散メッキ液に、所定量のアンモニウムイオン、た
とえば塩化アンモニウムを添加することによって、従来
方式のものに比較して耐摩耗性、耐熱性、耐潤滑性の優
れた分散メッキ被膜かえられる。
第１図は分散メッキ液におけるＮＨｔ（／！濃度と内部
応力およびメッキ被膜硬さとの関係を示す図、第２図、
第３図、第５図は本発明に係る分散メッキ液で形成され
たメッキ被膜硬さと、従来の分散メ・７キ液で形成され
たメッキ被膜硬度とを熱処理温度ごとにそれぞれ比較し
て示す図、第４図は他の分散メッキ液に対するＮＨ４，
Ｃ１添加量と内部応力との関係を示す図である。 第１図 ＮＨ４Ｃｌ濃度 ＝：内’ｆ４応力１はメッキ用１１７０（ｐｍｌｌ二ｈ
【する値第２図 瞥％理１１鬼（Ｉｈｒｌ 第３図 ０−−一本発明ｔ：よるもの 熱処理ミ友（Ｉ ｈｒ １ 第４図 Ｎ８４Ｃ／儂屋 荘 ； 内＠丘］刀１ｔメＩＩＪキ靭７０（７ｚｍｌｌ
二引了るイ！？・７＋ｂ第５図 ０−一一本４邑６月による七ｎ ０ １００ ２００ ３００ ４００ ５
００（”Ｃ）％処ＥＪＬＪＦＬ （ｌｈｒ） 手続補正書（自釦 昭和６１年 ５月２３日 １゜ 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 １、 事件の表示 昭和６１年特許願第１７４７３号 ２、 発明の名称 分散メッキ液 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 （２０８） 鈴木自動車工業株式会社４、代
理人 〒１０７ （ほか２名） ５、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄および図面。 補正の内容 ｌ） 明細書、第４頁第３行のｒＮｉ−ＣＯＪをｒＮｉ
−ＣｏＪと訂正する。 ２） 同、第５頁第４行の「硫酸アルミニウム」を「硫
酸アンモニウム」と訂正する。 ３） 同、第５頁第１７行の「固く」を「硬く」と訂正
する。 ４） 同、第１０頁第５行の「耐潤滑性」を「潤滑性」
と訂正する。 ５） 第１図を添付図面のように訂正する。 第１図 Ｎ８４Ｃ１唄３ｐｚ
応力およびメッキ被膜硬さとの関係を示す図、第２図、
第３図、第５図は本発明に係る分散メッキ液で形成され
たメッキ被膜硬さと、従来の分散メ・７キ液で形成され
たメッキ被膜硬度とを熱処理温度ごとにそれぞれ比較し
て示す図、第４図は他の分散メッキ液に対するＮＨ４，
Ｃ１添加量と内部応力との関係を示す図である。 第１図 ＮＨ４Ｃｌ濃度 ＝：内’ｆ４応力１はメッキ用１１７０（ｐｍｌｌ二ｈ
【する値第２図 瞥％理１１鬼（Ｉｈｒｌ 第３図 ０−−一本発明ｔ：よるもの 熱処理ミ友（Ｉ ｈｒ １ 第４図 Ｎ８４Ｃ／儂屋 荘 ； 内＠丘］刀１ｔメＩＩＪキ靭７０（７ｚｍｌｌ
二引了るイ！？・７＋ｂ第５図 ０−一一本４邑６月による七ｎ ０ １００ ２００ ３００ ４００ ５
００（”Ｃ）％処ＥＪＬＪＦＬ （ｌｈｒ） 手続補正書（自釦 昭和６１年 ５月２３日 １゜ 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 １、 事件の表示 昭和６１年特許願第１７４７３号 ２、 発明の名称 分散メッキ液 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 （２０８） 鈴木自動車工業株式会社４、代
理人 〒１０７ （ほか２名） ５、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄および図面。 補正の内容 ｌ） 明細書、第４頁第３行のｒＮｉ−ＣＯＪをｒＮｉ
−ＣｏＪと訂正する。 ２） 同、第５頁第４行の「硫酸アルミニウム」を「硫
酸アンモニウム」と訂正する。 ３） 同、第５頁第１７行の「固く」を「硬く」と訂正
する。 ４） 同、第１０頁第５行の「耐潤滑性」を「潤滑性」
と訂正する。 ５） 第１図を添付図面のように訂正する。 第１図 Ｎ８４Ｃ１唄３ｐｚ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）スルファミン酸ニッケル液を基本として、これに分
散材を懸濁した分散メッキ液に、塩化アンモニウムを５
〜５０ｇ／ｌ、好ましくは２０〜４０ｇ／ｌの割合で添
加したことを特徴とする分散メッキ液。 ２）前記スルファミン酸ニッケル液に、Ｐ化合物が添加
されていることを特徴とする特許請求の範囲第１）項に
記載の分散メッキ液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1747386A JPH0663117B2 (ja) | 1986-01-29 | 1986-01-29 | 分散メツキ液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1747386A JPH0663117B2 (ja) | 1986-01-29 | 1986-01-29 | 分散メツキ液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62177197A true JPS62177197A (ja) | 1987-08-04 |
| JPH0663117B2 JPH0663117B2 (ja) | 1994-08-17 |
Family
ID=11944981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1747386A Expired - Lifetime JPH0663117B2 (ja) | 1986-01-29 | 1986-01-29 | 分散メツキ液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0663117B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01283072A (ja) * | 1988-05-06 | 1989-11-14 | Canon Inc | 振動波モータ |
-
1986
- 1986-01-29 JP JP1747386A patent/JPH0663117B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01283072A (ja) * | 1988-05-06 | 1989-11-14 | Canon Inc | 振動波モータ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0663117B2 (ja) | 1994-08-17 |
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