JPS6217741B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6217741B2 JPS6217741B2 JP55118607A JP11860780A JPS6217741B2 JP S6217741 B2 JPS6217741 B2 JP S6217741B2 JP 55118607 A JP55118607 A JP 55118607A JP 11860780 A JP11860780 A JP 11860780A JP S6217741 B2 JPS6217741 B2 JP S6217741B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shutter
- electromagnet
- curtain
- armature
- configuration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B9/00—Exposure-making shutters; Diaphragms
- G03B9/08—Shutters
- G03B9/36—Sliding rigid plate
- G03B9/40—Double plate
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B9/00—Exposure-making shutters; Diaphragms
- G03B9/58—Means for varying duration of "open" period of shutter
- G03B9/62—Means for varying duration of "open" period of shutter by varying interval of time between end of opening movement and beginning of closing movement
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Shutters For Cameras (AREA)
- Shutter-Related Mechanisms (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はカメラ用シヤツタ特に先幕及び後幕の
始動を電磁石によつて制御するシヤツタに関する
ものである。
始動を電磁石によつて制御するシヤツタに関する
ものである。
一般に使用される電磁制御シヤツタは予め電磁
石に通電してアーマチヤを吸引保持しておき、必
要に応じて電流を遮断してアーマチヤを離反さ
せ、この力を利用してシヤツタを制御するもので
ある。この形式のシヤツタは一般に少ない電力で
済むという利点はあるが、吸着面の研磨、アーマ
チヤをヨークに均等に密着させるためのイコライ
ザ、アーマチヤを吸着面に押し付けるためのチヤ
ージ機構等が必要であり製造コストの面で必ずし
も有利ではない。
石に通電してアーマチヤを吸引保持しておき、必
要に応じて電流を遮断してアーマチヤを離反さ
せ、この力を利用してシヤツタを制御するもので
ある。この形式のシヤツタは一般に少ない電力で
済むという利点はあるが、吸着面の研磨、アーマ
チヤをヨークに均等に密着させるためのイコライ
ザ、アーマチヤを吸着面に押し付けるためのチヤ
ージ機構等が必要であり製造コストの面で必ずし
も有利ではない。
これに対し、電磁石に電流を流してアーマチヤ
を吸引することによりシヤツタ幕の係止を解除し
シヤツタを走行させる所謂吸引式電磁制御シヤツ
タは消費電力の点ではやゝ不利であるが、コスト
的には極めて有利である。
を吸引することによりシヤツタ幕の係止を解除し
シヤツタを走行させる所謂吸引式電磁制御シヤツ
タは消費電力の点ではやゝ不利であるが、コスト
的には極めて有利である。
しかしこの様なシヤツタに於て、電源電池が古
くなつて十分な電力が得難くなつた場合は、シヤ
ツタ速度が次第に遅くなると云う欠点がある。こ
れは先幕用電磁石への給電により電圧降下が生じ
ているときに後幕用電磁石に通電されるので、後
幕用電磁石は先幕用電磁石より電池の劣化の影響
を多く受け、その吸引力は弱くなり、通電から後
幕レリーズまでのタイムラグが電池の劣化に伴つ
て増大するためである。この欠点を解消する方法
としては電気を一旦コンデンサーに蓄めておき
(必要に応じて昇圧して)この電気を使うように
してもよいが余分な回路を要し、スペース的にも
不利である。
くなつて十分な電力が得難くなつた場合は、シヤ
ツタ速度が次第に遅くなると云う欠点がある。こ
れは先幕用電磁石への給電により電圧降下が生じ
ているときに後幕用電磁石に通電されるので、後
幕用電磁石は先幕用電磁石より電池の劣化の影響
を多く受け、その吸引力は弱くなり、通電から後
幕レリーズまでのタイムラグが電池の劣化に伴つ
て増大するためである。この欠点を解消する方法
としては電気を一旦コンデンサーに蓄めておき
(必要に応じて昇圧して)この電気を使うように
してもよいが余分な回路を要し、スペース的にも
不利である。
又定電流回路を使つてもよいが電圧損失分を補
うだけの余分な電池が必要になる等の不利があ
る。
うだけの余分な電池が必要になる等の不利があ
る。
本発明は上記の様な欠点を解消し電源の変動に
よる悪影響の少ない吸引形電磁制御シヤツタを提
供することを目的とする。
よる悪影響の少ない吸引形電磁制御シヤツタを提
供することを目的とする。
このため本発明においては電磁石の吸引特性即
ち電流と吸引力との関係を、先幕用電磁石と後幕
用電磁石とで変え、比較的平均な特性を有する電
磁石を後幕用に使用する様にしたものである。
ち電流と吸引力との関係を、先幕用電磁石と後幕
用電磁石とで変え、比較的平均な特性を有する電
磁石を後幕用に使用する様にしたものである。
以下本発明実施例を図により説明する。
第1図は本発明を適用した電磁制御シヤツタを
示す略図である。図において1は撮影用アパーチ
ヤ、2はシヤツタ先幕で、駆動スプリング5に引
かれ、ガイド溝2a,2b、ガイドピン3,4に
案内されて図の右方に直線的に走行する様になつ
ており、チヤージ状態では突起部2cが係止レバ
ー9に係合して図の位置に停止しアパーチヤ1を
遮つている。6はシヤツタ後幕でガイド溝6a,
6bを有し、駆動ばね8に引かれてガイドピン
7,8に案内されて図の右方に走行する様になつ
ており、チヤージ状態では突起6cが係止レバー
14に係合して停止している。10は第2図に示
す様な先幕用電磁石で、11はそのヨーク、12
はコイル、13はピン14の周りに回動可能なア
ーマチヤである。15は先幕用電磁石と同様の構
成を有する後幕用電磁石で、16はそのヨーク、
17はコイル、18はピン19の周りに回動可能
なアーマチヤである。先幕用電磁石のコイルに通
電するとアーマチヤ13が吸引されて回動し、他
端13aで係止爪9を叩き、軸9aの周りに回動
させて先幕をレリーズし、先幕はばね5の力で走
行する。先幕走行開始から所定時間後に後幕用電
磁石15のコイル16に通電すると、アーマチヤ
18が吸引されて回動し、その他端18aで係止
レバー14を叩き、軸14aの周りに回動させて
後幕をレリーズし、後幕はばね8の力で走行して
シヤツタは閉じる。上記構成のシヤツタにおいて
後幕用電磁石15のアーマチヤ18は第3図に示
す如くその一部に切欠18bが設けられ磁路が部
分的に細くなつている。このため磁束の飽和は第
2図のものと比べて早く始まり、吸引特性は第4
図に示す如く先幕用電磁石と異つたものとなる。
即ちAは先幕用の普通の電磁石の特性カーブで電
流値の減少に従つて吸引力も低下している。Bは
後幕用電磁石の特性カーブでAと比較すると電流
値の低下に対する吸引力の低下の割合が極めて少
なくなつている。
示す略図である。図において1は撮影用アパーチ
ヤ、2はシヤツタ先幕で、駆動スプリング5に引
かれ、ガイド溝2a,2b、ガイドピン3,4に
案内されて図の右方に直線的に走行する様になつ
ており、チヤージ状態では突起部2cが係止レバ
ー9に係合して図の位置に停止しアパーチヤ1を
遮つている。6はシヤツタ後幕でガイド溝6a,
6bを有し、駆動ばね8に引かれてガイドピン
7,8に案内されて図の右方に走行する様になつ
ており、チヤージ状態では突起6cが係止レバー
14に係合して停止している。10は第2図に示
す様な先幕用電磁石で、11はそのヨーク、12
はコイル、13はピン14の周りに回動可能なア
ーマチヤである。15は先幕用電磁石と同様の構
成を有する後幕用電磁石で、16はそのヨーク、
17はコイル、18はピン19の周りに回動可能
なアーマチヤである。先幕用電磁石のコイルに通
電するとアーマチヤ13が吸引されて回動し、他
端13aで係止爪9を叩き、軸9aの周りに回動
させて先幕をレリーズし、先幕はばね5の力で走
行する。先幕走行開始から所定時間後に後幕用電
磁石15のコイル16に通電すると、アーマチヤ
18が吸引されて回動し、その他端18aで係止
レバー14を叩き、軸14aの周りに回動させて
後幕をレリーズし、後幕はばね8の力で走行して
シヤツタは閉じる。上記構成のシヤツタにおいて
後幕用電磁石15のアーマチヤ18は第3図に示
す如くその一部に切欠18bが設けられ磁路が部
分的に細くなつている。このため磁束の飽和は第
2図のものと比べて早く始まり、吸引特性は第4
図に示す如く先幕用電磁石と異つたものとなる。
即ちAは先幕用の普通の電磁石の特性カーブで電
流値の減少に従つて吸引力も低下している。Bは
後幕用電磁石の特性カーブでAと比較すると電流
値の低下に対する吸引力の低下の割合が極めて少
なくなつている。
従つて電池が古くなつた場合にも後幕用電磁石
の吸引力の変動が少なく、前述の様なシヤツタ速
度への影響を極めて少なくすることが出来る。
の吸引力の変動が少なく、前述の様なシヤツタ速
度への影響を極めて少なくすることが出来る。
実施例においては吸引特性を変える方法として
磁路の一部を狭くしたが、鉄芯の材料を変えても
よい。即ち先幕用電磁石には純鉄を、後幕用電磁
石には鉄芯の全部又は一部を45パーマロイ、78
パーマロイ等に変えることによつても達成され
る。又磁路の一部を狭くする場合その場所は吸着
面を除いたヨーク、アーマチヤの磁路の一部なら
ばどこでもよい。
磁路の一部を狭くしたが、鉄芯の材料を変えても
よい。即ち先幕用電磁石には純鉄を、後幕用電磁
石には鉄芯の全部又は一部を45パーマロイ、78
パーマロイ等に変えることによつても達成され
る。又磁路の一部を狭くする場合その場所は吸着
面を除いたヨーク、アーマチヤの磁路の一部なら
ばどこでもよい。
本発明は上述の様に吸引形電磁制御シヤツタに
おいて後幕制御用電磁石を電流値の変化に対して
吸引力の変化の割合が少なくなる様に構成したか
ら極めて簡単な構成で電源電圧の変動に拘らずシ
ヤツタ速度の安定したシヤツタを安価に作ること
が出来る。
おいて後幕制御用電磁石を電流値の変化に対して
吸引力の変化の割合が少なくなる様に構成したか
ら極めて簡単な構成で電源電圧の変動に拘らずシ
ヤツタ速度の安定したシヤツタを安価に作ること
が出来る。
なお本発明は実施例に示す様なスリツトシヤツ
タに限定されるものではなくシヤツタ開き羽根と
閉じ羽根とを有し、夫々を電磁石で制御するもの
であればレンズシヤツタであつてもフオーカルプ
レンシヤツタであつても同様に適用し得るもので
ある。
タに限定されるものではなくシヤツタ開き羽根と
閉じ羽根とを有し、夫々を電磁石で制御するもの
であればレンズシヤツタであつてもフオーカルプ
レンシヤツタであつても同様に適用し得るもので
ある。
第1図は本発明を適用した電磁制御シヤツタの
説明図、第2図は先幕用電磁石の斜視図、第3図
は後幕用電磁石のアーマチヤを示す斜視図、第4
図は電磁石の吸引特性を示す線図である。 2;先幕、6;後幕、10;先幕用電磁石、1
5;後幕用電磁石。
説明図、第2図は先幕用電磁石の斜視図、第3図
は後幕用電磁石のアーマチヤを示す斜視図、第4
図は電磁石の吸引特性を示す線図である。 2;先幕、6;後幕、10;先幕用電磁石、1
5;後幕用電磁石。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 コイルへの通電によつてヨークに吸引力を発
生させて、アーマチヤを離反位置から吸着位置の
方向に回動させ、該回動によつてシヤツタ先幕構
成の走行準備状態での緊定を解除して走行を行な
わせる先幕制御用電磁石構成と、 コイルへの通電によつてヨークに吸引力を発生
させて、アーマチヤを離反位置から吸着位置の方
向に回動させ、該回動によつてシヤツタ後幕構成
の走行準備状態での緊定を解除して走行を行なわ
せる後幕制御用電磁石構成と、によりシヤツタ走
行の制御を行なう吸引形電磁制御シヤツタにおい
て、 前記後幕制御用電磁石構成の方を前記先幕制御
用電磁石構成に比べて、コイルへの供給電流値の
低下に対するアーマチヤの被吸引力の低下の割合
を小さくなるように構成したことを特徴とする吸
引形電磁制御シヤツタ。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55118607A JPS5742029A (en) | 1980-08-28 | 1980-08-28 | Attraction type electromagnetic control shutter |
| US06/292,733 US4394081A (en) | 1980-08-28 | 1981-08-14 | Magnetically controlled shutter |
| DE19813133879 DE3133879A1 (de) | 1980-08-28 | 1981-08-27 | Magnetisch gesteuerter verschluss |
| GB8126263A GB2083237B (en) | 1980-08-28 | 1981-08-28 | Magnetically controlled shutter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55118607A JPS5742029A (en) | 1980-08-28 | 1980-08-28 | Attraction type electromagnetic control shutter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5742029A JPS5742029A (en) | 1982-03-09 |
| JPS6217741B2 true JPS6217741B2 (ja) | 1987-04-20 |
Family
ID=14740739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55118607A Granted JPS5742029A (en) | 1980-08-28 | 1980-08-28 | Attraction type electromagnetic control shutter |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4394081A (ja) |
| JP (1) | JPS5742029A (ja) |
| DE (1) | DE3133879A1 (ja) |
| GB (1) | GB2083237B (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2187854B (en) * | 1986-02-25 | 1990-02-14 | Famous Instr Ltd | Electromagnetic device |
| DE10041254C2 (de) * | 2000-08-23 | 2003-09-25 | Leica Camera Ag | Verschluß für eine fotografische Kamera |
| JP6162500B2 (ja) * | 2013-06-25 | 2017-07-12 | セイコープレシジョン株式会社 | フォーカルプレーンシャッタ、光学機器、及びフォーカルプレーンシャッタの電流調整方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3698304A (en) * | 1969-03-06 | 1972-10-17 | Minolta Camera Kk | Shutter release control mechanism |
| SE348058B (ja) * | 1970-05-06 | 1972-08-21 | Hasselblad | |
| US3947857A (en) * | 1973-08-24 | 1976-03-30 | Yashica Co., Ltd. | Magnetically releasing device for camera shutters |
| JPS5740522B2 (ja) * | 1974-01-18 | 1982-08-28 | ||
| US4315678A (en) * | 1977-11-15 | 1982-02-16 | Olympus Optical Company Ltd. | Electrical shutter of electromagnetic release type for camera having adjustable delay circuit for adjusting the precision of the electrical shutter |
-
1980
- 1980-08-28 JP JP55118607A patent/JPS5742029A/ja active Granted
-
1981
- 1981-08-14 US US06/292,733 patent/US4394081A/en not_active Expired - Lifetime
- 1981-08-27 DE DE19813133879 patent/DE3133879A1/de active Granted
- 1981-08-28 GB GB8126263A patent/GB2083237B/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2083237B (en) | 1984-07-25 |
| JPS5742029A (en) | 1982-03-09 |
| DE3133879A1 (de) | 1982-04-22 |
| US4394081A (en) | 1983-07-19 |
| GB2083237A (en) | 1982-03-17 |
| DE3133879C2 (ja) | 1989-05-24 |
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