JPS62190334U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS62190334U JPS62190334U JP7695686U JP7695686U JPS62190334U JP S62190334 U JPS62190334 U JP S62190334U JP 7695686 U JP7695686 U JP 7695686U JP 7695686 U JP7695686 U JP 7695686U JP S62190334 U JPS62190334 U JP S62190334U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- surface treatment
- compound
- gas
- vacuum chamber
- atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Description
第１図は本考案の第１の実施例の略式断面図、
第２図は本考案の第２の実施例の略式断面図、第
３図は従来の例を示す略式断面図である。 １１……真空槽、１２……挑気通路、２３……
気体収容部、２４……クラスタ源、２５１……冷
却剤容器、２５２……冷却剤、２７……ノズル、
３２……グリツド、３３……熱電子、３４……加
速電極、４１……中性クラスタ、４２……クラス
タ・イオン、５１……基板、５２……基板ホルダ
。
第２図は本考案の第２の実施例の略式断面図、第
３図は従来の例を示す略式断面図である。 １１……真空槽、１２……挑気通路、２３……
気体収容部、２４……クラスタ源、２５１……冷
却剤容器、２５２……冷却剤、２７……ノズル、
３２……グリツド、３３……熱電子、３４……加
速電極、４１……中性クラスタ、４２……クラス
タ・イオン、５１……基板、５２……基板ホルダ
。
Claims (1)
- 所定の真空度に保持された真空槽に、該真空槽
内に設けられた基板の表面処理をすべき物質を有
するの常温気体の化合物を噴出して、該化合物の
クラスタを発生するノズル付気体収容部と、該気
体収容部を冷却する冷却手段と、上記クラスタと
なつた化合物を分離して上記表面処理物質原子の
クラスタの一部をイオン化するイオン化手段と、
該イオン化された表面処理原子のクラスタ・イオ
ンを加速しこれをイオン化されていない中性クラ
スタとともに基板に衝突させて、膜形成ないしエ
ツチングさせる加速手段とを備えた表面処理装置
において、上記常温気体の化合物の温度を制御す
る手段として、上記気体収容部の内部に該気体収
容部の内壁に接して上記常温ガスの化合物の直進
防止機構部を設けたことを特徴とする表面処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7695686U JPS62190334U (ja) | 1986-05-23 | 1986-05-23 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7695686U JPS62190334U (ja) | 1986-05-23 | 1986-05-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62190334U true JPS62190334U (ja) | 1987-12-03 |
Family
ID=30924511
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7695686U Pending JPS62190334U (ja) | 1986-05-23 | 1986-05-23 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62190334U (ja) |
-
1986
- 1986-05-23 JP JP7695686U patent/JPS62190334U/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| HK67587A (en) | Method for pure ion plating using magnetic fields | |
| JPS62190334U (ja) | ||
| JPS62172145U (ja) | ||
| JPH0364454A (ja) | 蒸気発生源用るつぼ | |
| JPS62114057U (ja) | ||
| JP2606223B2 (ja) | 絶縁碍子 | |
| JPH0348853U (ja) | ||
| JPH0115120Y2 (ja) | ||
| JPS61187373U (ja) | ||
| JPS62157968U (ja) | ||
| JPH01119663A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPH0472343B2 (ja) | ||
| JPS641221A (en) | Manufacture of polarizable electrode | |
| JPH0516214Y2 (ja) | ||
| JPS60125368A (ja) | 薄膜蒸着装置 | |
| JPH06145968A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPS6251735U (ja) | ||
| JPS5924358Y2 (ja) | イオン化装置 | |
| JPS61176763U (ja) | ||
| JPH01176925U (ja) | ||
| JPH0322063U (ja) | ||
| JPS57161059A (en) | Film forming device | |
| JPS6251736U (ja) | ||
| JPS61113763A (ja) | 電子衝撃型蒸着装置 | |
| JPH0174261U (ja) |