JPH0322063U - - Google Patents

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JPH0322063U
JPH0322063U JP8062389U JP8062389U JPH0322063U JP H0322063 U JPH0322063 U JP H0322063U JP 8062389 U JP8062389 U JP 8062389U JP 8062389 U JP8062389 U JP 8062389U JP H0322063 U JPH0322063 U JP H0322063U
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JP
Japan
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vacuum chamber
thin film
film material
evaporation source
vacuum
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JP8062389U
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１〜３図は本考案の実施例に係り、第１図は
イオンプレーテイング装置の概略断面図、第２図
は蒸発源の平面図、第３図は要部の一部断面図で
ある。第４〜７図は従来技術に係り、第４図は従
来のイオンプレーテイング装置の概略断面図、第
５図はハースの平面図、第６図はハースのるつぼ
に薄膜材料を供給する装置の原理を示す斜視図、
第７図は電子銃のフイラメントの正面図である。 １……真空槽、２……基板、３１，３２……薄
膜材料、４１，４２……蒸発源、５１，５２……
高周波励起コイル、６……直流バイアス電圧印加
手段、７１，７２……膜厚モニタ、１１，１２…
…作動室。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 内部を真空状態に維持可能な真空槽と、 該真空槽内に支持される基板と、 該真空槽内で該基板に対向して設けられ薄膜材
    料を蒸発供給する蒸発源と、 該真空槽内で該蒸発源と該基板との間に設けら
    れ蒸発した該薄膜材料をイオン化する高周波励起
    コイルと、 該真空槽内で該基板と該蒸発源との間にイオン
    加速電界を形成する直流バイアス電圧印加手段と
    、 蒸発する該薄膜材料の蒸発速度を感知する膜厚
    モニタとを具備したイオンプレーテイング装置で
    あつて、 該真空槽は真空状態と大気状態とを切換え可能
    な複数の作動室をもち、 該蒸発源、該高周波励起コイル及び該膜厚モニ
    タのうち少なくとも一種は、該作動室毎に配設さ
    れたことを特徴とするイオンプレーテイング装置
    。
JP8062389U 1989-07-07 1989-07-07 Pending JPH0322063U (ja)

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JP8062389U JPH0322063U (ja) 1989-07-07 1989-07-07

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JPH0322063U true JPH0322063U (ja) 1991-03-06

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JP8062389U Pending JPH0322063U (ja) 1989-07-07 1989-07-07

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JP (1) JPH0322063U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011156088A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Kyoraku Sangyo Kk 遊技機
JP2011156090A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Kyoraku Sangyo Kk 遊技機

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011156088A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Kyoraku Sangyo Kk 遊技機
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