JPS62191801A - プラスチツク光学部品の反射防止膜 - Google Patents

プラスチツク光学部品の反射防止膜

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JPS62191801A
JPS62191801A JP61034885A JP3488586A JPS62191801A JP S62191801 A JPS62191801 A JP S62191801A JP 61034885 A JP61034885 A JP 61034885A JP 3488586 A JP3488586 A JP 3488586A JP S62191801 A JPS62191801 A JP S62191801A
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optical
film
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Sadao Akatsuka
赤柄　定男
Hirozo Tani
谷　博蔵
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、カメうの７アイング用レンズなどのプラスチ
ック光学部品に適用される又射防止膜に関する。
従来、プラスチック光学部品の反射防止設としては、本
願出願人が先に提案した特開昭５６−１１０９０１号公
報に記載されたように、空気側からプラスチック基板側
へ順に、ＭｇＦ　２からなり光学的膜厚が約λ／４の第
１層と、Ａ　Ｉ　２０３からなり光学的膜厚が約λ／１
６の第２層との２Ｆｔｉ構成からなる反射防止設が知ら
れている。
しかしながら、このような反射防止設においては、充分
な反射防止効果は得られるものの、耐久性が充分ではな
いので、カメラの７フイング接匝レンズなど外部に露呈
されるレンズの表面に施されると経時的に光学的性能が
劣化する可能性があそこで、本発明は、上記従来のプラ
スチック用反射防止設に比べて耐久性が更に向上された
反射防止設を提供することを目的とするものである。
そして、上記目的を達成するなるに、本願発明者たちは
試行ｖｉ誤を繰り返した結果、基板となるプラスチック
光学部品の表面にプラスチックとの密着性が良くて耐久
性の向上に有効なＳｉＯまたは５１０２を介在層として
厚くフートし、その介在層の上に、介在層の屈折率及び
光学的膜厚に応じて２層の高屈折率層と１／ｉｌの低屈
折率層とを順次積層することによって、耐久性に優れる
とともに反射防止効果も向上させられた反射防止設を得
た。
ここで、２層の高屈折率層の間に屈折率勾配を設けるこ
とによって反射防止効果を更に向上させることができる
。
従って、第１図に示されるように、本発明にかかるプラ
スチック光学部品の反射防止設は、基帛波艮をλとする
ときに、空気（Ａ）側からプラスチックからなる基板（
Ｂ）側へ順に、ＳｉＯ２からなり光学的膜厚が約０．２
５Ａの１ｌＩＶＪ（１）と、ＺｒＯ２とＴｉＯ２との混
合物からなり光学的膜厚が約０．２５＾のｐｔＳ２１（
２）と、ＺｒＯ，からなり光学的膜厚が約０．２５Ａの
第３／１Ｗ（３）ト、５ｉｆｔたはＳｉＯ２からなり光
学的膜厚が０．５λ〜２．０λの第４層（４）との４１
構成からなることを′Ｖｆ徴とする。
更に、本発明において、反射防止効果を向上させるため
には、以下の条件を満足することが望ましい。
（１）　　１．４５＜ｎ、＜１．５２ （２）　　１．８０＜ｎ２＜２．１５ （３）　　１．７５＜ｎ＊＜１．９５ （４）　１゜□ｉ５＜ｎ＋＜　１　、　６（５）０．２
２λ＜ｎ＋ｄｌ＜０．２８λ（６）０．２２λ＜　１１
２ＬＩ２　＜　０　、　２８λ（７）０．２２人＜ｎｙ
ｄ、＜０．　２８λ（８）　　　０．　５１　＜ｎ１ｃ
Ｌ＜　２．　　ＯＡ但し、ここで、１１１は第１層（１
）の屈折率、ＩＩ２は第２７ｉづ（２）の屈折率、■、
は第３　Ｊ？η（３）の屈折率、ｎ４はｆｆ１４／Ｗ（
４）の屈折率、ｎ、ｄｌは第１層（１）の光学的膜厚、
ｎ２ｄ２は＠２層（２）の光学的膜厚、ｎ、ｄ３は第３
層（３）の光学的膜厚、ｎ４ｄ４は第４層（４）の光学
的膜厚である。
上記条件（１）〜（８）は、本発明にががる反射防止設
の構成をより具体的に示したものであり、この条件を満
足することによって反射防止効果を向上させることがで
きる。
以下、本発明の各実施例について説明する。
まず、各実施例１〜５の構成を第１表〜第５表に順に示
す。
（以下余白） ｆｊ＆１表 第２表 第３表 第４表 第５表 （以下余白） 上記各実施例の表において、「真空度」は真空蒸着時の
真空度を示し、基準波長λは５１０ｎｍである０次に各
実施例の製造方法について説明すると、まず、プラスチ
ック（アクリルもしくはポリカーボネート）の基板の表
面に、ＳｉＯをＭＯボートによる抵抗加熱法を用いてそ
れぞれ表に示された酸素雰囲気中でコートしてＳ　＋　
Ｏｔの第４Ｎを形成し、その上に電子ビーム法によって
Ｚ　ｒ　Ｏ２を表に示された酸素雰囲気中でコートして
第３層を形成し、更にその上に、電子ビーム法によって
ＺｒＯ２とＴｉＯ２との混合物を表に示された酸素雰囲
気中でコートして第２層を形成し、最後に、第４層と同
じ条件もしくは電子ビーム法によってＳ　ｉ　Ｏ２をコ
ートシて第１層を形成して完成する。
ここで、第３Ｒりの真空蒸着中の酸素雰囲気を調節する
ことによって第３Ｎの屈折率を調節することができる。
各実施例１〜５の分光反射率特性を、それぞれ第２図〜
第６図に示す。実施例１．２．３はそれぞれ第３層蒸着
時の真空度が異なるだけであり、このように第３層蒸着
時の真空度を調節することによって第３層の屈折率を５
１！整し、！＃２図、第３図、第４図にそれぞれ示され
るように、全体としての分光反射率特性を変化させるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の構成を示す断面図、第２図〜第６図は
、それぞれ本発明実施例１〜５の分光反射率特性を示す
グラフである。 （Ａ）；空気、 （１）；第１層、 （２）；第２ＷＪ、 （３）；第３層、 （４）；第４／ｌ！、 （Ｂ）；基板。 以上 出願人　ミノルタカメラ株式会社 第７図 鵞　丸（Ａ＋ 蟇　枚ＣＢ） 第２図 皮表（兎７７Ｌ） 第３図 第４図 皮表（倶 第５図 文長慎町 第６図 伎Ｊｔ（脈〕

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、基準波長をλとするときに、空気側からプラスチッ
    クからなる基板側へ順に、 ＳｉＯ＿２からなり光学的膜厚が約０．２５λの第１層
    と、 ＺｒＯ＿２とＴｉＯ＿２との混合物からなり光学的膜厚
    が約０．２５λの第２層と、 ＺｒＯ＿２からなり光学的膜厚が約０．２５λの第３層
    と、 ＳｉＯまたはＳｉＯ＿２からなり光学的膜厚が０．５λ
    〜２．０λの第４層と の４層構成からなることを特徴とするプラスチック光学
    部品の反射防止設。 ２、更に以下の条件を満足することを特徴とする特許請
    求の範囲第１項記載のプラスチック光学部品の反射防止
    膜； １．４５＜ｎ＿１＜１．５２ １．８０＜ｎ＿２＜２．１５ １．７５＜ｎ＿３＜１．９５ １．４５＜ｎ＿４＜１．６ ０．２２λ＜ｎ＿１ｄ＿１＜０．２８λ ０．２２λ＜ｎ＿２ｄ＿２＜０．２８λ ０．２２λ＜ｎ＿３ｄ＿３＜０．２８λ ０．５λ＜ｎ＿４ｄ＿４＜２．０λ 但し、ここで、 ｎ＿１；第１層の屈折率、 ｎ＿２；第２層の屈折率、 ｎ＿３；第３層の屈折率、 ｎ＿４；第４層の屈折率、 ｎ＿１ｄ＿１；第１層の光学的膜厚、 ｎ＿２ｄ＿２；第２層の光学的膜厚、 ｎ＿３ｄ＿３；第３層の光学的膜厚、 ｎ＿４ｄ＿４；第４層の光学的膜厚、 である。 ３、第３層は、その蒸着工程中に酸素ガスが導入される
    ことによって任意の屈折率に設定されることを特徴とす
    る特許請求の範囲第１項記載のプラスチック光学部品の
    反射防止膜。
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