JPS6220118A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6220118A JPS6220118A JP60159665A JP15966585A JPS6220118A JP S6220118 A JPS6220118 A JP S6220118A JP 60159665 A JP60159665 A JP 60159665A JP 15966585 A JP15966585 A JP 15966585A JP S6220118 A JPS6220118 A JP S6220118A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- magnetic
- ferromagnetic
- coil
- magnetic path
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度の信号磁化を効率良く記録再生するのに
好適な薄膜磁気ヘッドに関するものである。
好適な薄膜磁気ヘッドに関するものである。
従来の技術
近年の磁気記録技術の進歩は著るしく、特に単位面積当
たりの記録密度は年々対数的に増大しつつある。このよ
うな高密度化は、信号磁化の短波長化と記録パターンの
狭トラツク化によってなされているわけであるが、現在
では波長１μｍ前後、トラック幅２０μｍ前後での実用
化が行なわれている。このような高密度化に対応するた
めに磁気ヘッドとしては、第５図に示きるだけ小型化す
ることによって効率を高め、ギャップ長は０．３μｍ程
度まで狭めて短波長磁化を効率良く再生できるようにし
ている。一方近年になって薄膜磁気ヘッドが注目を沿び
ている。第６図に１例を示すが、非磁性基板ＣＪ上に薄
膜形成技術とフォトリソグラフィ技術を用いて強磁性薄
膜による磁極Ｑ９と複数ターンの薄膜コイ）ｖｃ２■を
形成し、略リング状の薄膜磁気ヘッドを構成する。この
ような薄膜磁気ヘッドは、製造技術的に狭ギャップ化、
狭トラツク化に適している。
たりの記録密度は年々対数的に増大しつつある。このよ
うな高密度化は、信号磁化の短波長化と記録パターンの
狭トラツク化によってなされているわけであるが、現在
では波長１μｍ前後、トラック幅２０μｍ前後での実用
化が行なわれている。このような高密度化に対応するた
めに磁気ヘッドとしては、第５図に示きるだけ小型化す
ることによって効率を高め、ギャップ長は０．３μｍ程
度まで狭めて短波長磁化を効率良く再生できるようにし
ている。一方近年になって薄膜磁気ヘッドが注目を沿び
ている。第６図に１例を示すが、非磁性基板ＣＪ上に薄
膜形成技術とフォトリソグラフィ技術を用いて強磁性薄
膜による磁極Ｑ９と複数ターンの薄膜コイ）ｖｃ２■を
形成し、略リング状の薄膜磁気ヘッドを構成する。この
ような薄膜磁気ヘッドは、製造技術的に狭ギャップ化、
狭トラツク化に適している。
発明が解決しようとする問題点
現在、更に短波長の信号磁化の記録再生が要求されてお
り、例えば金属蒸着媒体では波長０．５μｍ 前後、最
近注目を沿びている垂直磁気記録ではビット長０．１５
μｍ前後の信号磁化が取り扱かわれている。この様な高
密度磁化をリング型ヘッドで再生する場合、ギャップ損
失を考慮すると０．１μｍ 前後の超狭ギャップが要求
される。これに対して第５図に示したバルクヘッドでは
、加工技術による制限および直径３０μｍ程度のバルク
巻線を巻くスペースが必要なことにより磁路の小型化に
制限があり、上記のような狭ギャップ化に対してギャッ
プ部での漏洩が急増し、記録再生効率が大きく低下する
と同時に、狭ギャップを精度良く形成するのが困難であ
る。一方、第６図に示すような薄膜磁気ヘッドでは磁極
およびギャップを薄膜形成技術で積層していく為狭ギャ
ップを高精度で形成する事は容易であるが、回路処理に
必要な信号出力を得る為に薄膜コイ／Ｌ／ＣＩ！６）を
複数ターン形成する必要があり、製造技術的に磁路の構
造が図示したように細長くなる。このような構造ではギ
ャップで再生した信号磁束が強磁性薄膜（２勺からなる
磁路を完全には通らず、途中の薄膜コイル部を通って徐
々に漏洩すると同時に、磁気ヘッドとしての磁路はバル
クタイプに較べると小型にはなるが、コアが薄膜になる
と磁気抵抗の増大があるため、相対的に磁路の小型化が
不十分となって効率が低く、特に狭ギャップ化において
はその影響がより顕著になるという問題点があった。
り、例えば金属蒸着媒体では波長０．５μｍ 前後、最
近注目を沿びている垂直磁気記録ではビット長０．１５
μｍ前後の信号磁化が取り扱かわれている。この様な高
密度磁化をリング型ヘッドで再生する場合、ギャップ損
失を考慮すると０．１μｍ 前後の超狭ギャップが要求
される。これに対して第５図に示したバルクヘッドでは
、加工技術による制限および直径３０μｍ程度のバルク
巻線を巻くスペースが必要なことにより磁路の小型化に
制限があり、上記のような狭ギャップ化に対してギャッ
プ部での漏洩が急増し、記録再生効率が大きく低下する
と同時に、狭ギャップを精度良く形成するのが困難であ
る。一方、第６図に示すような薄膜磁気ヘッドでは磁極
およびギャップを薄膜形成技術で積層していく為狭ギャ
ップを高精度で形成する事は容易であるが、回路処理に
必要な信号出力を得る為に薄膜コイ／Ｌ／ＣＩ！６）を
複数ターン形成する必要があり、製造技術的に磁路の構
造が図示したように細長くなる。このような構造ではギ
ャップで再生した信号磁束が強磁性薄膜（２勺からなる
磁路を完全には通らず、途中の薄膜コイル部を通って徐
々に漏洩すると同時に、磁気ヘッドとしての磁路はバル
クタイプに較べると小型にはなるが、コアが薄膜になる
と磁気抵抗の増大があるため、相対的に磁路の小型化が
不十分となって効率が低く、特に狭ギャップ化において
はその影響がより顕著になるという問題点があった。
そこで、本発明は上記のような超高密度の信号磁化を効
率良く記録再生する薄膜磁気ヘッドを提供することを目
的とする。
率良く記録再生する薄膜磁気ヘッドを提供することを目
的とする。
問題点を解決するための手段
本発明は上記問題点を解決するために、基板表面におい
て、略リング状の薄膜磁気検出部を構成する第１の磁路
と、この第１の磁路と鎖交しそれ自身で閉回路を構成す
る第１の薄膜コイルと、この第１の薄膜コイルと鎖交す
る第２の磁路と、この第２の磁路と鎖交し、第１の薄膜
コイルよりも多数回巻回した第２の薄膜コイルとを備え
たものである。
て、略リング状の薄膜磁気検出部を構成する第１の磁路
と、この第１の磁路と鎖交しそれ自身で閉回路を構成す
る第１の薄膜コイルと、この第１の薄膜コイルと鎖交す
る第２の磁路と、この第２の磁路と鎖交し、第１の薄膜
コイルよりも多数回巻回した第２の薄膜コイルとを備え
たものである。
作用
本発明は上記した構成により、信号磁束検出部としての
第１の磁路を極限まで微小化し、狭ギャップ化した場合
でも十分高い電気信号への変換効率を有し、一方低巻数
による絶対出力の不足は第１の薄膜コイル−第２の磁路
−第２の薄膜コイルからなるステップアップトランスで
補なうことができ、従って高密度の信号磁化を効率良く
再生することができる。
第１の磁路を極限まで微小化し、狭ギャップ化した場合
でも十分高い電気信号への変換効率を有し、一方低巻数
による絶対出力の不足は第１の薄膜コイル−第２の磁路
−第２の薄膜コイルからなるステップアップトランスで
補なうことができ、従って高密度の信号磁化を効率良く
再生することができる。
実施例
本発明の第１の実施例を第１図ａ１ｂに示す。
同図において（１）はセラミックス等の非磁性ヘッド基
板で、（２）はその薄膜形成面、（３）は記録媒体対接
面である。薄膜形成面（２）上の記録媒体側前端部には
、第１の下部強磁性薄膜（４）と、第１の上部強磁性薄
膜（５）と、これらの薄膜（４）、（５）間において前
端の磁気ギャップとなるＳ／ＳｉＯ□ 等の非磁性薄膜
（６）、及びその後方で強磁性薄膜（４）、（５）間を
貫通する部分を有する第１の薄膜コイル（７）が積層配
置され、これらの積層部より偏平な折返しリング型の薄
膜磁気検出部（８）が形成されギャップ（６）を含むそ
の前部を記録媒体（１２１に対接するようになっている
。この場合、リング型ヘッドとして動作する為には磁気
ギャップ長を磁極を構成する強磁性薄膜より十分薄くす
る必要がある。上記第１の薄膜コイル（７）はＡ／ 又
はＡｕ等の良導電性金属からなり、それ自身で１ターン
の閉ループを構成しており、上記薄膜磁気検出部（８）
からなる第１の磁路（９）と鎖交している。
板で、（２）はその薄膜形成面、（３）は記録媒体対接
面である。薄膜形成面（２）上の記録媒体側前端部には
、第１の下部強磁性薄膜（４）と、第１の上部強磁性薄
膜（５）と、これらの薄膜（４）、（５）間において前
端の磁気ギャップとなるＳ／ＳｉＯ□ 等の非磁性薄膜
（６）、及びその後方で強磁性薄膜（４）、（５）間を
貫通する部分を有する第１の薄膜コイル（７）が積層配
置され、これらの積層部より偏平な折返しリング型の薄
膜磁気検出部（８）が形成されギャップ（６）を含むそ
の前部を記録媒体（１２１に対接するようになっている
。この場合、リング型ヘッドとして動作する為には磁気
ギャップ長を磁極を構成する強磁性薄膜より十分薄くす
る必要がある。上記第１の薄膜コイル（７）はＡ／ 又
はＡｕ等の良導電性金属からなり、それ自身で１ターン
の閉ループを構成しており、上記薄膜磁気検出部（８）
からなる第１の磁路（９）と鎖交している。
更に薄膜形成面（２）上における上記薄膜磁気検出部（
８）の後方には、第１の薄膜コイル（７）と鎖交する第
２の磁路α６ｊを構成するように前記コイ／１’（７７
の後部を挟入した第２の下部強磁性薄膜αＪと第２の上
部強磁性薄膜側が積層され、それらの前後両端部は互い
に接合されて閉ループを構成している。更に第２の磁路
（１６１と鎖交するように第２の薄膜コイ）Ｖα９が複
数ターン形成され、その前部が第１の薄膜コイｚＬ／（
７］の後部上において強磁性薄膜α３１１（ｔ４１間を
貫通している。これにより第１の薄膜コイ）ｖ （７）
と第２の薄膜コイ／Ｌ’（１５）はそれぞれトランスの
１次、２次巻線としてステップアップトランス部（１７
）を構成する。
８）の後方には、第１の薄膜コイル（７）と鎖交する第
２の磁路α６ｊを構成するように前記コイ／１’（７７
の後部を挟入した第２の下部強磁性薄膜αＪと第２の上
部強磁性薄膜側が積層され、それらの前後両端部は互い
に接合されて閉ループを構成している。更に第２の磁路
（１６１と鎖交するように第２の薄膜コイ）Ｖα９が複
数ターン形成され、その前部が第１の薄膜コイｚＬ／（
７］の後部上において強磁性薄膜α３１１（ｔ４１間を
貫通している。これにより第１の薄膜コイ）ｖ （７）
と第２の薄膜コイ／Ｌ’（１５）はそれぞれトランスの
１次、２次巻線としてステップアップトランス部（１７
）を構成する。
上記の構成において、一連の強磁性薄膜はパーマロイ、
センダスト、アモルファス磁性薄膜等であり、各部に適
した材料が用いられる。例えば、薄膜磁気検出部（８）
に用いられる強磁性薄膜としては記録媒体走行に対し耐
摩耗性の優れているセンダストやアモルファス磁性薄膜
が望ましいし、ステップアップトランス部α力の強磁性
薄膜としては厚膜パターン形成の容易なパーマロイが適
している。なお、記録媒体（１２１において、α＠は磁
性層、ａＤはベークである。
センダスト、アモルファス磁性薄膜等であり、各部に適
した材料が用いられる。例えば、薄膜磁気検出部（８）
に用いられる強磁性薄膜としては記録媒体走行に対し耐
摩耗性の優れているセンダストやアモルファス磁性薄膜
が望ましいし、ステップアップトランス部α力の強磁性
薄膜としては厚膜パターン形成の容易なパーマロイが適
している。なお、記録媒体（１２１において、α＠は磁
性層、ａＤはベークである。
以上の構成を有する薄膜磁気ヘッドの動作は再生時にお
いては、記録媒体（１２＋の磁性層α０）に記録された
信号磁化からの信号磁束を薄膜磁気検出部（８）の磁気
ギャップ部で拾い、第１の磁路（９）に導くととにより
、これと鎖交する第１の薄膜コイ／” （７）にその時
間変化に比例した起電力が発生して同コイルに信号電流
が流れる。この電流がステップアップトランス部（１７
１のトランスを励磁して、トランス２次巻線である第ｚ
の薄膜コイルＵの端子（１７＋にステップアップ比に応
じた起電力を発生し、信号出力電圧が得られる。記録時
は以上の動作の逆過程を経て薄膜磁気検出部（８）のギ
ャップ先端から記録磁界が記録媒体に与えられる。
いては、記録媒体（１２＋の磁性層α０）に記録された
信号磁化からの信号磁束を薄膜磁気検出部（８）の磁気
ギャップ部で拾い、第１の磁路（９）に導くととにより
、これと鎖交する第１の薄膜コイ／” （７）にその時
間変化に比例した起電力が発生して同コイルに信号電流
が流れる。この電流がステップアップトランス部（１７
１のトランスを励磁して、トランス２次巻線である第ｚ
の薄膜コイルＵの端子（１７＋にステップアップ比に応
じた起電力を発生し、信号出力電圧が得られる。記録時
は以上の動作の逆過程を経て薄膜磁気検出部（８）のギ
ャップ先端から記録磁界が記録媒体に与えられる。
このような構造にすることにより、薄膜磁気検出部（８
）の磁路は極限まで小さくすることができ、従ってギャ
ップ長を０．１μｍ前後あるいはそれより小さな超狭ギ
ャップにしても極めて高い効率で記録磁化からの信号磁
束を電気信号に変換することができ、更に高効率のステ
ップアップトランスで回路処理に必要な信号出力を得る
ことができる。本実施例ではトランスを構成する強磁性
薄膜の厚さを厚くし、更に薄膜コイルが鎖交する断面形
状の縦演比ができるだけ等しくなるように設計する事に
より高効率のステップアップトランスを実現することが
できる。・第２図は本発明の第２の実施例を示すもので
ステップアップトランス部（１７１において第２の下部
強磁性薄膜（１３ａ）は第２の薄膜コイｔｖＱ５）の最
外周より広い領域にわたって形成され、第１の薄膜コイ
ｌｖ（刀及び第２の薄膜コイ１ｖ（１５）の後側部は互
いに整合するように配置され、第２の上部強磁性薄膜（
１４ａ）はこれらコイル（７）、０勺の後側部を、下部
強磁性薄膜（１３ａ）と協同して包囲するための下向凹
部罰と第２の薄膜コイル（１９の前側部上面を覆う段差
面啜を有する。したがって第２の上部強磁性薄膜（１４
ａ ）は上記第２の薄膜コイ／Ｌ／（１５）の中心部と
第１および第２の薄膜コイ／ｌ／ （’ｔ＞ 、（１５
）の外側領域で第２の下部強磁性薄膜（１３ａ）と結合
し、外鉄型トランスコアを構成している。このような外
鉄型トランスでは、１次、２次両コイルが接近して電磁
的同軸状に巻回されているため、極めて高効率のトラン
スが実現できる。なお、第２図ａにおいては第２の上部
強磁性薄膜（１４ａ）は図示を省略している。
）の磁路は極限まで小さくすることができ、従ってギャ
ップ長を０．１μｍ前後あるいはそれより小さな超狭ギ
ャップにしても極めて高い効率で記録磁化からの信号磁
束を電気信号に変換することができ、更に高効率のステ
ップアップトランスで回路処理に必要な信号出力を得る
ことができる。本実施例ではトランスを構成する強磁性
薄膜の厚さを厚くし、更に薄膜コイルが鎖交する断面形
状の縦演比ができるだけ等しくなるように設計する事に
より高効率のステップアップトランスを実現することが
できる。・第２図は本発明の第２の実施例を示すもので
ステップアップトランス部（１７１において第２の下部
強磁性薄膜（１３ａ）は第２の薄膜コイｔｖＱ５）の最
外周より広い領域にわたって形成され、第１の薄膜コイ
ｌｖ（刀及び第２の薄膜コイ１ｖ（１５）の後側部は互
いに整合するように配置され、第２の上部強磁性薄膜（
１４ａ）はこれらコイル（７）、０勺の後側部を、下部
強磁性薄膜（１３ａ）と協同して包囲するための下向凹
部罰と第２の薄膜コイル（１９の前側部上面を覆う段差
面啜を有する。したがって第２の上部強磁性薄膜（１４
ａ ）は上記第２の薄膜コイ／Ｌ／（１５）の中心部と
第１および第２の薄膜コイ／ｌ／ （’ｔ＞ 、（１５
）の外側領域で第２の下部強磁性薄膜（１３ａ）と結合
し、外鉄型トランスコアを構成している。このような外
鉄型トランスでは、１次、２次両コイルが接近して電磁
的同軸状に巻回されているため、極めて高効率のトラン
スが実現できる。なお、第２図ａにおいては第２の上部
強磁性薄膜（１４ａ）は図示を省略している。
第３図は本発明の第３の実施例を示すものである。この
実施例ではヘッド基板としてフェライト等の強磁性基板
α印を用い、薄膜磁気検出部（８）の下部磁極とステッ
プアップトランス部αｎの下部強磁性体を上記強磁性基
板０８で構成し、これによって製造工程を減らし、又パ
ターンの段差を小さくして製造を容易にし次ものである
。
実施例ではヘッド基板としてフェライト等の強磁性基板
α印を用い、薄膜磁気検出部（８）の下部磁極とステッ
プアップトランス部αｎの下部強磁性体を上記強磁性基
板０８で構成し、これによって製造工程を減らし、又パ
ターンの段差を小さくして製造を容易にし次ものである
。
この場合、第１及び第２の薄膜コイル（７）、α９、並
びに第１及び第２の上部強磁性体（５）、（１４ａ ）
の配置、形状等は第２図の実施例と同様でおる。
びに第１及び第２の上部強磁性体（５）、（１４ａ ）
の配置、形状等は第２図の実施例と同様でおる。
又、図に示し九非磁性体Ｃ１！Ｊは、少くとも第２の薄
膜コイ／ｌ／■が配置される部分の下の強磁性基板α＆
に形成された溝に充填されたもので、特にステップアッ
プ比率を大きくとる必要がある場合第２の磁路（１６１
が細長くなることによるトランス効率の低下を防ぐもの
である。
膜コイ／ｌ／■が配置される部分の下の強磁性基板α＆
に形成された溝に充填されたもので、特にステップアッ
プ比率を大きくとる必要がある場合第２の磁路（１６１
が細長くなることによるトランス効率の低下を防ぐもの
である。
第４図は本発明の第４の実施例を示すものである。この
実施例ではヘッド基板としてフェライト等の強磁性体（
支））の前端に非磁性体（２１１の領域を設けてなる複
合基板を用いるものである。非磁性体（２１１は記録媒
体（１２１との対接側に配置し、その上に第１及び第２
実施例のものと同様な磁気検出部（８）を構成し、強磁
性体（２■の上には、第３の実施例と同様なステップア
ップトランス部（ｔ７１を配置し、第２の磁路（１６１
の下部を前記強磁性体■で構成したものである。なお、
第４図は第３図と同様、トランス効率を上げるための非
磁性体α９を充填した溝を図示しである。この構成はヘ
ッドが更に小型化した場合、第１の磁路（９）と第２の
磁路（１θがお互いに干渉するのを防ぐものである。複
合基板の製造方法としては、強磁性体■と非磁性体ＣＤ
を接合する方法や強磁性体（２０１に溝を形成し、非磁
性体（２１１を充填する方法等がある。なお、第３の実
施例において、薄膜磁気検出部（８）とステップアップ
トランス部鶴の間の強磁性基板α印に非磁悌７しμｓ〆
非磁性体で充填した溝を形成したり、あるいは強磁性体
基板ａ＆を非磁性体で完全に分離しても同様の効果があ
る。
実施例ではヘッド基板としてフェライト等の強磁性体（
支））の前端に非磁性体（２１１の領域を設けてなる複
合基板を用いるものである。非磁性体（２１１は記録媒
体（１２１との対接側に配置し、その上に第１及び第２
実施例のものと同様な磁気検出部（８）を構成し、強磁
性体（２■の上には、第３の実施例と同様なステップア
ップトランス部（ｔ７１を配置し、第２の磁路（１６１
の下部を前記強磁性体■で構成したものである。なお、
第４図は第３図と同様、トランス効率を上げるための非
磁性体α９を充填した溝を図示しである。この構成はヘ
ッドが更に小型化した場合、第１の磁路（９）と第２の
磁路（１θがお互いに干渉するのを防ぐものである。複
合基板の製造方法としては、強磁性体■と非磁性体ＣＤ
を接合する方法や強磁性体（２０１に溝を形成し、非磁
性体（２１１を充填する方法等がある。なお、第３の実
施例において、薄膜磁気検出部（８）とステップアップ
トランス部鶴の間の強磁性基板α印に非磁悌７しμｓ〆
非磁性体で充填した溝を形成したり、あるいは強磁性体
基板ａ＆を非磁性体で完全に分離しても同様の効果があ
る。
以上の実施例ではステップアップトランス部αＤの上部
強磁性体を、強磁性薄膜として説明したが、微細加工を
施したフェライト等の強磁性体ブロックを接合して構成
しても良い。
強磁性体を、強磁性薄膜として説明したが、微細加工を
施したフェライト等の強磁性体ブロックを接合して構成
しても良い。
本発明の薄膜磁気ヘッドの場合、ギャップ長が短いほど
従来のヘッドに較べて相対的にその効果が顕著に現われ
る。すなわち、ギャップ長が０．２μｍ程度まではバル
クヘッドでもある程度対応が可能であるが、それより短
く、特に０゜１５μｍ以下の極めて短いギャップ長にな
ると製造法的に精度良くギャップを形成するのが困難に
なり効率が急激に低下してくる。これに対して本発明の
薄膜磁気ヘッドでは、磁極を構成する強磁性薄膜及びギ
ャップとなる非磁性薄膜を蒸着やスパッタリング等の薄
膜形成技術で積層していくため、上記のような微小寸法
でも精度的に何ら問題が無い。又、リングヘッドとして
の磁路を極限まで微小化しているため、狭ギャップ化に
よる効率の低下は極めて少なく、ステップアップ部のト
ランス効率も実用的に９０％以上の高効率が十分に得ら
れ、従って極めて短波長の信号でも効率良く再生できる
ものである。
従来のヘッドに較べて相対的にその効果が顕著に現われ
る。すなわち、ギャップ長が０．２μｍ程度まではバル
クヘッドでもある程度対応が可能であるが、それより短
く、特に０゜１５μｍ以下の極めて短いギャップ長にな
ると製造法的に精度良くギャップを形成するのが困難に
なり効率が急激に低下してくる。これに対して本発明の
薄膜磁気ヘッドでは、磁極を構成する強磁性薄膜及びギ
ャップとなる非磁性薄膜を蒸着やスパッタリング等の薄
膜形成技術で積層していくため、上記のような微小寸法
でも精度的に何ら問題が無い。又、リングヘッドとして
の磁路を極限まで微小化しているため、狭ギャップ化に
よる効率の低下は極めて少なく、ステップアップ部のト
ランス効率も実用的に９０％以上の高効率が十分に得ら
れ、従って極めて短波長の信号でも効率良く再生できる
ものである。
とにより、極めてせまいギャップ長の場合でも１ターン
当たりの効率が高く、かつ等価回路的に信号巻線回数が
多くなるため、十分な絶対出力が得られ、従って高密度
の信号磁化を高効率で再生できる薄膜磁気ヘッドを実現
できる。その構成は、実際の製造が容易なものであり、
特に狭ギャップ化に伴なって要求される精度の向上にも
十分対応でき、量産上の効果もきわめて大きい。
当たりの効率が高く、かつ等価回路的に信号巻線回数が
多くなるため、十分な絶対出力が得られ、従って高密度
の信号磁化を高効率で再生できる薄膜磁気ヘッドを実現
できる。その構成は、実際の製造が容易なものであり、
特に狭ギャップ化に伴なって要求される精度の向上にも
十分対応でき、量産上の効果もきわめて大きい。
第１図ａは本発明の第１の実施例における薄膜磁気ヘッ
ドの平面図、同すはａのＡ−Ａ’ 断面図、第２図ａは
本発明の第２の実施例における薄膜磁気ヘッドの平面図
、同すはａのＡ−Ａ’断面図、第３図および第４図は各
々本発明の第３および第４の実施例における薄膜磁気ヘ
ッドの断面図、第５図は従来のパルり型リングヘッドの
平面図、第６図は従来の薄膜磁気ヘッドの断面図である
。 （１）・・・・・ヘッド基板 （６）・・・・・非磁性薄膜 （７）・・・・・第１の薄膜コイル （９）・・・・・第１の磁路 ■・・・・・第２の薄膜コイル α０・・・・・第２の磁路
ドの平面図、同すはａのＡ−Ａ’ 断面図、第２図ａは
本発明の第２の実施例における薄膜磁気ヘッドの平面図
、同すはａのＡ−Ａ’断面図、第３図および第４図は各
々本発明の第３および第４の実施例における薄膜磁気ヘ
ッドの断面図、第５図は従来のパルり型リングヘッドの
平面図、第６図は従来の薄膜磁気ヘッドの断面図である
。 （１）・・・・・ヘッド基板 （６）・・・・・非磁性薄膜 （７）・・・・・第１の薄膜コイル （９）・・・・・第１の磁路 ■・・・・・第２の薄膜コイル α０・・・・・第２の磁路
Claims (6)
- （１）記録媒体対接面に略垂直な薄膜形成面を有するヘ
ッド基板と、前記対接面に整合した非磁性薄膜よりなる
磁気ギャップを有し、少なくとも一方の磁極が強磁性薄
膜であつて、その磁極の厚みが前記非磁性薄膜より厚い
略リング状の薄膜積層型磁気検出部と、前記リング状薄
膜磁気検出部と記録媒体とで構成される第１の磁路と鎖
交し、それ自身で閉回路を構成する第１の薄膜コイルと
、その第１の薄膜コイルと鎖交する上部および下部強磁
性体よりなる薄膜積層型の第２の磁路と、その第２の磁
路と鎖交し前記第１の薄膜コイルよりも多数回巻回した
第２の薄膜コイルとを備え、前記第２の薄膜コイルから
出力を取り出すようにしたことを特徴とする薄膜磁気ヘ
ッド。 - （２）第２の磁路が強磁性薄膜を含む構成であることを
特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の薄膜磁気ヘ
ッド。 - （３）第１の薄膜コイルの閉回路の内側に第２の薄膜コ
イルの中心部を有し、第２の磁路を構成する上部強磁性
体が第２の薄膜コイルのほぼ全体と第１の薄膜コイルの
一部を覆い、第１および第２の薄膜コイルの外側領域と
上記中心部で下部強磁性体と結合し、外鉄型トランスコ
アとしての第２の磁路を構成したことを特徴とする特許
請求の範囲第（１）項又は第（２）項記載の薄膜磁気ヘ
ッド。 - （４）ヘッド基板が強磁性基板であり、上記磁気検出部
の一方の磁極と第２の磁路の下部強磁性体を前記強磁性
基板で構成したことを特徴とする特許請求の範囲第（１
）〜（３）項のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッド。 - （５）ヘッド基板が強磁性体と非磁性体の複合基板であ
り、前記非磁性体部の上に磁気検出部、強磁性体部の上
に第２の磁路を配置し、第２の磁路の下部強磁性体を前
記強磁性基板で構成したことを特徴とする特許請求の範
囲第（１）〜（３）項のいずれか１項に記載の薄膜磁気
ヘッド。 - （６）第２の磁路を構成する強磁性基板の少くとも第２
の薄膜コイルが配置される位置に非磁性体で充填された
溝を有することを特徴とする特許請求の範囲第（４）〜
（５）項のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60159665A JPS6220118A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60159665A JPS6220118A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6220118A true JPS6220118A (ja) | 1987-01-28 |
Family
ID=15698662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60159665A Pending JPS6220118A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6220118A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5721651A (en) * | 1995-08-02 | 1998-02-24 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head and manufacturing method of the same |
-
1985
- 1985-07-18 JP JP60159665A patent/JPS6220118A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5721651A (en) * | 1995-08-02 | 1998-02-24 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head and manufacturing method of the same |
| US5837963A (en) * | 1995-08-02 | 1998-11-17 | Tdk Corporation | Method of manufacturing a thin film magnetic head with identification marks |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5995342A (en) | Thin film heads having solenoid coils | |
| US4546398A (en) | Perpendicular magnetic recording and reproducing head | |
| JPH0522286B2 (ja) | ||
| JP3368247B2 (ja) | 薄膜単磁極磁気記録ヘッド | |
| US4745506A (en) | Magnetic head for perpendicular magnetic recording and reproduction | |
| JPH0327967B2 (ja) | ||
| JPS61175916A (ja) | ３極磁気読み書きヘツド | |
| US5969911A (en) | Inductive/MR composite type thin-film magnetic head | |
| JPH0459685B2 (ja) | ||
| US4443826A (en) | Magneto-resistive effect type magnetic head | |
| JPS6220118A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| US4937227A (en) | Thin-film magnetic head including an inductive transducing element | |
| JPS6059517A (ja) | 垂直磁気記録用記録再生複合ヘッド | |
| JPH01166309A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| US5726842A (en) | Thin-film type magnetic head having an auxiliary magnetic film | |
| JP2563251B2 (ja) | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| JPH0237513A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH05242429A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH0512762B2 (ja) | ||
| JP2878738B2 (ja) | 記録再生兼用薄膜磁気ヘッド | |
| KR100261615B1 (ko) | 복합형 박막 자기헤드 | |
| JPH01201814A (ja) | 超電導磁気ヘッド | |
| JPS6333206B2 (ja) | ||
| EP0913812A1 (en) | Thin-film technology for a head drum | |
| JPH01224908A (ja) | 垂直記録用薄膜滋気ヘッド |