JPS6220140B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6220140B2 JPS6220140B2 JP55157564A JP15756480A JPS6220140B2 JP S6220140 B2 JPS6220140 B2 JP S6220140B2 JP 55157564 A JP55157564 A JP 55157564A JP 15756480 A JP15756480 A JP 15756480A JP S6220140 B2 JPS6220140 B2 JP S6220140B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- glass
- cladding
- porous
- core
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/30—Polarisation maintaining [PM], i.e. birefringent products, e.g. with elliptical core, by use of stress rods, "PANDA" type fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/04—Multi-nested ports
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/04—Multi-nested ports
- C03B2207/06—Concentric circular ports
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/04—Multi-nested ports
- C03B2207/16—Non-circular ports, e.g. square or oval
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/50—Multiple burner arrangements
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はコヒーレント光伝送方式に使用される
偏波保存性の良い光フアイバとして、クラツドの
屈折率分布が互いに90゜の角度で非対称となつて
いる単一偏波単一モード光フアイバの製造方法に
関する。
偏波保存性の良い光フアイバとして、クラツドの
屈折率分布が互いに90゜の角度で非対称となつて
いる単一偏波単一モード光フアイバの製造方法に
関する。
従来、単一偏波単一モード光フアイバの構造と
して、コア形状が楕円のものが提案され、その光
フアイバの製造方法として、MCVD法として知
られた光フアイバ製造技術を適用し、円形断面を
もつ光フアイバ母材を作り、これを平行面で両側
面を研磨し、次いで高温度にして線引きする方法
が用いられていた。
して、コア形状が楕円のものが提案され、その光
フアイバの製造方法として、MCVD法として知
られた光フアイバ製造技術を適用し、円形断面を
もつ光フアイバ母材を作り、これを平行面で両側
面を研磨し、次いで高温度にして線引きする方法
が用いられていた。
この方法は母材の製造方法として、MCVD法
を適用していたので、得られる母材寸法が、光フ
アイバ長として高々10Km程度と短く、また母材の
両側面を機械的手段で研磨するので、得られる母
材表面が研磨剤により微小な傷がつき易いこと
と、母材研磨という工程を含み複雑なものであつ
た。また得られる光フアイバの物性も必ずしも実
際の光伝送方式に適用するには、充分なものが得
られていない現状である。
を適用していたので、得られる母材寸法が、光フ
アイバ長として高々10Km程度と短く、また母材の
両側面を機械的手段で研磨するので、得られる母
材表面が研磨剤により微小な傷がつき易いこと
と、母材研磨という工程を含み複雑なものであつ
た。また得られる光フアイバの物性も必ずしも実
際の光伝送方式に適用するには、充分なものが得
られていない現状である。
本発明の目的は従来の単一偏波単一モード光フ
アイバ製造法がもつ欠点を除去するため、生産性
の高い、低損失かつ長尺の単一偏波単一モード光
フアイバの製造方法を提供することにある。以下
本発明の詳細を実施例に従つて説明する。
アイバ製造法がもつ欠点を除去するため、生産性
の高い、低損失かつ長尺の単一偏波単一モード光
フアイバの製造方法を提供することにある。以下
本発明の詳細を実施例に従つて説明する。
第１図は本発明の一実施例図であつて、１はコ
ア用多孔質母材合成用トーチ、２は第１のクラツ
ド用多孔質ガラス堆積用トーチ、３は第２のクラ
ツド用多孔質ガラス堆積用トーチ、４は多孔質母
材を支持し回転、引き上げる支持棒、５は支持棒
を回転、引き上げるための駆動装置、６は反応用
の余剰ガス、ガラス微粒子を除去、処理する排ガ
ス処理装置、７は反応容器、８はコア用多孔質母
材、９はクラツドを形成した多孔質母材である。
ア用多孔質母材合成用トーチ、２は第１のクラツ
ド用多孔質ガラス堆積用トーチ、３は第２のクラ
ツド用多孔質ガラス堆積用トーチ、４は多孔質母
材を支持し回転、引き上げる支持棒、５は支持棒
を回転、引き上げるための駆動装置、６は反応用
の余剰ガス、ガラス微粒子を除去、処理する排ガ
ス処理装置、７は反応容器、８はコア用多孔質母
材、９はクラツドを形成した多孔質母材である。
これを動作させるには、駆動装置５により回転
数5rpmで回転させた支持棒４上に、トーチ１を
通して６／minの酸素ガス、４／minの水素
ガスとともにArガスで輸送される100c.c.／minの
SiCl4ガス、10c.c.／minのGeCl4、５c.c.／minの
POCl3ガスを流し、トーチ１の前面でH2―O2炎
を形成し、火炎内でSiCl4、GeCl4、POCl3を火炎
加水分解反応させて、ガラス微粒子を形成し、コ
ア用多孔質母材（外径10mm）８を合成する。支持
棒４はコア用多孔質母材の成長速度に合わせて上
方に引上げて、常に母材成長端面は一定に保たれ
る。コア用多孔質母材８の成長に従い、該側面に
トーチ２より５／minの酸素ガス、４／min
の水素ガスとともに、アルゴンガスで輸送された
原料ガス200c.c.／min SiCl4、100c.c.／min BBr3、
または100c.c.／min SiF4ガスを流し、トーチ２の
前面でH2―O2火炎を形成し、火炎内でSiCl4、
BBr3またはSiF4ガスを反応させ、B2O3またはＦ
の添加されたガラス微粒子を合成して堆積させ
る。
数5rpmで回転させた支持棒４上に、トーチ１を
通して６／minの酸素ガス、４／minの水素
ガスとともにArガスで輸送される100c.c.／minの
SiCl4ガス、10c.c.／minのGeCl4、５c.c.／minの
POCl3ガスを流し、トーチ１の前面でH2―O2炎
を形成し、火炎内でSiCl4、GeCl4、POCl3を火炎
加水分解反応させて、ガラス微粒子を形成し、コ
ア用多孔質母材（外径10mm）８を合成する。支持
棒４はコア用多孔質母材の成長速度に合わせて上
方に引上げて、常に母材成長端面は一定に保たれ
る。コア用多孔質母材８の成長に従い、該側面に
トーチ２より５／minの酸素ガス、４／min
の水素ガスとともに、アルゴンガスで輸送された
原料ガス200c.c.／min SiCl4、100c.c.／min BBr3、
または100c.c.／min SiF4ガスを流し、トーチ２の
前面でH2―O2火炎を形成し、火炎内でSiCl4、
BBr3またはSiF4ガスを反応させ、B2O3またはＦ
の添加されたガラス微粒子を合成して堆積させ
る。
また、トーチ２と約90゜の角度に保持したトー
チ３より５／minの酸素ガス、４／minの水
素ガスとともに、アルゴンガスで輸送された200
c.c.／minのSiCl4ガスを流し、火炎内でガラス微粒
子を形成し、コア用多孔質母材側面上に堆積さ
せ、組成の異なるガラス微粒子を堆積させた多孔
質母材９を合成する。トーチ１，２，３の上方か
らみた位置関係は第２図に示すとおりであり、必
要に応じてトーチ２、トーチ３の間の角度は20〜
160゜に変えてもよい。
チ３より５／minの酸素ガス、４／minの水
素ガスとともに、アルゴンガスで輸送された200
c.c.／minのSiCl4ガスを流し、火炎内でガラス微粒
子を形成し、コア用多孔質母材側面上に堆積さ
せ、組成の異なるガラス微粒子を堆積させた多孔
質母材９を合成する。トーチ１，２，３の上方か
らみた位置関係は第２図に示すとおりであり、必
要に応じてトーチ２、トーチ３の間の角度は20〜
160゜に変えてもよい。
コア用多孔質母材８の成長速度は50〜100mm／
hourであるので、クラツド用の多孔質体ガラス
９の形成は、成長に合わせてらせん状に多孔質母
材８の側面に形成され、トーチ２およびトーチ３
から流されるガラス微粒子の組成は、トーチ２か
らＢまたはＦを含むSiO2であるので、該ガラス
微粒子の屈折率は、SiO2の屈折率に比べて0.3％
程度低いものになり、トーチ３からはSiO2と同
じ屈折率のガラス微粒子が形成されることにな
る。
hourであるので、クラツド用の多孔質体ガラス
９の形成は、成長に合わせてらせん状に多孔質母
材８の側面に形成され、トーチ２およびトーチ３
から流されるガラス微粒子の組成は、トーチ２か
らＢまたはＦを含むSiO2であるので、該ガラス
微粒子の屈折率は、SiO2の屈折率に比べて0.3％
程度低いものになり、トーチ３からはSiO2と同
じ屈折率のガラス微粒子が形成されることにな
る。
このようにして得られる多孔質母材９は、上方
に設けるかまたは他に設けた電気炉により脱水透
明化される。コア部の多孔質母材は透明化され、
屈折率がSiO2の屈折率より0.3％程度高いものに
なる。また、透明化されたガラス母材の外径／コ
ア径の比は２程度である。
に設けるかまたは他に設けた電気炉により脱水透
明化される。コア部の多孔質母材は透明化され、
屈折率がSiO2の屈折率より0.3％程度高いものに
なる。また、透明化されたガラス母材の外径／コ
ア径の比は２程度である。
透明化されたガラス母材は、単一モード動作す
る波長（カツトオフ波長λｃ）に合わせて、適当
な内径、外径を有する石英ガラス管でジヤケツト
し、単一偏波単一モード用光フアイバ母材とな
る。
る波長（カツトオフ波長λｃ）に合わせて、適当
な内径、外径を有する石英ガラス管でジヤケツト
し、単一偏波単一モード用光フアイバ母材とな
る。
第３図は本発明の他の実施例図であつて、第１
図に示したものと大略同じであり、新たにコア用
多孔質母材８、第１，第２クラツド合成後の多孔
質母材９上に、トーチ１１から８／minの酸素
ガス、６／minの水素ガスとともに、400c.c.／
minのSiCl4ガスを流し、火炎内で形成される
SiO2ガラス微粒子を堆積させる。最終的な多孔
質母材は電気炉により脱水透明化されて透明母材
となる。
図に示したものと大略同じであり、新たにコア用
多孔質母材８、第１，第２クラツド合成後の多孔
質母材９上に、トーチ１１から８／minの酸素
ガス、６／minの水素ガスとともに、400c.c.／
minのSiCl4ガスを流し、火炎内で形成される
SiO2ガラス微粒子を堆積させる。最終的な多孔
質母材は電気炉により脱水透明化されて透明母材
となる。
第４図は、本発明により合成された透明母材の
長手軸、たとえば第５図ａ〔第１図の実施例によ
り形成された光フアイバ母材を示す。〕のＡ―
A′面で切断した断面でみた屈折率分布を示して
いる。第４図ａはクラツド部がＢまたはＦが添加
されたSiO2でできているので、コア中心部の屈
折率n1、SiO2の屈折率n0より低い屈折率n2が形成
されている。第４図ｂは第４図ａの直角の方向で
の周折率分布を示し、クラツド部はSiO2からで
きているので、屈折率はSiO2と同じn0となつてい
る。また第５図ｂは第３図の実施例により形成さ
れた光フアイバ母材を示している。
長手軸、たとえば第５図ａ〔第１図の実施例によ
り形成された光フアイバ母材を示す。〕のＡ―
A′面で切断した断面でみた屈折率分布を示して
いる。第４図ａはクラツド部がＢまたはＦが添加
されたSiO2でできているので、コア中心部の屈
折率n1、SiO2の屈折率n0より低い屈折率n2が形成
されている。第４図ｂは第４図ａの直角の方向で
の周折率分布を示し、クラツド部はSiO2からで
きているので、屈折率はSiO2と同じn0となつてい
る。また第５図ｂは第３図の実施例により形成さ
れた光フアイバ母材を示している。
以上説明したように、本発明の非軸対称単一モ
ード光フアイバの製造方法は、単一偏波単一モー
ド用光フアイバ母材の一つとして、コアを取り囲
むクラツドの屈折率分布を非対称とする母材合成
を、軸方向に連続に合成するので、得られる母材
の寸法も大きく、長尺かつ低損失な光フアイバを
作製するのに適している。
ード光フアイバの製造方法は、単一偏波単一モー
ド用光フアイバ母材の一つとして、コアを取り囲
むクラツドの屈折率分布を非対称とする母材合成
を、軸方向に連続に合成するので、得られる母材
の寸法も大きく、長尺かつ低損失な光フアイバを
作製するのに適している。
第１図は本発明の一実施例図、第２図はトーチ
１，２，３の位置関係を示す図、第３図は本発明
の他の実施例図、第４図は本発明により合成され
た透明母材の屈折率分布図、第５図ａ，ｂは第１
図および第３図における実施例で形成された母材
を示す図である。 １…コア用多孔質母材合成トーチ、２…第１ク
ラツド用多孔質ガラス堆積用トーチ、３…第２ク
ラツド用多孔質ガラス堆積用トーチ、４…支持
棒、５…駆動装置、６…排ガス処理装置、７…反
応容器、８…コア用多孔質母材、９…多孔質母
材、１１…SiO2用トーチ、１２…反応容器、１
３…SiO2クラツド。
１，２，３の位置関係を示す図、第３図は本発明
の他の実施例図、第４図は本発明により合成され
た透明母材の屈折率分布図、第５図ａ，ｂは第１
図および第３図における実施例で形成された母材
を示す図である。 １…コア用多孔質母材合成トーチ、２…第１ク
ラツド用多孔質ガラス堆積用トーチ、３…第２ク
ラツド用多孔質ガラス堆積用トーチ、４…支持
棒、５…駆動装置、６…排ガス処理装置、７…反
応容器、８…コア用多孔質母材、９…多孔質母
材、１１…SiO2用トーチ、１２…反応容器、１
３…SiO2クラツド。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ガラス形成原料ガスを可燃性ガスと助燃性ガ
スとともにバーナから吹き出し、火炎中でガラス
微粒子を合成し、該ガラス微粒子を回転、上昇す
る出発棒端面上に堆積させ、軸方向にコアとなる
多孔質ガラス体を成長させ、該多孔質母材側面よ
りクラツドとなる多孔質ガラス体を堆積させ、次
いで高温に加熱して透明ガラス化する単一モード
用ガラス母材の製造方法において、該クラツド用
多孔質ガラスを合成、堆積するに際して、該クラ
ツド合成を互いに屈折率の異なる組成のガラス形
成原料を互いに異なるバーナから吹き出し、互い
に90゜の角度をもつて該コア用多孔質母材側面上
に、該クラツド用多孔質ガラス体を合成、堆積す
ることを特徴とする非軸対称単一モード光フアイ
バの製造方法。 ２ 特許請求の範囲第１項記載の非軸対称単一モ
ード光フアイバの製造方法において、コア用多孔
質母材として本質的にSiO2―GeO2からなり、一
つのクラツド用組成としてSiO2にB2O3またはＦ
またはB2O3とＦまたはSiO2にB2O3とP2O5または
ＦとP2O5またはB2O3とＦとP2O3からなり、他の
クラツド用組成として、本質的にSiO2からな
り、かつ該コア母材、クラツド層を合成した後、
その上にSiO2多孔質ガラス層を形成した後、透
明ガラス化することを特徴とする非軸対称単一モ
ード光フアイバの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55157564A JPS5782133A (en) | 1980-11-11 | 1980-11-11 | Preparation of single mode optical fiber of axis unsymmetry |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55157564A JPS5782133A (en) | 1980-11-11 | 1980-11-11 | Preparation of single mode optical fiber of axis unsymmetry |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5782133A JPS5782133A (en) | 1982-05-22 |
| JPS6220140B2 true JPS6220140B2 (ja) | 1987-05-06 |
Family
ID=15652431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55157564A Granted JPS5782133A (en) | 1980-11-11 | 1980-11-11 | Preparation of single mode optical fiber of axis unsymmetry |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5782133A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5717440A (en) * | 1980-07-07 | 1982-01-29 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Manufacture of porous glass base material for single- polarization single-mode optical fiber |
-
1980
- 1980-11-11 JP JP55157564A patent/JPS5782133A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5782133A (en) | 1982-05-22 |
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