JPS62205662A - 電荷転送装置 - Google Patents
電荷転送装置Info
- Publication number
- JPS62205662A JPS62205662A JP4897786A JP4897786A JPS62205662A JP S62205662 A JPS62205662 A JP S62205662A JP 4897786 A JP4897786 A JP 4897786A JP 4897786 A JP4897786 A JP 4897786A JP S62205662 A JPS62205662 A JP S62205662A
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- JP
- Japan
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- conductivity type
- region
- diffused layer
- charge transfer
- capacitance
- Prior art date
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- Pending
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- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 5
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000000771 oncological effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔腫業上の利用分野〕
本発明は電荷転送装置、特に浮遊拡散層法出力増幅器(
以下、F、Jアンプという)を利用した電荷転送装置に
関する。
以下、F、Jアンプという)を利用した電荷転送装置に
関する。
従来、電荷転送装置の信号出力手段としては、転送電荷
を浮遊拡散層に送り込みそれによる浮遊拡散層の電位変
動をソースフォロワ増幅器を通して出力するF−Jアン
プが一般的に用いられている。
を浮遊拡散層に送り込みそれによる浮遊拡散層の電位変
動をソースフォロワ増幅器を通して出力するF−Jアン
プが一般的に用いられている。
上述した浮遊拡散層は、通常一導電型拡散ノψから成シ
、その周囲では高績度の他導電型チャネルストッパ領域
と、底部では他4電型基板との接合によるそれぞれの容
量を有している。上述した浮遊拡散層の電位変動とは即
ちこれら容量の電位変動である。上述した容量は、微小
な転送電荷をも増幅出来る様に小さい方が望ましい。し
、かじ、浮遊拡散層の面積を50%に縮小したとしても
、周囲長は70チ以下には出来ない為、浮遊拡散層の容
量を小さくする事が困難であった。
、その周囲では高績度の他導電型チャネルストッパ領域
と、底部では他4電型基板との接合によるそれぞれの容
量を有している。上述した浮遊拡散層の電位変動とは即
ちこれら容量の電位変動である。上述した容量は、微小
な転送電荷をも増幅出来る様に小さい方が望ましい。し
、かじ、浮遊拡散層の面積を50%に縮小したとしても
、周囲長は70チ以下には出来ない為、浮遊拡散層の容
量を小さくする事が困難であった。
本発明の゛電荷転送装置は、予め充電しておいた一導電
型拡散層領域の接合容−を転送電荷によって放電し、そ
れによる接合容量の電位変動を増幅して出力する信号出
力手段を有[7ており、前記−28電型拡散層領域を他
4憲型チャネルストッパ領域から隔離して設けたことを
特徴とするものである。
型拡散層領域の接合容−を転送電荷によって放電し、そ
れによる接合容量の電位変動を増幅して出力する信号出
力手段を有[7ており、前記−28電型拡散層領域を他
4憲型チャネルストッパ領域から隔離して設けたことを
特徴とするものである。
次に図面を参照して説明する。第1図において。
1は′ば荷転送素子、2は電荷転送素子の最終ゲート電
極、3は一導イ型浮改拡散層、4はリセットゲート電極
、5は一44型拡散層、6は高磯度他4電型チャネルス
トッパ領域、7及び8はソースフォロワ増幅器を構成す
るMOS)ランジスタと抵抗、9は出力端子、10は低
譲度他導寛型領域で浮遊拡散層3はMOS トランジス
タのゲート電極と接続し又いる。これらは全て他導電型
半導体基板の表面にt成されている。
極、3は一導イ型浮改拡散層、4はリセットゲート電極
、5は一44型拡散層、6は高磯度他4電型チャネルス
トッパ領域、7及び8はソースフォロワ増幅器を構成す
るMOS)ランジスタと抵抗、9は出力端子、10は低
譲度他導寛型領域で浮遊拡散層3はMOS トランジス
タのゲート電極と接続し又いる。これらは全て他導電型
半導体基板の表面にt成されている。
動作は次のとおりである。一導電型拡散層5に予め一定
の電圧を印加しておき、リセットゲート電極4をオンす
ると浮遊拡散層3は一専電型拡散ftft 5と同′叱
位に光′屯される。次にリセットゲート電極がオフした
後、電荷転送素子1による転送電荷が最終ゲート′ル極
2の下を通って浮遊拡散層3に転送され、浮遊拡散層3
は放電する。この時の電位変動をMOSトランジスタ7
及び8によυ信号として端子9から出力する。
の電圧を印加しておき、リセットゲート電極4をオンす
ると浮遊拡散層3は一専電型拡散ftft 5と同′叱
位に光′屯される。次にリセットゲート電極がオフした
後、電荷転送素子1による転送電荷が最終ゲート′ル極
2の下を通って浮遊拡散層3に転送され、浮遊拡散層3
は放電する。この時の電位変動をMOSトランジスタ7
及び8によυ信号として端子9から出力する。
本発明によれば、浮遊拡散層3はチャネルストッパ領域
6とは接合を形成していない。従って浮遊拡散層6の容
積は底部における他導電型半導体基板との接合及び周囲
における低曖度他導電m領域10(補導′1型半導体基
板でもよい)との接合によるものであるから非常に小さ
くなシ、微小な転送・電荷に対しても充分に応答出来る
様になる。
6とは接合を形成していない。従って浮遊拡散層6の容
積は底部における他導電型半導体基板との接合及び周囲
における低曖度他導電m領域10(補導′1型半導体基
板でもよい)との接合によるものであるから非常に小さ
くなシ、微小な転送・電荷に対しても充分に応答出来る
様になる。
第1図は本発明の一実施例を示す構成図である。
1・・・・・・電荷転送素子、2・・・・・・最終ゲー
ト電極、3・・・・・・−専電型浮遊拡散層、4・・・
・・・リセットゲート′屯極、5・・・・・・一導電型
拡散層、6・・・・・・昼磯度他導′厄型チャネルスト
、パ領域、7・・・・・・MOSトランジスタ、8・・
・・・・抵抗、9・・・・・・出力端子、10・・・・
・・低磯度他24″tJL型領域。
ト電極、3・・・・・・−専電型浮遊拡散層、4・・・
・・・リセットゲート′屯極、5・・・・・・一導電型
拡散層、6・・・・・・昼磯度他導′厄型チャネルスト
、パ領域、7・・・・・・MOSトランジスタ、8・・
・・・・抵抗、9・・・・・・出力端子、10・・・・
・・低磯度他24″tJL型領域。
Claims (1)
- 電荷転送装置の信号出力手段として、予め充電しておい
た一導電型拡散層領域の接合容量を転送電荷によって放
電し、それによる前記容量の電位変動を増幅して出力す
る電荷転送装置において、前記一導電型拡散層領域は他
導電型チャネルストッパ領域から隔離して設けられてい
る事を特徴とする電荷転送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4897786A JPS62205662A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | 電荷転送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4897786A JPS62205662A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | 電荷転送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62205662A true JPS62205662A (ja) | 1987-09-10 |
Family
ID=12818314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4897786A Pending JPS62205662A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | 電荷転送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62205662A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0555543A (ja) * | 1991-08-27 | 1993-03-05 | Nec Corp | 半導体装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH055179A (ja) * | 1991-01-24 | 1993-01-14 | Fujitsu Ltd | ダイヤモンド膜と混合物層の製造方法および装置 |
-
1986
- 1986-03-05 JP JP4897786A patent/JPS62205662A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH055179A (ja) * | 1991-01-24 | 1993-01-14 | Fujitsu Ltd | ダイヤモンド膜と混合物層の製造方法および装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0555543A (ja) * | 1991-08-27 | 1993-03-05 | Nec Corp | 半導体装置 |
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