JPS6221780B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6221780B2 JPS6221780B2 JP54099521A JP9952179A JPS6221780B2 JP S6221780 B2 JPS6221780 B2 JP S6221780B2 JP 54099521 A JP54099521 A JP 54099521A JP 9952179 A JP9952179 A JP 9952179A JP S6221780 B2 JPS6221780 B2 JP S6221780B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- parts
- halide
- aliphatic group
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 claims description 10
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 claims description 10
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims description 8
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims description 8
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine group Chemical group N1=CCC2=CC=CC=C12 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 4
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 4
- IZXIZTKNFFYFOF-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazolidone Chemical compound O=C1NCCO1 IZXIZTKNFFYFOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- -1 methoxy, ethoxy Chemical group 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D263/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
- C07D263/52—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
- C07D209/04—Indoles; Hydrogenated indoles
- C07D209/08—Indoles; Hydrogenated indoles with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/58—[b]- or [c]-condensed
- C07D209/60—Naphtho [b] pyrroles; Hydrogenated naphtho [b] pyrroles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D263/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
- C07D263/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings
- C07D263/30—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D263/34—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D263/36—One oxygen atom
- C07D263/38—One oxygen atom attached in position 2
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
本発明は、一般式
(式中R1,R2及びAは後記の意味を有し、R3
は水素原子又は脂肪族基を意味する)で表わされ
る化合物をルイス酸及びハロゲン化物の存在下に
加熱することによる、一般式 (式中R,R1及びR2は脂肪族基を意味し、そ
の場合R1とR2は連結していてもよく、環Aはさ
らに置換されていてもよい)で表わされるインド
レニンの製法に関する。 脂肪族基R,R1及びR2はたとえばC1〜C9―ア
ルキル基又はアルケニル基であつて、その例はエ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、ノニル基、アリル基そして特にメチル
基である。 R3は、これらの脂肪族基Rから1個の基CH2が
不足した基に相当し、好ましいR=CH3に対応し
て好ましいR3=Hである。 環Aのための置換基としては、たとえば下記の
ものがあげられる。塩素原子、臭素原子、ニトロ
基、シアン基、C1〜C4―アルコキシカルボニル
基たとえばメトキシー、エトキシーもしくはブト
キシカルボニル基、アルキルスルホニル基たとえ
ばメチルーもしくはエチルスルホニル基、アルキ
ル基たとえばメチル基、エチル基、プロピル基も
しくはブチル基又はアルコキシ基たとえばメトキ
シ基もしくはエトキシ基。環Aは縮合ベンゾ環を
有していてもよい。 反応のためのルイス酸としては、たとえば塩化
錫()、塩化錫()、四塩化チタン、三弗化硼
素、塩化アルミニウム、塩化鉄()そして特に
塩化亜鉛が適している。ハロゲン化物の存在は反
応のために経験上必要である。添加物として適す
る他のハロゲン化物の例はNaCl、KCl、LiCl、
MgCl2、CaCl2、BaCl2、NaBr、NaI、LiI又はKI
である。ハロゲン含有ルイス酸、特に塩化亜鉛を
使用することが優れている。たとえばハロゲン不
含の亜鉛塩をハロゲン化物と組合わせることも同
様に有利である。モル比が約1:0.5ないし1:
4特に1:2の塩化亜鉛/塩化リチウムの組合わ
せは特に優れている。 本発明方法の好ましい実施態様においては、式
の化合物を溶剤の存在又は不在において、ルイ
ス酸及びハロゲン化物と共に150〜250℃特に180
〜220℃の温度に加熱する。式の化合物への反
応は、CO2の脱離下に進行し、通常は2〜20時間
後に終了する。 化合物の1モルに対し、ルイス酸及び場合に
よりハロゲン化物1〜50モル%特に5〜15モル%
使用することが好ましい。 反応のための溶剤としては、特に高沸点の反応
条件下で不活性の化合物が適しており、たとえば
シリコーン油又は特に好ましくは鉱油が用いら
れ、これは反応生成物の分離後に触媒と共に返送
できる。 式の化合物は、次式 の化合物を高められた温度で水を除去しながら次
式 のアミンと反応させることによつて得られる。こ
の式のアミンは過剰に、特に1:1.5ないし
1:3のモル比で使用することが好ましい。 本発明の特に好ましい実施態様においては、ま
ず式の化合物を製造し、これを単離せずにその
まま反応させて式の化合物を製造する。 本発明方式は化合物を製造する場合に特に重要
である。この式中X1は水素原子、塩素原子、メ
チル基又はメトキシ基、X2は水素原子、塩素原
子又はメチル基を意味する。 下記例中の部及び%は、特に指示しない限り重
量に関する。 例 1 アニリン1116部、鉱油400部及び塩化亜鉛80部
の混合物を環流加熱し、これに撹拌しながら4,
4―ジメチル―3―メチレン―ジオキソラノン
1024部及びアニリン372部の混合物を6時間かけ
て滴加する。CO2の発生と並行して水が脱離する
ので、これを反応混合物から連続的に蒸留除去す
る。滴加の終了後、210℃でなお10時間撹拌し、
次いで蒸留すると、2―メチル―3,3―ジメチ
ル―インドレニン992部(理論値の78%)が得ら
れる。 例 2 4,4―ジメチル―3―メチレン―ジオキソラ
ノン128部、アニリン112部、o―キシロール100
部及び塩化亜鉛5部の混合物を、水分離器を利用
して加熱し、12時間で水18部を系外除去する。1
―フエニル―4,4―ジメチル―5―メチレン―
オキサゾリジノン198部(理論値の97.6%)が得
られ、融点は115〜116℃である。 例 3 1―フエニル―4.4ジメチル―5―メチレン―
オキサゾリジノン203部を塩化亜鉛20部とよく混
和したのち、210℃に加熱すると、8時間後に
CO2の脱離が終了する。インドレニン97部(理論
値の61.6%)が得られる。 例 4 1―フエニル―4,4―ジメチル―4―メチレ
ン―オキサゾリジノン203部を塩化亜鉛20部と共
に高沸点鉱油100部に懸濁させ、210℃に8時間加
熱する。蒸留したのちインドレニン113部(理論
値の71.2%)が得られる。 例2と同様にして下記表に示すオキサゾリジノ
ン誘導体が製造される。これらの化合物は例1,
3又は4と同様にして対応するインドレニン誘導
体に変えられる。
は水素原子又は脂肪族基を意味する)で表わされ
る化合物をルイス酸及びハロゲン化物の存在下に
加熱することによる、一般式 (式中R,R1及びR2は脂肪族基を意味し、そ
の場合R1とR2は連結していてもよく、環Aはさ
らに置換されていてもよい)で表わされるインド
レニンの製法に関する。 脂肪族基R,R1及びR2はたとえばC1〜C9―ア
ルキル基又はアルケニル基であつて、その例はエ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、ノニル基、アリル基そして特にメチル
基である。 R3は、これらの脂肪族基Rから1個の基CH2が
不足した基に相当し、好ましいR=CH3に対応し
て好ましいR3=Hである。 環Aのための置換基としては、たとえば下記の
ものがあげられる。塩素原子、臭素原子、ニトロ
基、シアン基、C1〜C4―アルコキシカルボニル
基たとえばメトキシー、エトキシーもしくはブト
キシカルボニル基、アルキルスルホニル基たとえ
ばメチルーもしくはエチルスルホニル基、アルキ
ル基たとえばメチル基、エチル基、プロピル基も
しくはブチル基又はアルコキシ基たとえばメトキ
シ基もしくはエトキシ基。環Aは縮合ベンゾ環を
有していてもよい。 反応のためのルイス酸としては、たとえば塩化
錫()、塩化錫()、四塩化チタン、三弗化硼
素、塩化アルミニウム、塩化鉄()そして特に
塩化亜鉛が適している。ハロゲン化物の存在は反
応のために経験上必要である。添加物として適す
る他のハロゲン化物の例はNaCl、KCl、LiCl、
MgCl2、CaCl2、BaCl2、NaBr、NaI、LiI又はKI
である。ハロゲン含有ルイス酸、特に塩化亜鉛を
使用することが優れている。たとえばハロゲン不
含の亜鉛塩をハロゲン化物と組合わせることも同
様に有利である。モル比が約1:0.5ないし1:
4特に1:2の塩化亜鉛/塩化リチウムの組合わ
せは特に優れている。 本発明方法の好ましい実施態様においては、式
の化合物を溶剤の存在又は不在において、ルイ
ス酸及びハロゲン化物と共に150〜250℃特に180
〜220℃の温度に加熱する。式の化合物への反
応は、CO2の脱離下に進行し、通常は2〜20時間
後に終了する。 化合物の1モルに対し、ルイス酸及び場合に
よりハロゲン化物1〜50モル%特に5〜15モル%
使用することが好ましい。 反応のための溶剤としては、特に高沸点の反応
条件下で不活性の化合物が適しており、たとえば
シリコーン油又は特に好ましくは鉱油が用いら
れ、これは反応生成物の分離後に触媒と共に返送
できる。 式の化合物は、次式 の化合物を高められた温度で水を除去しながら次
式 のアミンと反応させることによつて得られる。こ
の式のアミンは過剰に、特に1:1.5ないし
1:3のモル比で使用することが好ましい。 本発明の特に好ましい実施態様においては、ま
ず式の化合物を製造し、これを単離せずにその
まま反応させて式の化合物を製造する。 本発明方式は化合物を製造する場合に特に重要
である。この式中X1は水素原子、塩素原子、メ
チル基又はメトキシ基、X2は水素原子、塩素原
子又はメチル基を意味する。 下記例中の部及び%は、特に指示しない限り重
量に関する。 例 1 アニリン1116部、鉱油400部及び塩化亜鉛80部
の混合物を環流加熱し、これに撹拌しながら4,
4―ジメチル―3―メチレン―ジオキソラノン
1024部及びアニリン372部の混合物を6時間かけ
て滴加する。CO2の発生と並行して水が脱離する
ので、これを反応混合物から連続的に蒸留除去す
る。滴加の終了後、210℃でなお10時間撹拌し、
次いで蒸留すると、2―メチル―3,3―ジメチ
ル―インドレニン992部(理論値の78%)が得ら
れる。 例 2 4,4―ジメチル―3―メチレン―ジオキソラ
ノン128部、アニリン112部、o―キシロール100
部及び塩化亜鉛5部の混合物を、水分離器を利用
して加熱し、12時間で水18部を系外除去する。1
―フエニル―4,4―ジメチル―5―メチレン―
オキサゾリジノン198部(理論値の97.6%)が得
られ、融点は115〜116℃である。 例 3 1―フエニル―4.4ジメチル―5―メチレン―
オキサゾリジノン203部を塩化亜鉛20部とよく混
和したのち、210℃に加熱すると、8時間後に
CO2の脱離が終了する。インドレニン97部(理論
値の61.6%)が得られる。 例 4 1―フエニル―4,4―ジメチル―4―メチレ
ン―オキサゾリジノン203部を塩化亜鉛20部と共
に高沸点鉱油100部に懸濁させ、210℃に8時間加
熱する。蒸留したのちインドレニン113部(理論
値の71.2%)が得られる。 例2と同様にして下記表に示すオキサゾリジノ
ン誘導体が製造される。これらの化合物は例1,
3又は4と同様にして対応するインドレニン誘導
体に変えられる。
【表】
【表】
例 20
アニリン1116部、鉱油400部、塩化亜鉛80部及
び塩化リチウム55部の混合物を還流加熱し、これ
に4,4―ジメチル―3―メチレン―ジオキソラ
ノン1024部及びアニリン372部の混合物を6時間
かけて添加する。CO2の発生と並行して水が脱離
するので、これをアニリンと一緒に反応混合物か
ら蒸留除去し、冷去後に連続的に作動する水分離
器でアニリンと分別する。アニリンは反応混合物
に返送する。添加の終了後、反応を完結するため
205〜210℃でさらに10時間撹拌する。次いで蒸留
すると、2―メチル―3,3―ジメチル―インド
レニン1102部(理論値の86.6%)が得られる。
び塩化リチウム55部の混合物を還流加熱し、これ
に4,4―ジメチル―3―メチレン―ジオキソラ
ノン1024部及びアニリン372部の混合物を6時間
かけて添加する。CO2の発生と並行して水が脱離
するので、これをアニリンと一緒に反応混合物か
ら蒸留除去し、冷去後に連続的に作動する水分離
器でアニリンと分別する。アニリンは反応混合物
に返送する。添加の終了後、反応を完結するため
205〜210℃でさらに10時間撹拌する。次いで蒸留
すると、2―メチル―3,3―ジメチル―インド
レニン1102部(理論値の86.6%)が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中R1,R2及びAは後記の意味を有し、R3
は水素原子又は脂肪族基を意味する)で表わされ
る化合物をルイス酸及びハロゲン化物の存在下に
加熱することを特徴とする、一般式 (式中R,R1及びR2は脂肪族基を意味し、そ
の場合R1とR2は連結していてもよく、環Aはさ
らに置換されていてもよい)で表わされるインド
レニンの製法。 2 次式 (式中X1は水素原子、塩素原子、メチル基又
はメトキシ基、X2は水素原子、塩素原子又はメ
チル基を示す)で表わされる化合物を製造するこ
とを特徴とする、特許請求の範囲第1項に記載の
方法。 3 ルイス酸及びハロゲン化物として塩化亜鉛/
塩化リチウム混合物を使用することを特徴とす
る、特許請求の範囲第1項に記載の方法。 4 次式 の化合物を次式 (これらの式中R1,R2,R3及びAは後記の意
味を有する)のアミンと反応させて一般式 (式中R1,R2及びAは後記の意味を有し、R3
は水素原子又は脂肪族基を意味する)で表わされ
る化合物を製造し、これを反応混合物から単離す
ることなく、ルイス酸及びハロゲン化物の存在下
に加熱することを特徴とする、一般式 (式中R,R1及びR2は脂肪族基を意味し、そ
の場合R1とR2は連結していてもよく、環Aはさ
らに置換されていてもよい)で表わされるインド
レニンの製法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19782834607 DE2834607A1 (de) | 1978-08-07 | 1978-08-07 | Verfahren zur herstellung von indoleninen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5524176A JPS5524176A (en) | 1980-02-21 |
| JPS6221780B2 true JPS6221780B2 (ja) | 1987-05-14 |
Family
ID=6046441
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9952179A Granted JPS5524176A (en) | 1978-08-07 | 1979-08-06 | Manufacture of indolenine |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4240963A (ja) |
| EP (1) | EP0008097B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5524176A (ja) |
| DE (2) | DE2834607A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5036093A (en) * | 1987-10-09 | 1991-07-30 | Du Pont Merck Pharmaceutical | Aminomethyl oxooxazolidinyl azacycloalkylbenzene derivatives useful as antibacterial agents |
| GB9002834D0 (en) * | 1990-02-08 | 1990-04-04 | Ici America Inc | Compounds |
| DE4112841A1 (de) * | 1991-04-19 | 1992-10-22 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von indoleninen |
| US5288877A (en) * | 1991-07-03 | 1994-02-22 | Ppg Industries, Inc. | Continuous process for preparing indolenine compounds |
| KR950702216A (ko) * | 1992-06-30 | 1995-06-19 | 조셉 씨, 호간 | 옥사졸론 유도물질(oxazlone derived materials) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2304589A1 (de) * | 1973-01-31 | 1974-08-01 | Bayer Ag | 3-alkyloxazolinone-(2) |
| IT1015908B (it) * | 1974-04-05 | 1977-05-20 | Snam Progetti | Procedimento per la sintesi di indolenine alchil sostituite |
| JPS5439073A (en) | 1977-08-29 | 1979-03-24 | Chisso Corp | Preparation of 2,3,3-trimethylindolenine |
-
1978
- 1978-08-07 DE DE19782834607 patent/DE2834607A1/de active Pending
-
1979
- 1979-08-04 EP EP79102806A patent/EP0008097B1/de not_active Expired
- 1979-08-04 DE DE7979102806T patent/DE2961068D1/de not_active Expired
- 1979-08-06 JP JP9952179A patent/JPS5524176A/ja active Granted
- 1979-08-09 US US06/064,981 patent/US4240963A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2834607A1 (de) | 1980-02-28 |
| US4240963A (en) | 1980-12-23 |
| EP0008097A3 (en) | 1980-03-19 |
| EP0008097B1 (de) | 1981-10-21 |
| JPS5524176A (en) | 1980-02-21 |
| EP0008097A2 (de) | 1980-02-20 |
| DE2961068D1 (en) | 1981-12-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH021470A (ja) | スルホニウム化合物およびその製造方法 | |
| JPS6221780B2 (ja) | ||
| EP0805791B1 (en) | Process for the production of 2-(substituted benzoyl)-1,3 cyclohexanediones | |
| EP0108682B1 (en) | Solvent free preparation of diarylthioethers | |
| US2527494A (en) | Process for preparation of orthoformic esters | |
| JPH0713067B2 (ja) | フルフリルアルコ−ル類の製造方法 | |
| US2344459A (en) | Method of preparing i | |
| KR870002019B1 (ko) | 아민유도체의 제조방법 | |
| JP3671281B2 (ja) | トリメチルシリルアジドの製造方法 | |
| US2800485A (en) | Method of making mono- | |
| JPH07196600A (ja) | 2,2’−ジニトロジフエニルジスルフイドの改良された製法 | |
| JPS6049181B2 (ja) | N−アルキルアミンの製造方法 | |
| JP4663105B2 (ja) | 2−スルホニル−4−オキシピリジン誘導体の製造方法 | |
| KR102157528B1 (ko) | 2-아미노니코틴산 벤질에스테르 유도체의 제조 방법 | |
| JP3224414B2 (ja) | インドレニンの製法 | |
| JPH0140833B2 (ja) | ||
| JPH10120674A (ja) | 2−メチル−3−(3,4−メチレンジオキシフェニル)アクリルアルデヒドの製法 | |
| JPH0140832B2 (ja) | ||
| JPS58159483A (ja) | 2−クロルベンズオキサゾ−ルの製造法 | |
| JPS62120350A (ja) | グリコ−ルアミド類の製造方法 | |
| JP3804080B2 (ja) | トリアリールアミン化合物の製造法 | |
| US4545934A (en) | Process for the producton of 4-substituted acetoacetic acid derivatives | |
| JP2689589B2 (ja) | 新規なアルコール類およびその製造法 | |
| JP3625028B2 (ja) | フルオロアセトンの製造方法 | |
| JPS625908B2 (ja) |